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電子發(fā)燒友網(wǎng)>PCB設(shè)計(jì)>如何實(shí)現(xiàn)PCB蝕刻工藝中的均勻性呢?有哪些方法?

如何實(shí)現(xiàn)PCB蝕刻工藝中的均勻性呢?有哪些方法?

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是翻轉(zhuǎn)。翻轉(zhuǎn)晶片進(jìn)行蝕刻工藝的話,蝕刻均勻度最好在1%以下。因此,如果一面進(jìn)行工程,工程時(shí)間將增加一倍。為了減少工序時(shí)間,對(duì)在進(jìn)行頂面工序的同時(shí)進(jìn)行背面工序的方法進(jìn)行了評(píng)價(jià)。本研究旨在制作可安裝在晶片背面的蝕刻
2022-01-05 14:23:201067

KOH硅濕法蝕刻工藝設(shè)計(jì)研究

在本研究中,我們?cè)O(shè)計(jì)了一個(gè)150mm晶片的濕蝕刻槽來(lái)防止硅片的背面蝕刻,并演示了優(yōu)化的工藝配方,使各向異性濕蝕刻的背面沒(méi)有任何損傷,我們還提出了300mm晶圓處理用濕浴槽的設(shè)計(jì),作為一種很有前途的工藝發(fā)展。
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通過(guò)一體式蝕刻工藝來(lái)減少通孔的缺陷

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蝕刻工藝表征實(shí)驗(yàn)報(bào)告研究

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2022-06-10 16:09:335070

半導(dǎo)體器件制造中的蝕刻工藝技術(shù)概述

在半導(dǎo)體器件制造中,蝕刻指的是從襯底上的薄膜選擇性去除材料并通過(guò)這種去除在襯底上產(chǎn)生該材料的圖案的任何技術(shù),該圖案由抗蝕刻工藝的掩模限定,其產(chǎn)生在光刻中有詳細(xì)描述,一旦掩模就位,可以通過(guò)濕法化學(xué)或“干法”物理方法對(duì)不受掩模保護(hù)的材料進(jìn)行蝕刻,圖1顯示了這一過(guò)程的示意圖。
2022-07-06 17:23:522866

KOH硅濕法蝕刻工藝詳解

他方向上的蝕刻速度快,而各向同性蝕刻(如HF)會(huì)向所有方向侵蝕。使用KOH工藝是因?yàn)槠湓谥圃熘械目芍貜?fù)性和均勻性,同時(shí)保持了較低的生產(chǎn)成本。異丙醇(IPA)經(jīng)常添加到溶液中,以改變從{110}壁到{100}壁的選擇性,并提高表面光滑度。 氧化物和氮化物
2022-07-14 16:06:062774

濕法蝕刻工藝的原理

濕法蝕刻工藝的原理是利用化學(xué)溶液將固體材料轉(zhuǎn)化為liquid化合物。由于采用了高選擇性化學(xué)物質(zhì)可以非常精確地適用于每一部電影。對(duì)于大多數(shù)解決方案選擇性大于100:1。
2022-07-27 15:50:252109

刻工藝的基本步驟

傳統(tǒng)的光刻工藝是相對(duì)目前已經(jīng)或尚未應(yīng)用于集成電路產(chǎn)業(yè)的先進(jìn)光刻工藝而言的,普遍認(rèn)為 193nm 波長(zhǎng)的 ArF 深紫外光刻工藝是分水嶺(見(jiàn)下表)。這是因?yàn)?193nm 的光刻依靠浸沒(méi)式和多重曝光技術(shù)的支撐,可以滿足從 0.13um至7nm 共9個(gè)技術(shù)節(jié)點(diǎn)的光刻需要。
2022-10-18 11:20:2913992

光子晶體用硅中圓柱形納米孔的深反應(yīng)離子蝕刻

反應(yīng)離子蝕刻 (RIE)是一種干法蝕刻工藝,與半導(dǎo)體工業(yè)中使用的互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)方法兼容。
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PCB工藝設(shè)計(jì)要考慮的基本問(wèn)題

  一、PCB工藝設(shè)計(jì)要考慮的基本問(wèn)題   PCB工藝設(shè)計(jì)非常重要,它關(guān)系到所設(shè)計(jì)的PCB能否高效率、低成本地制造出來(lái)。新一代的SMT裝聯(lián)工藝,由于其復(fù)雜,要求設(shè)計(jì)者從一開(kāi)始就必須考慮制造
2023-04-25 16:52:12

PCB蝕刻工藝質(zhì)量要求

`請(qǐng)問(wèn)PCB蝕刻工藝質(zhì)量要求哪些?`
2020-03-03 15:31:05

PCB制作工藝的堿性氯化銅蝕刻液-華強(qiáng)pcb

PCB制作工藝的堿性氯化銅蝕刻液1.特性1)適用于圖形電鍍金屬抗蝕層,如鍍覆金、鎳、錫鉛合金,錫鎳合金及錫的印制板的蝕刻。 2)蝕刻速率快,側(cè)蝕小,溶銅能力高,蝕刻速率容易控制。 3)蝕刻液可以
2018-02-09 09:26:59

PCB制程的COB工藝是什么

PCB制程的COB工藝是什么
2023-04-23 10:46:59

PCB制造方法蝕刻

,通過(guò)光化學(xué)法,網(wǎng)印圖形轉(zhuǎn)移或電鍍圖形抗蝕層,然后蝕刻掉非圖形部分的銅箔或采用機(jī)械方式去除不需要部分而制成印制電路板PCB。而減成法主要有雕刻法和蝕刻法兩種。雕刻法是用機(jī)械加工方法除去不需要的銅箔,在單
2018-09-21 16:45:08

PCB制造過(guò)程的5個(gè)重要階段

所需的銅跡線。PCB蝕刻工藝使用高度侵蝕的基于氨的溶液-氯化鐵或鹽酸來(lái)完成。兩種化學(xué)品都被認(rèn)為是經(jīng)濟(jì)和豐富的。要蝕刻您的PCB,您需要按照以下步驟進(jìn)行操作:1.使用您選擇的任何PCB設(shè)計(jì)軟件,電路板
2020-11-03 18:45:50

PCB印制電路蝕刻液的選擇

,間隔寬的導(dǎo)線分布的部位,蝕刻就會(huì)過(guò)度。所以,這就要求設(shè)計(jì)者在電路設(shè)計(jì)時(shí),就應(yīng)首先了解工藝上的可行,盡量做到整個(gè)板面電路圖形均勻分布,導(dǎo)線的粗細(xì)程度應(yīng)盡量相一致。特別是在制作多層印制電路板時(shí),大面積
2018-09-11 15:19:38

PCB印制電路中影響蝕刻液特性的因素

,間隔寬的導(dǎo)線分布的部位,蝕刻就會(huì)過(guò)度。所以,這就要求設(shè)計(jì)者在電路設(shè)計(jì)時(shí),就應(yīng)首先了解工藝上的可行,盡量做到整個(gè)板面電路圖形均勻分布,導(dǎo)線的粗細(xì)程度應(yīng)盡量相一致。特別是在制作多層印制電路板時(shí),大面積銅箔
2013-10-31 10:52:34

PCB外層電路的蝕刻工藝

導(dǎo)線線寬十分精細(xì)時(shí)將會(huì)產(chǎn)生一系列的問(wèn)題。同時(shí),側(cè)腐蝕(見(jiàn)圖4)會(huì)嚴(yán)重影響線條的均勻。   在印制板外層電路的加工工藝,還有另外一種方法,就是用感光膜代替金屬鍍層做抗蝕層。這種方法非常近似于內(nèi)層蝕刻工藝
2018-11-26 16:58:50

PCB斷線產(chǎn)生的原因分析

工序(底片由于劃傷或者垃圾造成的問(wèn)題,包括曝光機(jī)問(wèn)題,曝光局部不足等),顯影工序(顯影不清),蝕刻工序(噴嘴壓力過(guò)大,蝕刻時(shí)間過(guò)長(zhǎng)),電鍍問(wèn)題(電鍍不均勻,或者表面有吸附),操作不當(dāng)(基本是劃傷造成的)。  關(guān)鍵看PCB斷線的形式,所以工藝工程師經(jīng)驗(yàn)技術(shù)很重要。
2013-02-19 17:30:52

PCB板選擇焊接工藝

范圍。  預(yù)熱工藝  在選擇焊接工藝的預(yù)熱主要目的不是減少熱應(yīng)力,而是為了去除溶劑預(yù)干燥助焊劑,在進(jìn)入焊錫波前,使得焊劑正確的黏度。在焊接時(shí),預(yù)熱所帶的熱量對(duì)焊接質(zhì)量的影響不是關(guān)鍵因素,PCB材料
2018-09-10 16:50:02

PCB電鍍鎳工藝

作用的添加劑的一些氨基磺酸鎳鍍液來(lái)鍍制。我們常說(shuō)的PCB鍍鎳光鎳和啞鎳(也稱低應(yīng)力鎳或半光亮鎳),通常要求鍍層均勻細(xì)致,孔隙率低,應(yīng)力低,延展性好的特點(diǎn)。
2011-12-22 08:43:52

PCB堿性蝕刻常見(jiàn)問(wèn)題原因及解決方法

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2012-08-03 10:14:05

PCB堿性蝕刻常見(jiàn)問(wèn)題原因及解決方法

上  解決方法:  (1)基板表面退膜不夠完全,殘膜存在。  (2)全板鍍銅時(shí)致使板面鍍銅層厚度不均勻。  (3)板面用油墨修正或修補(bǔ)時(shí)沾到蝕刻機(jī)的傳動(dòng)的滾輪上。  (4)檢查退膜工藝條件,加以調(diào)整及改進(jìn)
2018-09-19 16:00:15

PCB線路板外層電路的蝕刻工藝詳解

還提出了另外一種方法,就是用感光膜代替金屬鍍層做抗蝕層。這種方法非常近似于內(nèi)層蝕刻工藝,可以參閱內(nèi)層制作工藝蝕刻。  目前,錫或鉛錫是最常用的抗蝕層,用在氨蝕刻劑的蝕刻工藝。氨蝕刻劑是普遍
2018-09-13 15:46:18

PCB選擇焊接工藝難點(diǎn)解析

PCB選擇焊接工藝難點(diǎn)解析在PCB電子工業(yè)焊接工藝越來(lái)越多的廠家開(kāi)始把目光投向選擇焊接,選擇焊接可以在同一時(shí)間內(nèi)完成所有的焊點(diǎn),使生產(chǎn)成本降到最低,同時(shí)又克服了回流焊對(duì)溫度敏感元件造成
2013-09-13 10:25:12

PCB選擇焊接工藝難點(diǎn)解析

PCB電子工業(yè)焊接工藝越來(lái)越多的廠家開(kāi)始把目光投向選擇焊接,選擇焊接可以在同一時(shí)間內(nèi)完成所有的焊點(diǎn),使生產(chǎn)成本降到最低,同時(shí)又克服了回流焊對(duì)溫度敏感元件造成影響的問(wèn)題,選擇焊接還能夠與將來(lái)
2017-10-31 13:40:44

PCB選擇焊接的工藝特點(diǎn)及流程

時(shí),預(yù)熱所帶的熱量對(duì)焊接質(zhì)量的影響不是關(guān)鍵因素,PCB材料厚度、器件封裝規(guī)格及助焊劑類型決定預(yù)熱溫度的設(shè)置。在選擇焊接,對(duì)預(yù)熱不同的理論解 釋:有些工藝工程師認(rèn)為PCB應(yīng)在助焊劑噴涂前,進(jìn)行預(yù)熱
2018-09-14 11:28:22

pcb正負(fù)片工藝之爭(zhēng),還是行業(yè)洗牌?

?正負(fù)片工藝之間究竟有什么區(qū)別?諸位看官聽(tīng)小編慢慢道來(lái)。一、正片和負(fù)片的區(qū)別:正片:沉銅—整板電鍍(加厚8到10um)—貼干膜—圖鍍(在加厚到成品35um)—鍍鉛錫—蝕刻(鍍鉛錫的地方是要保留
2017-08-09 18:43:52

蝕刻簡(jiǎn)介

PCB,電路板,基板上面如何出現(xiàn)電路?這就要蝕刻來(lái)實(shí)現(xiàn)。所謂蝕刻,先在板子外層需保留的銅箔部分,也就是電路的圖形部分,在上面預(yù)鍍一層鉛錫抗蝕層,然后用化學(xué)方式將其余的銅箔腐蝕掉。銅兩層,一層
2017-02-21 17:44:26

《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》CMOS 單元工藝

的(即,所有方向的蝕刻速率都相同)或各向異性的(即,不同方向的蝕刻速率不同),盡管在 CMOS 制造中使用的大多數(shù)濕蝕刻劑是各向同性的。通常,與干蝕刻工藝相比,濕蝕刻劑往往具有高度選擇。濕蝕刻
2021-07-06 09:32:40

《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》GaN 納米線制造和單光子發(fā)射器器件應(yīng)用的蝕刻工藝

`書(shū)籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章:GaN 納米線制造和單光子發(fā)射器器件應(yīng)用的蝕刻工藝編號(hào):JFSJ-21-045作者:炬豐科技網(wǎng)址:http://www.wetsemi.com
2021-07-08 13:11:24

《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》GaN晶體蝕刻的幾何方面和光子應(yīng)用

使用 Wulff-Jaccodine方法預(yù)測(cè)這些結(jié)構(gòu)的凸凹形狀。? 使用濕化學(xué)蝕刻方法了解和預(yù)測(cè) GaN 結(jié)構(gòu)的3D幾何形狀可以實(shí)現(xiàn)將結(jié)構(gòu)(例如納米線、MEMS)和功能(光電子學(xué))相結(jié)合的新應(yīng)用。如有侵權(quán),請(qǐng)聯(lián)系作者刪除
2021-07-08 13:09:52

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、135°C 以上溶于乙二醇的 KOH、180°C 溶于乙二醇的 NaOH。文章全部詳情,請(qǐng)加V獲取:hlknch / xzl1019^晶體蝕刻工藝兩個(gè)蝕刻步驟的第一個(gè)用于確定蝕刻深度,它可以通過(guò)幾種
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,可用作常用 KKI 蝕刻劑的替代品。通過(guò)改變?nèi)芤?b class="flag-6" style="color: red">中 HCl 的含量,可以實(shí)現(xiàn)對(duì) MESA 形成有用的非選擇蝕刻和 InGaP 對(duì) GaAs 的強(qiáng)選擇蝕刻。這種解決方案的一個(gè)重要優(yōu)點(diǎn)是它不會(huì)攻擊
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《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》微鏡角度依賴蝕刻劑選擇

書(shū)籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章:微鏡角度依賴蝕刻劑選擇編號(hào):JFKJ-21-047作者:炬豐科技網(wǎng)址:http://www.wetsemi.com/index.html抽象的:在為微光學(xué)創(chuàng)建
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關(guān)于PCB/FPC鍍銅工藝問(wèn)題

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2022-11-22 14:45:08

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PCB外層電路什么是蝕刻工藝

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平衡PCB層疊設(shè)計(jì)的方法

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晶片全面曝光的方法,使單一晶片上可以獲得更多的芯片(chip)。如此一來(lái),雖然產(chǎn)率得以提高,但同時(shí)也制造一些工藝處理問(wèn)題。特別在對(duì)硅晶片蝕刻深凹槽(deeptrench)工藝方面。  由于采用全面曝光
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有關(guān)pcb走線過(guò)程銳角造成的Acid Traps問(wèn)題討論

的問(wèn)題,大多數(shù)電路板都是使用蝕刻工藝進(jìn)行生產(chǎn)的,工藝流程中就會(huì)出現(xiàn)因?yàn)殇J角區(qū)域較為狹窄而導(dǎo)致腐蝕化學(xué)物質(zhì)殘留,最后導(dǎo)致Acid Traps現(xiàn)象。那么銳角不可以,直角是否可以,這個(gè)問(wèn)題很多大佬們?cè)诟鞔笳搲懻摗€(gè)人認(rèn)為如果沒(méi)有特殊要求,走線時(shí)用鈍角既美觀安全,除非部分要求,最好不要使用直角。
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2013-09-23 14:32:50

濕法蝕刻工藝

濕法蝕刻工藝的原理是使用化學(xué)溶液將固體材料轉(zhuǎn)化為液體化合物。選擇非常高,因?yàn)樗没瘜W(xué)藥品可以非常精確地適應(yīng)各個(gè)薄膜。對(duì)于大多數(shù)解決方案,選擇大于100:1。
2021-01-08 10:12:57

詳談PCB蝕刻工藝

。  在印制板外層電路的加工工藝,還有另外一種方法,就是用感光膜代替金屬鍍層做抗蝕層。這種方法非常近似于內(nèi)層蝕刻工藝,可以參閱內(nèi)層制作工藝蝕刻。  目前,錫或鉛錫是最常用的抗蝕層,用在氨蝕刻劑的蝕刻工藝
2018-09-19 15:39:21

PCB外層電路的蝕刻工藝

一.概述      目前,印刷電路板(PCB)加工的典型工藝采用"圖
2006-04-16 21:23:42903

多層PCB壓機(jī)溫度和壓力均勻性測(cè)試方法

多層PCB壓機(jī)溫度和壓力均勻性測(cè)試方法   多層PCB加工過(guò)程中必不可少的就是使用到壓合機(jī),而壓合機(jī)壓力的均勻性和溫度的均勻
2009-11-19 08:44:06997

超細(xì)線蝕刻工藝技術(shù)介紹

超細(xì)線蝕刻工藝技術(shù)介紹  目前,集成度呈越來(lái)越高的趨勢(shì),許多公司紛紛開(kāi)始SOC技術(shù),但SOC并不能解決所有系統(tǒng)集成的問(wèn)題,因
2010-03-30 16:43:081181

深度解析PCB蝕刻工藝過(guò)程

印刷線路板從光板到顯出線路圖形的過(guò)程是一個(gè)比較復(fù)雜的物理和化學(xué)反應(yīng)的過(guò)程,本文就對(duì)其最后的一步--蝕刻進(jìn)行解析。目前,印刷電路板(PCB)加工的典型工藝采用"圖形電鍍法"。即先在板子外層需保留的銅箔部分上,也就是電路的圖形部分上預(yù)鍍一層鉛錫抗蝕層,然后用化學(xué)方式將其余的銅箔腐蝕掉,稱為蝕刻
2017-12-26 08:57:1628232

PCB蝕刻工藝原理_pcb蝕刻工藝流程詳解

本文首先介紹了PCB蝕刻工藝原理和蝕刻工藝品質(zhì)要求及控制要點(diǎn),其次介紹了PCB蝕刻工藝制程管控參數(shù)及蝕刻工藝品質(zhì)確認(rèn),最后闡述了PCB蝕刻工藝流程詳解,具體的跟隨小編一起來(lái)了解一下吧。
2018-05-07 09:09:0940469

PCB蝕刻工藝你了解嗎

 印刷線路板從光板到顯出線路圖形的過(guò)程是一個(gè)比較復(fù)雜的物理和化學(xué)反應(yīng)的過(guò)程,本文就對(duì)其最后的一步--蝕刻進(jìn)行解析。目前,印刷電路板(PCB)加工的典型工藝采用“圖形電鍍法”。即先在板子外層需保留的銅箔部分上,也就是電路的圖形部分上預(yù)鍍一層鉛錫抗蝕層,然后用化學(xué)方式將其余的銅箔腐蝕掉,稱為蝕刻
2019-08-16 11:31:004646

PCB生產(chǎn)過(guò)程中的蝕刻工藝技術(shù)解析

蝕刻過(guò)程是PCB生產(chǎn)過(guò)程中基本步驟之一,簡(jiǎn)單的講就是基底銅被抗蝕層覆蓋,沒(méi)有被抗蝕層保護(hù)的銅與蝕刻劑發(fā)生反應(yīng),從而被咬蝕掉,最終形成設(shè)計(jì)線路圖形和焊盤的過(guò)程。當(dāng)然,蝕刻原理用幾句話就可以輕而易舉
2019-07-23 14:30:313894

PCB線路板外層電路制作的蝕刻工藝解析

在印制板外層電路的加工工藝中,還有另外一種方法,就是用感光膜代替金屬鍍層做抗蝕層。這種方法非常近似于內(nèi)層蝕刻工藝,可以參閱內(nèi)層制作工藝中的蝕刻。目前,錫或鉛錫是最常用的抗蝕層,用在氨性蝕刻劑的蝕刻工藝
2019-07-10 15:11:352708

如何提高線路板蝕刻工藝的質(zhì)量

要注意的是,這時(shí)的板子上面有兩層銅。在外層蝕刻工藝中僅僅有一層銅是必須被全部蝕刻掉的,其余的將形成最終所需要的電路。這種類型的圖形電鍍,其特點(diǎn)是鍍銅層僅存在于鉛錫抗蝕層的下面。另外一種工藝方法是整個(gè)
2019-07-08 14:51:342430

印刷電路板PCB蝕刻工藝介紹

目前,印刷電路板(PCB)加工的典型工藝采用"圖形電鍍法"。即先在板子外層需保留的銅箔部分上,也就是電路的圖形部分上預(yù)鍍一層鉛錫抗蝕層,然后用化學(xué)方式將其余的銅箔腐蝕掉,稱為蝕刻
2019-07-01 16:33:532423

PCB蝕刻工藝過(guò)程中如何把控蝕刻質(zhì)量

印刷線路板從光板到顯出線路圖形的過(guò)程是一個(gè)比較復(fù)雜的物理和化學(xué)反應(yīng)的過(guò)程,本文就對(duì)其最后的一步——蝕刻進(jìn)行解析。
2019-05-31 16:14:093307

印刷電路板PCB蝕刻工藝介紹

目前,印刷電路板(PCB)加工的典型工藝采用"圖形電鍍法"。即先在板子外層需保留的銅箔部分上,也就是電路的圖形部分上預(yù)鍍一層鉛錫抗蝕層,然后用化學(xué)方式將其余的銅箔腐蝕掉,稱為蝕刻
2019-07-06 10:13:218077

線路板外層電路的蝕刻工藝

目前,印刷電路板(PCB)加工的典型工藝采用”圖形電鍍法”。即先在板子外層需保留的銅箔部分上,也就是電路的圖形部分上預(yù)鍍一層鉛錫抗蝕層,然后用化 學(xué)方式將其余的銅箔腐蝕掉,稱為蝕刻
2019-07-09 10:09:343924

PCB蝕刻工藝說(shuō)明

PCB蝕刻工藝用傳統(tǒng)的化學(xué)蝕刻過(guò)程腐蝕未被保護(hù)的區(qū)域。有點(diǎn)像是挖溝,是一種可行但低效的方法。在蝕刻過(guò)程中也分正片工藝和負(fù)片工藝之分,正片工藝使用固定的錫保護(hù)線路,負(fù)片工藝則是使用干膜或者濕膜來(lái)保護(hù)線路。用傳統(tǒng)的蝕刻方法到線或焊盤的邊緣是畸形的。
2020-07-12 10:26:563060

淺談PCB設(shè)計(jì)上的光刻膠蝕刻

大型PCB制造商使用電鍍和蝕刻工藝在板上生產(chǎn)走線。對(duì)于電鍍,生產(chǎn)過(guò)程始于覆蓋外層板基板的電鍍銅。 光刻膠蝕刻也用作生產(chǎn)印刷電路板的另一個(gè)關(guān)鍵步驟。在蝕刻過(guò)程中保護(hù)所需的銅需要在去除不希望有的銅和在
2020-12-31 11:38:583561

淺談pcb蝕刻制程及蝕刻因子

1、 PCB蝕刻介紹 蝕刻是使用化學(xué)反應(yīng)而移除多余材料的技術(shù)。PCB線路板生產(chǎn)加工對(duì)蝕刻質(zhì)量的基本要求就是能夠?qū)⒊刮g層下面以外的所有銅層完全去除干凈,僅此而已。在PCB制造過(guò)程中,如果要精確地
2021-04-12 13:48:0031008

多層PCB內(nèi)層的光刻工藝每個(gè)階段需要做什么

多層PCB內(nèi)層的光刻工藝包括幾個(gè)階段,接下來(lái)詳細(xì)為大家介紹多層PCB內(nèi)層的光刻工藝每個(gè)階段都需要做什么。 PART.1 在第一階段,內(nèi)層穿過(guò)化學(xué)制劑生產(chǎn)線。銅表面會(huì)出現(xiàn)粗糙度,這對(duì)于光致抗蝕劑的最佳
2021-09-05 10:00:162160

晶圓濕式用于硅蝕刻浴晶圓蝕刻

引言 了解形成MEMS制造所需的三維結(jié)構(gòu),需要SILICON的各向異性蝕刻,此時(shí)使用的濕式蝕刻工藝考慮的事項(xiàng)包括蝕刻率、長(zhǎng)寬比、成本、環(huán)境污染等[1]。用于硅各向異性濕式蝕刻 溶液有KOH
2021-12-23 09:55:35484

半導(dǎo)體晶片濕蝕工藝的浮式數(shù)值分析

本研究透過(guò)數(shù)值解析,將實(shí)驗(yàn)上尋找硅晶片最佳流動(dòng)的方法,了解目前蝕刻階段流動(dòng)的形式,并尋求最佳晶片蝕刻條件,蝕刻工藝效率低利用氣泡提高濕法蝕刻工藝效果,用實(shí)驗(yàn)的方法尋找最佳流動(dòng),通過(guò)數(shù)值分析模擬了利用
2022-01-19 17:11:32340

關(guān)于濕法蝕刻工藝對(duì)銅及其合金蝕刻劑的評(píng)述

濕法蝕刻工藝已經(jīng)廣泛用于生產(chǎn)各種應(yīng)用的微元件。這些過(guò)程簡(jiǎn)單易操作。選擇合適的化學(xué)溶液(即蝕刻劑)是濕法蝕刻工藝中最重要的因素。它影響蝕刻速率和表面光潔度。銅及其合金是各種工業(yè),特別是電子工業(yè)的重要
2022-01-20 16:02:241860

石英單晶等離子體蝕刻工藝參數(shù)的優(yōu)化

本文對(duì)單晶石英局部等離子體化學(xué)刻蝕工藝的主要工藝參數(shù)進(jìn)行了優(yōu)化。在射頻(射頻,13.56兆赫)放電激勵(lì)下,在CF4和H2的氣體混合物中進(jìn)行蝕刻。采用田口矩陣法的科學(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)來(lái)檢驗(yàn)腔室壓力、射頻發(fā)生器
2022-02-17 15:25:421804

濕法蝕刻工藝的作用:可有效去除金屬氧化物

的氧化鎳未完全去除造成的。這項(xiàng)研究對(duì)這些多余金屬缺陷的成分進(jìn)行了分類和確定,評(píng)估了推薦的去除氧化鎳的濕蝕刻方法,最后提出了一種濕蝕刻工藝,該工藝將快速去除缺陷,同時(shí)繼續(xù)保持所需的半各向異性蝕刻輪廓,這是大多數(shù)金屬
2022-02-28 14:59:351780

晶圓濕式用于硅蝕刻浴晶圓蝕刻

了解形成MEMS制造所需的三維結(jié)構(gòu),需要SILICON的各向異性蝕刻,此時(shí)使用的濕式蝕刻工藝考慮的事項(xiàng)包括蝕刻率、長(zhǎng)寬比、成本、環(huán)境污染等[1]。用于硅各向異性濕式蝕刻
2022-03-11 13:57:43336

二氧化硅薄膜蝕刻速率均勻性的比較

半導(dǎo)體生產(chǎn)過(guò)程中,蝕刻工藝是非常重要的工藝蝕刻工藝中使用的方法通常有batch式和枯葉式兩種。Batch式是用傳統(tǒng)的方法,在藥液bath中一次性加入數(shù)十張晶片進(jìn)行處理的方法。但是隨著半導(dǎo)體技術(shù)
2022-03-14 10:50:47475

一種改進(jìn)的各向異性濕法蝕刻工藝

我們開(kāi)發(fā)了一種改進(jìn)的各向異性濕法蝕刻工藝,通過(guò)在晶片上使用單個(gè)蝕刻掩模來(lái)制造各種硅微結(jié)構(gòu),這些微結(jié)構(gòu)具有圓形凹角和尖銳凸角、用于芯片隔離的凹槽、蜿蜒的微流體通道、具有彎曲V形凹槽的臺(tái)面結(jié)構(gòu)以及具有
2022-03-14 10:51:42581

硅和二氧化硅的濕化學(xué)蝕刻工藝

硅是微電子學(xué)和微細(xì)力學(xué)中最常用的襯底材料。它不僅可用作無(wú)源襯底,也可用作電子或機(jī)械元件的有源材料。如本章所述,所需的圖案也可以通過(guò)濕化學(xué)蝕刻方法來(lái)實(shí)現(xiàn)
2022-03-23 14:17:161811

通過(guò)光敏抗蝕劑的濕蝕刻劑滲透

的各向同性濕法蝕刻條件相比,由于非常高的各向異性,反應(yīng)離子蝕刻工藝能夠實(shí)現(xiàn)更好的蝕刻尺寸控制。盡管如此,當(dāng)使用敏感材料(即柵極氧化物[1])或當(dāng)尺寸放寬時(shí),使用光敏抗蝕劑的濕法圖案化仍然是參考工藝。本文研究了整個(gè)濕法腐蝕過(guò)程中抗蝕劑保護(hù)的完整性。給出了確保這種保護(hù)的一些提示,以及評(píng)估這種保護(hù)的相關(guān)新方法
2022-04-06 13:29:19666

用于硅片減薄的濕法蝕刻工藝控制

薄晶片已成為各種新型微電子產(chǎn)品的基本需求。 需要更薄的模具來(lái)適應(yīng)更薄的包裝。 使用最后的濕蝕刻工藝在背面變薄的晶圓與標(biāo)準(zhǔn)的機(jī)械背面磨削相比,應(yīng)力更小。 硅的各向同性濕蝕刻通常是用硝酸和氫氟酸的混合物
2022-04-07 14:46:33751

操作參數(shù)對(duì)蝕刻速率和均勻性的影響

本研究的目的是開(kāi)發(fā)和應(yīng)用一個(gè)數(shù)值模型來(lái)幫助設(shè)計(jì)和操作CDE工具,為此,我們編制了第一個(gè)已知的NF3/02氣體的等離子體動(dòng)力學(xué)模型,通過(guò)與實(shí)驗(yàn)蝕刻速率數(shù)據(jù)的比較,實(shí)現(xiàn)了模型驗(yàn)證。此外,該模型通過(guò)改變
2022-04-08 16:44:54893

硅晶片的化學(xué)蝕刻工藝研究

拋光的硅片是通過(guò)各種機(jī)械和化學(xué)工藝制備的。首先,通過(guò)切片將單晶硅錠切成圓盤(晶片),然后進(jìn)行稱為研磨的平整過(guò)程,該過(guò)程包括使用研磨漿擦洗晶片。 在先前的成形過(guò)程中引起的機(jī)械損傷通過(guò)蝕刻是本文的重點(diǎn)。在準(zhǔn)備用于器件制造之前,蝕刻之后是各種單元操作,例如拋光和清潔。
2022-04-28 16:32:37668

金屬蝕刻殘留物對(duì)蝕刻均勻性的影響

引言 我們?nèi)A林科納討論了一種高速率各向異性蝕刻工藝,適用于等離子體一次蝕刻一個(gè)晶片。結(jié)果表明,蝕刻速率主要取決于Cl濃度,而與用于驅(qū)動(dòng)放電的rf功率無(wú)關(guān)。幾種添加劑用于控制蝕刻過(guò)程。加入BCl以開(kāi)始
2022-06-13 14:33:14904

通過(guò)光刻和蝕刻工藝順序提高整個(gè)晶圓的關(guān)鍵尺寸均勻性(1)

新的方法,通過(guò)光刻和刻蝕工藝順序來(lái)提高跨晶片柵極CD的均勻性。我們?nèi)A林科納所提出的方法是通過(guò)優(yōu)化整個(gè)晶片曝光后烘烤(PEB)溫度曲線來(lái)補(bǔ)償光刻工藝順序中的上游和下游系統(tǒng)CD變化成分。更準(zhǔn)確地說(shuō),我們首先構(gòu)建了一個(gè)溫度-偏移模型,該模型將
2022-06-22 14:58:341301

一種穿過(guò)襯底的通孔蝕刻工藝

通過(guò)使用多級(jí)等離子體蝕刻實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)、用于蝕刻后光致抗蝕劑去除的替代方法,以及開(kāi)發(fā)自動(dòng)蝕刻后遮蓋物去除順序;一種可再現(xiàn)的基板通孔處理方法被集成到大批量GaAs制造中。對(duì)于等離子體蝕刻部分,使用光學(xué)顯微鏡
2022-06-23 14:26:57516

GaN的晶體濕化學(xué)蝕刻工藝詳解

目前,大多數(shù)III族氮化物的加工都是通過(guò)干法等離子體蝕刻完成的。1,2干法蝕刻有幾個(gè)缺點(diǎn),包括產(chǎn)生離子誘導(dǎo)損傷3和難以獲得激光器所需的光滑蝕刻側(cè)壁。干法蝕刻產(chǎn)生的側(cè)壁的典型均方根(rms)粗糙度約為
2022-07-12 17:19:243454

蝕刻工藝 蝕刻過(guò)程分類的課堂素材4(上)

蝕刻工藝 蝕刻過(guò)程分類
2022-08-08 16:35:34736

用于硅片減薄的濕法蝕刻工藝控制的研究

薄晶片已成為各種新型微電子產(chǎn)品的基本需求。更薄的模具需要裝進(jìn)更薄的包裝中。與標(biāo)準(zhǔn)的機(jī)械背磨相比,在背面使用最終的濕法蝕刻工藝而變薄的晶片的應(yīng)力更小。
2022-08-26 09:21:362363

什么是金屬蝕刻蝕刻工藝

金屬蝕刻是一種通過(guò)化學(xué)反應(yīng)或物理沖擊去除金屬材料的技術(shù)。金屬蝕刻技術(shù)可分為濕蝕刻和干蝕刻。金屬蝕刻由一系列化學(xué)過(guò)程組成。不同的蝕刻劑對(duì)不同的金屬材料具有不同的腐蝕特性和強(qiáng)度。
2023-03-20 12:23:433172

PCB加工的蝕刻工藝

印刷線路板從光板到顯出線路圖形的過(guò)程是一個(gè)比較復(fù)雜的物理和化學(xué)反應(yīng)的過(guò)程,本文就對(duì)其最后的一步--蝕刻進(jìn)行解析。目前,印刷電路板(PCB)加工的典型工藝采用"圖形電鍍法"。即先在
2023-03-29 10:04:07886

PCB主板不同顏色代表什么意思?

其實(shí)不同顏色的PCB,它們的制造的材料、制造工序都是一樣的,包括敷銅層的位置也是一樣的,經(jīng)過(guò)蝕刻工藝后就在PCB上留下了最終的布線,例如下圖這塊剛經(jīng)過(guò)蝕刻工藝PCB,敷銅走線就是原本的銅色,而PCB基板略顯微黃色。
2023-05-09 10:02:431699

如何在蝕刻工藝中實(shí)施控制?

蝕刻可能是濕制程階段最復(fù)雜的工藝,因?yàn)橛泻芏嘁蛩貢?huì)影響蝕刻速率。如果不保持這些因素的穩(wěn)定,蝕刻率就會(huì)變化,因而影響產(chǎn)品質(zhì)量。如果希望利用一種自動(dòng)化方法來(lái)維護(hù)蝕刻化學(xué),以下是你需要理解的基本概念。
2023-05-19 10:27:31575

淺談蝕刻工藝開(kāi)發(fā)的三個(gè)階段

納米片工藝流程中最關(guān)鍵的蝕刻步驟包括虛擬柵極蝕刻、各向異性柱蝕刻、各向同性間隔蝕刻和通道釋放步驟。通過(guò)硅和 SiGe 交替層的剖面蝕刻是各向異性的,并使用氟化化學(xué)。優(yōu)化內(nèi)部間隔蝕刻(壓痕)和通道釋放步驟,以極低的硅損失去除 SiGe。
2023-05-30 15:14:111071

蝕刻技術(shù)蝕刻工藝蝕刻產(chǎn)品簡(jiǎn)介

關(guān)鍵詞:氫能源技術(shù)材料,耐高溫耐酸堿耐濕膠帶,高分子材料,高端膠粘劑引言:蝕刻(etching)是將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。蝕刻技術(shù)可以分為濕蝕刻(wetetching)和干蝕刻
2023-03-16 10:30:163504

半導(dǎo)體制造工藝之光刻工藝詳解

半導(dǎo)體制造工藝之光刻工藝詳解
2023-08-24 10:38:541221

pcb蝕刻是什么意思

 在印制板外層電路的加工工藝中,還有另外一種方法,就是用感光膜代替金屬鍍層做抗蝕層。這種方法非常近似于內(nèi)層蝕刻工藝,可以參閱內(nèi)層制作工藝中的蝕刻
2023-09-06 09:36:57811

淺談PCB蝕刻質(zhì)量及先期存在的問(wèn)題

要注意的是,蝕刻時(shí)的板子上面有兩層銅。在外層蝕刻工藝中僅僅有一層銅是必須被全部蝕刻掉的,其余的將形成最終所需要的電路。這種類型的圖形電鍍,其特點(diǎn)是鍍銅層僅存在于鉛錫抗蝕層的下面。
2023-09-07 14:41:12474

PCB線路板的蝕刻工藝需要注意哪些細(xì)節(jié)問(wèn)題

一站式PCBA智造廠家今天為大家講講pcb打樣蝕刻工藝注意事項(xiàng)有哪些?PCB打樣蝕刻工藝注意事項(xiàng)。PCB打樣中,在銅箔部分預(yù)鍍一層鉛錫防腐層,保留在板外層,即電路的圖形部分,然后是其余的銅箔被化學(xué)方法腐蝕,稱為蝕刻
2023-09-18 11:06:30670

PCB蝕刻工藝及過(guò)程控制

另外一種工藝方法是整個(gè)板子上都鍍銅,感光膜以外的部分僅僅是錫或鉛錫抗蝕層。這種工藝稱為“全板鍍銅工藝“。與圖形電鍍相比,全板鍍銅的缺點(diǎn)是板面各處都要鍍兩次銅而且蝕刻時(shí)還必須都把它們腐蝕掉。
2023-12-06 15:03:45263

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