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解析光刻芯片掩模的核心作用與設計
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什么是掩模版？掩模版（光罩MASK）—半導體芯片的母板設計
掩模版（Photomask）又稱光罩、光掩模、光刻掩模版、掩膜版、掩膜板等，是光刻工藝中關鍵部件之一，是下游行業產品制造過程中的圖形“底片”轉移用的高精密工具
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`集成電路（IC）光掩模，又稱光罩、掩膜版、光刻掩膜版、掩模版等，是下游行業產品制造過程中的圖形“底片”轉移用的高精密工具，是承載圖形設計和工藝技術等知識產權信息的載體。掩膜版用于下游電子元器件
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光刻技術原理及應用
被顯影液溶解，獲得的圖形與掩模版圖形互補。負性抗蝕劑的附著力強、靈敏度高、顯影條件要求不嚴，適于低集成度的器件的生產。 半導體器件和集成電路對光刻曝光技術提出了越來越高的要求，在單位面積上要求完善傳遞
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2020-07-07 14:22:55
光刻膠
MEMS、芯片封裝和微加工等領域。目前，直接采用 SU8光刻膠來制備深寬比高的微結構與微零件已經成為微加工領域的一項新技術。在微流控芯片加工中，SU-8主要用于快速模塑法加工PDMS微流控芯片。運用
2018-07-12 11:57:08
光刻膠在集成電路制造中的應用
文章編號：1003-353X(2005)06-0032-051 引言作為微電子技術核心的集成電路制造技術是電子工業的基礎，其發展更新的速度是其他產業無法企及的。在集成電路制作過程中，光刻是其關鍵工藝[1
2018-08-23 11:56:31
芯片制作工藝流程 二
，然后以設定的轉速和時間甩膠。由于離心力的作用，光刻膠在基片表面均勻地展開，多余的光刻膠被甩掉，獲得一定厚度的光刻膠膜，光刻膠的膜厚是由光刻膠的粘度和甩膠的轉速來控制。所謂光刻膠，是對光、電子束或X線
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芯片里面100多億晶體管是如何實現的
，光刻和刻蝕是其中最為核心的兩個步驟。 而晶體管就是通過光刻和蝕刻雕刻出來的，光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區做出來。利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會
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`一、照明用LED光源照亮未來 隨著市場的持續增長，LED制造業對于產能和成品率的要求變得越來越高。激光加工技術迅速成為LED制造業普遍的工具，甚者成為了高亮度LED晶圓加工的工業標準。 激光刻
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Futurrex高端光刻膠
并可作永久隔層。 NR9-P 系列 負性光刻膠，具有高粘附性適用于電鍍及濕法蝕刻。 NR71-P 系列 負性光刻膠，用于干法蝕刻中掩模應用并能作為永久隔層。 NR21-P 系列 負性光刻膠，用于厚度超過
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JCMSuite應用—衰減相移掩模
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Microchem SU-8光刻膠 2000系列
、芯片封裝和微加工等領域。目前，直接采用 SU- 8 光刻膠來制備深寬比高的微結構與微零件已經成為微加工領域的一項新技術。SU 8光刻膠光刻前清洗工藝：為了獲得更好的光刻效果，在進行光刻膠旋涂之前，需要
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lithography平板印刷技術
lithography是一種平板印刷技術，在平面光波回路的制作中一直發揮著重要的作用。具體過程如下：首先在二氧化硅為主要成分的芯層材料上面，淀積一層光刻膠；使用掩模版對光刻膠曝光固化，并在
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一文帶你了解芯片制造的6個關鍵步驟
芯片。然而即使如此，近期的芯片短缺依然表現出，這個數字還未達到上限。盡管芯片已經可以被如此大規模地生產出來，生產芯片卻并非易事。制造芯片的過程十分復雜，今天我們將會介紹六個最為關鍵的步驟：沉積、光刻膠涂
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半導體光刻技術基本原理
，小米9pro，oppo Reno3以及vivo X30）分別采用了什么芯片？ 3協同通信的方式有哪些？ 4大數據及認知無線電（名詞解釋） 4半導體工藝的4個主要步驟： 4簡敘半導體光刻技術基本原理 4給出4個全球著名的半導體設備制造商并指出其生產的設備核心技術： 5衛
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魂遷光刻，夢繞芯片，中芯國際終獲ASML大型光刻機 精選資料分享
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻機作為集成電路制造中最關鍵的設備，對芯片制作工藝有著決定性的影響，被譽為“超精密制造技術皇冠上的明珠”，根據之前中芯國際的公報，目...
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英特爾認為浸入式光刻能延伸到11納米
英特爾認為浸入式光刻能延伸到11納米
英特爾的先進光刻和制造部的Yan Borodovsky表明,英特爾希望EUV或者無掩模電子束光刻能作為193納米浸入式光刻在11納米的后補者
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掩模ROM MCU,什么是掩模ROM MCU
掩模ROM MCU,什么是掩模ROM MCU
掩膜ROM型產品單價便宜，卻有額外增加開發費用的風險。掩膜ROM型產品的風險因素主要有二。首先是掩膜
2010-03-26 11:07:043695
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看懂光刻機:光刻工藝流程詳解
光刻是半導體芯片生產流程中最復雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在于將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現， 光刻的工藝水平直接決定芯片的制程水平和性能
2018-04-08 16:10:52162273
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一文解析刻蝕機和光刻機的原理及區別
光刻機（Mask Aligner） 又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等。一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。
2018-04-10 09:49:17131483
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一文看懂asml光刻機工作原理及基本構造
在半導體芯片制造設備中，投資最大、也是最為關鍵的是光刻機，光刻機同時也是精度與難度最高、技術最為密集、進步最快的一種系統性工程設備。光學光刻技術與其它光刻技術相比，具有生產率高、成本低、易實現高的對準和套刻精度、掩模制作相對簡單、工藝條件容易掌握等優點，一直是半導體芯片制造產業中的主流光刻技術。
2018-04-10 11:26:34205917
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我國芯片產業為何會被光刻機掐住了脖子？
”級別的“神器”我國能趕超歐美嗎？特別是最近某科技媒體稱，“是什么卡了我們的脖子—— 這些“細節”讓中國難望頂級光刻機項背”，筆者根據公開資料解析我國光刻機最新進展。所謂光刻機，原理實際上跟照相機差不多
2018-07-29 11:16:005435
5435說一說光刻機的那些事兒
一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗、烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。最初的工序是用光來制作一個掩模版，然后在硅片表面均勻涂抹光刻膠，將掩模版上的圖形或者電路結構轉移復制到硅片上，然后通過光學刻蝕的方法在硅片上刻蝕出已經“復制”到硅片上的內容。
2018-05-03 15:06:1319445
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光刻技術的基本原理!光刻技術的種類光學光刻
光刻技術是包含光刻機、掩模、光刻材料等一系列技術，涉及光、機、電、物理、化學、材料等多個研究方向。目前科學家正在探索更短波長的F2激光（波長為157納米）光刻技術。由于大量的光吸收，獲得用于光刻系統
2019-01-02 16:32:2323711
23711淺析光刻技術的原理和EUV光刻技術前景
光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。光刻也是制造芯片的最關鍵技術，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發展中，光刻技術的增長，直接關系到大型計算機的運作等高科技領域。
2019-02-25 10:07:535812
5812干貨！光刻技術的原理和EUV光刻技術前景
光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。
2019-03-02 09:41:2911136
11136深度探究光刻技術的原理和EUV光刻技術前景
光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。光刻也是制造芯片的最關鍵技術，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發展中，光刻技術的增長，直接關系到大型計算機的運作等高科技領域。
2019-03-03 10:00:314088
4088一文讓你深度了解光刻機
光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。
2019-05-08 10:58:4710086
10086助力高級光刻技術：存儲和運輸EUV掩模面臨的挑戰
隨著半導體行業持續突破設計尺寸不斷縮小的極限，極紫外 （EUV） 光刻技術的運用逐漸擴展到大規模生產環境中。對于 7 納米及更小的高級節點，EUV 光刻技術是一種能夠簡化圖案形成工藝的支持技術。要在如此精細的尺寸下進行可靠制模，超凈的掩模必不可少。
2019-07-03 15:32:371712
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回顧半導體技術趨勢及其對光刻的影響分析與應用
應用厚的光刻膠，并使用階梯式掩模形成圖案（A thick photoresist is applied and patterned with the stair-step mask.）。 蝕刻和收縮
2019-08-28 14:17:503984
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為晶圓級CSP生產設定掩模標準
MUNICH - Karl Suss KG GmbH＆amp;公司今天宣布與硅谷的Image Technology公司合作，開發和標準化9英寸掩模，用于大批量晶圓凸點和晶圓級芯片級封裝的生產。總體目標是降低晶圓級芯片級封裝的掩模成本。
2019-08-13 10:48:592262
2262一文讀懂光刻機的工作原理
光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。光刻是制造芯片的最關鍵技術，在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。
2019-11-23 10:45:54158604
158604光刻機能干什么_英特爾用的什么光刻機_光刻機在芯片生產有何作用
光刻機是芯片制造的核心設備之一，作為目前世界上最復雜的精密設備之一，其實光刻機除了能用于生產芯片之外，還有用于封裝的光刻機，或者是用于LED制造領域的投影光刻機。目前，我國高端的光刻機，基本上是從荷蘭ASML進口的。
2020-03-18 11:12:0244388
44388音圈電機在光刻機掩模臺系統中的應用
作為芯片制造的核心設備之一，光刻機對芯片生產的工藝有著決定性影響。 據悉，光刻機按照用途可分為生產芯片的光刻機、封裝芯片的光刻機以及用于LED制造領域的投影光刻機。其中，生產芯片的High End
2020-06-15 08:05:54999
999提高光刻機性能的關鍵技術及光刻機的發展情況
Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等。 光刻（Photolithography） 意思是用光來制作一個圖形（工藝）；在硅片表面勻膠，然后將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時復制到硅片上的過程。 一般的光刻工藝要經
2020-08-28 14:39:0411746
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政策助力光刻機行業發展，我國光刻機行業研發進度仍待加快
光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機是半導體產業中最關鍵設備，光刻工藝決定了半導體線路的線寬，同時也決定了芯片的性能和功耗。
2020-09-30 16:17:135162
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ASML光刻機的工作原理及關鍵技術解析
光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
2020-10-09 11:29:369260
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政策助力光刻機行業發展,top3企業銷售量呈現波動增長的態勢
光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機是半導體產業中最關鍵設備，光刻工藝決定了半導體線路的線寬，同時也決定了芯片的性能和功耗。
2020-10-10 17:17:071496
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芯片光刻技術的基本原理及主要步驟
在集成電路的制造過程中，有一個重要的環節光刻，正因為有了它，我們才能在微小的芯片上實現功能。 根據維基百科的定義，光刻是半導體器件制造工藝中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫
2020-11-11 10:14:2022384
22384極紫外（EUV）光刻技術將如何影響掩模收入？
體上，三分之二的調查參與者認為這將產生積極的影響。前往EUV時，口罩的數量減少了。這是因為EUV將整個行業帶回單一模式。具有多個圖案的193nm浸入需要在高級節點處使用更多的掩模。
2020-11-23 14:42:091096
1096紫外線探測器的性能特點及在光刻機中的應用研究
光刻機（Mask Aligner） 又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫 Mask Alignment System。一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘干
2020-12-28 14:17:152440
2440關于紫外線探測器在紫外光刻機中的應用
光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫 Mask Alignment System。一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘干
2020-12-29 09:14:542095
2095英諾賽科和ASML建立合作關系,可批量購買光刻機
作為全球最頂尖的半導體設備制造商，AMSL在芯片產業鏈中扮演著尤為關鍵的角色，由它生產出來的光刻機更是芯片制造過程所需的核心設備。顧名思義，光刻機的主要作用就是光刻， 將設計好的集成電路刻畫在硅片上，這便是芯片代工最重要的環節。
2021-01-26 16:40:582351
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為什么說EDA工具是可以比肩光刻機的重要設備?
在芯片設計、制造的諸多環節中，光刻機等核心設備發揮了至關重要的作用。殊不知，在眾多核心設備中，EDA工具才是真正的重中之重。
2021-05-02 11:49:002682
2682光刻機原理介紹
光刻機，是現代光學工業之花，是半導體行業中的核心技術。 ? ? ? ?可能有很多人都無法切身理解光刻機的重要地位，光刻機，是制造芯片的機器，要是沒有了光刻機，我們就沒有辦法造出芯片，自然也就
2021-07-07 14:31:18125772
125772光刻機原理怎么做芯片
光刻機原理怎么做芯片 光刻是集成電路中最重要的工藝，光刻機是制造芯片的核心裝備，在芯片的制作中，幾乎每個工藝的實施，都需要用到光刻技術。可以說，光刻機是半導體界的一顆明珠。那么光刻機原理怎么做芯片
2021-08-07 14:54:5412869
12869芯片制造都需要什么過程？
在掩模版上制作需要印刷的圖案藍圖。晶圓放入光刻機后，光束會通過掩模版投射到晶圓上。光刻機內的光學元件將圖案縮小并聚焦到光刻膠涂層上。
2021-12-08 13:45:502094
2094光刻機制作芯片過程
光刻機制作芯片過程非常復雜，而光刻機是制造芯片最重要的設備之一，由于先進光刻機的技術封鎖，中國芯片廠商的芯片制作工藝目前比較落后，也沒有優秀的國產光刻機來掌握到最先進的光刻技術。
2021-12-30 11:23:2111145
11145光刻技術是什么,有哪些作用
光刻是在掩模中轉移幾何形狀圖案的過程，是覆蓋在表面的一層薄薄的輻射敏感材料(稱為抗輻射劑) ，也是一種半導體晶片。 圖5.1簡要說明了光刻用于集成電路制造的工藝。 如圖5.1(b)所示，輻射為通過
2022-03-09 13:36:164884
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晶片清洗、阻擋層形成和光刻膠應用
什么是光刻？光刻是將掩模上的幾何形狀轉移到硅片表面的過程。光刻工藝中涉及的步驟是晶圓清洗；阻擋層的形成；光刻膠應用；軟烤；掩模對準；曝光和顯影；和硬烤。
2022-03-15 11:38:02850
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TiN硬掩模濕法去除工藝的介紹
介紹 TiN硬掩模(TiN-HM)集成方案已廣泛用于BEOL圖案化，以避免等離子體灰化過程中的超低k (ULK)損傷。隨著技術節點的進步，新的集成方案必須被用于利用193 nm浸沒光刻來圖案化80
2022-06-15 16:28:161851
1851
半導體等精密電子器件制造的核心流程：光刻工藝
光刻膠作為影響光刻效果核心要素之一，是電子產業的關鍵材料。光刻膠由溶劑、光引發劑和成膜樹脂三種主要成分組成，是一種具有光化學敏感性的混合液體。其利用光化學反應，經曝光、顯影等光刻工藝，將所需要的微細圖形從掩模版轉移到待加工基片上，是用于微細加工技術的關鍵性電子化學品。
2022-06-21 09:30:0916641
16641euv光刻機目前幾納米 中國5納米光刻機突破了嗎
大家都知道，芯片制造的核心設備之一就是光刻機了。現在，全球最先進的光刻機是荷蘭ASML的EUV光刻機，那么euv光刻機目前幾納米呢？ 到現在，世界上最先進的光刻機能夠實現5nm的加工。也就是荷蘭
2022-07-10 11:17:4242766
42766euv光刻機是哪個國家的
機是哪個國家的呢？ euv光刻機許多國家都有，理論上來說，芯片強國的光刻機也應該很強，但是最強的光刻機制造強國，不是美國、韓國等芯片強國，而是荷蘭。 EUV光刻機有光源系統、光學鏡頭、雙工作臺系統三大核心技術。 目前，在全世
2022-07-10 11:42:276977
6977euv光刻機是干什么的
光刻機是大規模集成電路生產的核心設備，它能夠制造和維護需要高水平的光學和電子產業基礎，全球只有少數制造商掌握了這一基礎。 光刻機的作用是對芯片晶圓進行掃描曝光，對集成電路進行蝕刻。精度更高的光刻
2022-07-10 14:35:066173
6173euv光刻機原理是什么
euv光刻機原理是什么 芯片生產的工具就是紫外光刻機，是大規模集成電路生產的核心設備，對芯片技術有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機生產。那么euv光刻機原理是什么呢？ EUV
2022-07-10 15:28:1015099
15099用于后端光刻的新型無掩模技術分析
從 2D 擴展到異構集成和 3D 封裝對于提高半導體器件性能變得越來越重要。近年來，先進封裝技術的復雜性和可變性都在增加，以支持更廣泛的設備和應用。在本文中，我們研究了傳統光刻方法在先進封裝中的局限性，并評估了一種用于后端光刻的新型無掩模曝光。
2022-07-26 10:42:121098
1098光刻工藝中使用的曝光技術
根據所使用的輻射，有不同類型的光刻方法用于曝光的:光刻(光刻)、電子束光刻、x射線光刻、光刻和離子束光刻。在光學光刻技術中，有部分不透明和部分不透明的圖案掩模(光片)半透明區域被使用。紫外線輻射或氣體激光的照射以1:1的比例完成或者以4:1或10:1的比例減少。
2022-07-27 16:54:533169
3169
移相掩模技術不同的分類方法
光刻圖形質量的主要判據是圖形成像的對比度，移相掩模方法可使對比度得到改善，從而使得其分辨率比傳統方法改善 40%~100%。移相掩模按不同的分類方法可分為多種類型，其基本原理均為相鄰透光圖形透過的光振幅相位相反而產生相消干涉，振幅零點和（或）頻譜分布壓窄，從而改善對比度、分辦率和成像質量。
2022-10-17 14:54:091490
1490一文解析光刻機的工作原理
利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發生性質變化，從而使光罩上得圖形復印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。
2022-12-01 09:32:113700
3700柵氧化層和多晶硅柵工藝示意圖解析
當核心區域和 I/O 區域都已經生長晶體管后，沉積多晶硅層（Poly-Si）和硬掩模層（薄的SiON和PECVD二氧化硅）。沉積柵疊層(Cate-Stack）后，進行圖形化硬掩模（經過光刻步驟)。
2022-12-08 09:53:044197
4197一文解析硅光集成技術與硅基光電子集成的挑戰
光電子芯片在通信、計算、傳感等領域的核心作用、 成本占比和創新應用不斷提擴展和提高，成為與微電子“并駕齊驅”的技術引|擎。
2023-01-03 11:21:17524
524***的簡易工作原理圖 掩模版都有哪些種類？
光刻掩模版，別稱“掩模版”、“光刻板”、“光罩”、“遮光罩”，一般使用玻璃或者石英表面覆蓋帶有圖案的金屬圖形，實現對光線的遮擋或透過功能，是微電子光刻工藝中的一個工具或者板材。
2023-02-13 09:27:292086
2086EUV光刻工藝制造技術主要有哪些難題？
光掩模可以被認為是芯片的模板。光掩模用電子束圖案化并放置在光刻工具內。然后，光掩模可以吸收或散射光子，或允許它們穿過晶圓。這就是在晶圓上創建圖案的原因。
2023-03-03 10:10:321129
1129EUV 光刻制造全流程設計解析
其全流程涉及了從 EUV 光源到反射鏡系統，再到光掩模，再到對準系統，再到晶圓載物臺，再到光刻膠化學成分，再到鍍膜機和顯影劑，再到計量學，再到單個晶圓。
2023-03-07 10:41:581134
1134音圈電機模組在主流光刻掩模臺系統中的應用
光刻機是芯片智造的核心設備之一，也是當下尤為復雜的精密儀器之一。正因為此，荷蘭光刻機智造商阿斯麥通研制的EUV光刻機才會“千金難求”。 很多人都對光刻機有所耳聞，但其實不同光刻機的用途并不
2023-04-06 08:56:49679
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淺談EUV光刻中的光刻膠和掩模等材料挑戰
新的High NA EUV 光刻膠不能在封閉的研究環境中開發，必須通過精心設計的底層、新型硬掩模和高選擇性蝕刻工藝進行優化以獲得最佳性能。為了迎接這一挑戰，imec 最近開發了一個新的工具箱來匹配光刻膠和底層的屬性。
2023-04-13 11:52:121165
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NVIDIA H100 GPU為2nm芯片加速計算光刻！
現代工藝技術將晶圓廠設備要求推向極限，需要實現突破其物理極限的高分辨率，這正是計算光刻技術發揮作用的地方。計算光刻就是為芯片生產制作光掩模的技術，它結合來自ASML設備和測試晶圓的關鍵數據，是一個模擬生產過程的算法。
2023-04-26 10:05:29918
918EUV光刻的無名英雄
晶圓廠通常使用光刻膠來圖案化抗蝕刻硬掩模，然后依靠硬掩模來保護晶圓。但是，如果光刻膠太薄，它可能會在第一個轉移步驟完成之前被侵蝕掉。隨著光刻膠厚度的減小，底層厚度也應該減小。
2023-04-27 16:25:00689
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掩模場利用率MFU簡介
掃描儀(scanner)是一種在wafer上創建die images的機器。它首先通過刻線（有時稱為掩模）將光照射到涂有保護性光刻膠的wafer上，以刻上刻線圖案的圖像。
2023-05-06 09:51:385204
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知識分享---光刻模塊標準步驟
通常，光刻是作為特性良好的模塊的一部分執行的，其中包括晶圓表面制備、光刻膠沉積、掩模和晶圓的對準、曝光、顯影和適當的抗蝕劑調節。光刻工藝步驟需要按順序進行表征，以確保模塊末端剩余的抗蝕劑是掩模的最佳圖像，并具有所需的側壁輪廓。
2023-06-02 16:30:25421
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一文解析EUV掩模版缺陷分類、檢測、補償
光刻機需要采用全反射光學元件，掩模需要采用反射式結構。
這些需求帶來的是EUV光刻和掩模制造領域的顛覆性技術。EUV光刻掩模的制造面臨著許多挑戰，包括掩模基底的低熱膨脹材料的開發、零缺陷襯底拋光、多層膜缺陷檢查、多層膜缺陷修復等。
2023-06-07 10:45:541012
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超級全面！一文看懂***：MEMS傳感器及芯片制造的最核心設備
文章大綱 光刻是芯片制造最核心環節，大陸自給率亟待提升 ·光刻機是芯片制造的核心設備，市場規模全球第二 ·一超兩強壟斷市場，大陸卡脖子現象凸顯 光刻機：多個先進系統的組合，核心零部件被海外廠商壟斷
2023-06-19 10:04:008369
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EUV光刻市場高速增長，復合年增長率21.8%
EUV掩膜，也稱為EUV掩模或EUV光刻掩膜，對于極紫外光刻（EUVL）這種先進光刻技術至關重要。EUV光刻是一種先進技術，用于制造具有更小特征尺寸和增強性能的下一代半導體器件。
2023-08-07 15:55:02399
399什么是光刻工藝？光刻的基本原理
光刻是半導體芯片生產流程中最復雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在于將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現， 光刻的工藝水平直接決定芯片的制程水平和性能水平。
2023-08-23 10:47:531589
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考慮光刻中厚掩模效應的邊界層模型
短波長透明光學元件的缺乏限制了深紫外光刻中的可用波長，而晶片上所需的最小特征繼續向更深的亞波長尺度收縮。這對用入射場代替掩模開口上的場的基爾霍夫邊界條件造成了嚴重的限制，因為這種近似無法考慮光刻圖像
2023-08-25 17:21:43279
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光刻可制造性檢查如何檢測掩模版質量
隨著工藝節點不斷變小，掩模版制造難度日益增加，耗費的資金成本從數十萬到上億，呈指數級增長，同時生產掩模版的時間成本也大幅增加。如果不能在制造掩模版前就保證其設計有足夠高的品質，重新優化設計并再次制造一批掩模版將增加巨大的資金成本和時間成本。
2023-11-02 14:25:59284
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光刻各環節對應的不同模型種類
光學模型是基于霍普金斯（Hopkins）光學成像理論，預先計算出透射相交系數（TCCs），從而描述光刻機的光學成像。光學模型中，經過優化的光源，通過光刻機的照明系統，照射在掩模上。如果在實際光刻
2023-12-11 11:35:32288
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編解碼一體機在流媒體傳輸中的核心作用
編解碼一體機在流媒體傳輸中起著核心作用，主要表現在以下幾個方面： 1. 視頻和音頻編碼：編解碼一體機能夠對視頻和音頻數據進行高效的編碼，將原始的多媒體數據壓縮成適合網絡傳輸的格式。這樣不僅可以減少
2024-01-31 14:20:22119
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淺談不同階段光刻機工作方式
在曝光過程中，掩模版與涂覆有光刻膠的硅片直接接觸。接觸式光刻機的縮放比為1:1，分辨率可達到4-5微米。由于掩模和光刻膠膜層反復接觸和分離，隨著曝光次數的增加，會引起掩模版和光刻膠膜層損壞、芯片良率下降等不良后果。
2024-03-08 10:42:3788
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工商網監
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