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國家存儲器基地項目已受電成功 明年將直攻128層以縮減與其他供應商的差距

半導體動態 ? 來源:工程師吳畏 ? 2019-08-05 15:48 ? 次閱讀

據中新網8月3日報道, 國家存儲器基地項目(一期)二階段工程項目中低壓配電系統已經受電成功,終端機臺的電力供給得到保證,芯片的目標量產指日可待。

據了解,長江存儲科技有限責任公司是國家存儲器基地項目的實施主體。根據武漢市此前公布的2019年第一季度政府工作報告執行情況顯示,武漢東湖新技術開發區在存儲器基地方面取得了重大進展,長江存儲器基地一期已實現量產,一季度產能達到5000片/月,辦公人數已達3000人。同時國家先進存儲產業創新中心也已完成法人主體注冊。

2019年7月3日,湖北省委副書記、省長王曉東在調研國家存儲器基地時指出,要優化環境、全力支持,更大力度爭取國家支持并落實支持政策,完善服務機制,當好項目“秘書”,解決實際難題,全力保障國家存儲器基地建設,為加快“一芯兩帶三區”區域和產業發展布局提供重要支撐。

據了解,國家存儲器基地項目位于武漢東湖高新區武漢未來科技城,將建設3座全球單座潔凈面積最大的3D NAND Flash FAB廠房、一座總部研發大樓和其它若干配套建筑。

根據此前的資料顯示,長江存儲今年底前將正式量產64層3D NAND產品,明年將直攻128層以縮減與其他供應商的差距。

國家存儲器基地的建立,以芯片制造環節為突破口,集存儲器產品設計、技術研發、晶圓生產與測試、銷售于一體,建成后,還將帶動設計、封裝、制造、應用等芯片產業相關環節的發展,標志著芯片自主創新之路邁出可靠而重要的一步。

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
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