那曲檬骨新材料有限公司

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

EUV光刻機(jī)的價值 芯片廠商造不出7nm以下工藝芯片

jf_f8pIz0xS ? 來源:中國電子網(wǎng) ? 作者:中國電子網(wǎng) ? 2020-07-07 16:25 ? 次閱讀

作為半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)過程中最重要的裝備,光刻機(jī)一直牽動人心。事實(shí)上,制程工藝越先進(jìn)就要離不開先進(jìn)光刻機(jī)。

光刻是半導(dǎo)體芯片制造中最費(fèi)時間也是最費(fèi)成本的環(huán)節(jié)之一,而且它決定了芯片的工藝水平,常說的XXnm工藝主要是看光刻機(jī)水平,10nm工藝之后難度越來越大,光刻機(jī)也需要升級到EUV級別。

ASML副總裁Anthony Yen日前表態(tài),如果沒有EUV光刻機(jī),那么芯片廠商是造不出7nm以下工藝芯片的。

目前ASML公司是唯一一個能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的公司,他們做出這樣的表態(tài)其實(shí)也不讓人意外,畢竟這是一臺售價高達(dá)1.2億歐元、約合10億一臺的高端設(shè)備,全球半導(dǎo)體制造廠商都要看ASML的臉色。

臺積電在第一代7nm工藝上沒有使用EUV光刻機(jī),但是7nm之后的工藝就很難避開EUV光刻機(jī)了,理論上可以用多重曝光的方式制造5nm級別的芯片,但是成本、良率都是個問題,無法拒絕EUV光刻機(jī)。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • ASML
    +關(guān)注

    關(guān)注

    7

    文章

    720

    瀏覽量

    41351
  • EUV光刻機(jī)
    +關(guān)注

    關(guān)注

    2

    文章

    128

    瀏覽量

    15187
收藏 人收藏

    評論

    相關(guān)推薦

    光刻機(jī)巨頭ASML業(yè)績暴雷,芯片迎來新一輪“寒流”?

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/黃山明)作為芯片制造過程中的核心設(shè)備,光刻機(jī)決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻
    的頭像 發(fā)表于 10-17 00:13 ?2855次閱讀

    芯片制造:光刻工藝原理與流程

    光刻芯片制造過程中至關(guān)重要的一步,它定義了芯片上的各種微細(xì)圖案,并且要求極高的精度。以下光刻過程的詳細(xì)介紹,包括原理和具體步驟。??
    的頭像 發(fā)表于 01-28 16:36 ?178次閱讀
    <b class='flag-5'>芯片</b>制造:<b class='flag-5'>光刻工藝</b>原理與流程

    光刻機(jī)的分類與原理

    ,但是由于面板光刻機(jī)針對的是薄膜晶體管,芯片光刻機(jī)針對的是晶圓,面板光刻機(jī)精度要求遠(yuǎn)低于芯片光刻機(jī)
    的頭像 發(fā)表于 01-16 09:29 ?444次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的分類與原理

    組成光刻機(jī)的各個分系統(tǒng)介紹

    ? 本文介紹了組成光刻機(jī)的各個分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機(jī)是實(shí)現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備,它的工作原
    的頭像 發(fā)表于 01-07 10:02 ?411次閱讀
    組成<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的各個分系統(tǒng)介紹

    日本首臺EUV光刻機(jī)就位

    據(jù)日經(jīng)亞洲 12 月 19 日報道,Rapidus 成為日本首家獲得極紫外 (EUV) 光刻設(shè)備的半導(dǎo)體公司,已經(jīng)開始在北海道芯片制造廠內(nèi)安裝極紫外光刻系統(tǒng)。 它將分四個階段進(jìn)行安裝,
    的頭像 發(fā)表于 12-20 13:48 ?331次閱讀
    日本首臺<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>就位

    用來提高光刻機(jī)分辨率的浸潤式光刻技術(shù)介紹

    ? 本文介紹了用來提高光刻機(jī)分辨率的浸潤式光刻技術(shù)。 芯片制造:光刻技術(shù)的演進(jìn) 過去半個多世紀(jì),摩爾定律一直推動著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,但當(dāng)光刻機(jī)
    的頭像 發(fā)表于 11-24 11:04 ?976次閱讀
    用來提高<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>分辨率的浸潤式<b class='flag-5'>光刻</b>技術(shù)介紹

    光刻機(jī)的工作原理和分類

    ? 本文介紹了光刻機(jī)芯片制造中的角色和地位,并介紹了光刻機(jī)的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機(jī)芯片制造的關(guān)鍵角色 ? ?
    的頭像 發(fā)表于 11-24 09:16 ?2555次閱讀

    今日看點(diǎn)丨 2011億元!比亞迪單季營收首次超過特斯拉;三星將于2025年初引進(jìn)High NA EUV光刻機(jī)

    1. 三星將于2025 年初引進(jìn)High NA EUV 光刻機(jī),加快開發(fā)1nm 芯片 ? 據(jù)報道,三星電子正準(zhǔn)備在2025年初引入其首款High NA
    發(fā)表于 10-31 10:56 ?859次閱讀

    所謂的7nm芯片上沒有一個圖形是7nm

    最近網(wǎng)上因為光刻機(jī)的事情,網(wǎng)上又是一陣熱鬧。好多人又開始討論起28nm/7nm的事情了有意無意之間,我也看了不少網(wǎng)上關(guān)于國產(chǎn)自主7nm工藝
    的頭像 發(fā)表于 10-08 17:12 ?435次閱讀
    所謂的<b class='flag-5'>7nm</b><b class='flag-5'>芯片</b>上沒有一個圖形是<b class='flag-5'>7nm</b>的

    俄羅斯首臺光刻機(jī)問世

    的一部分,目前正在對其進(jìn)行測試,該設(shè)備可確保生產(chǎn)350nm芯片。什帕克還指出,到2026年將獲得130nm的國產(chǎn)光刻機(jī),下一步將是開發(fā)90nm
    的頭像 發(fā)表于 05-28 15:47 ?847次閱讀

    俄羅斯推出首臺光刻機(jī):350nm

    芯片。Shpak表示,“我們組裝并制造了第一臺國產(chǎn)光刻機(jī)。作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)線的一部分,目前正在對其進(jìn)行測試。”俄羅斯接下來的目標(biāo)是在2026年制造可以支持130nm工藝
    的頭像 發(fā)表于 05-28 09:13 ?719次閱讀

    臺積電A16制程采用EUV光刻機(jī),2026年下半年量產(chǎn)

    據(jù)臺灣業(yè)內(nèi)人士透露,臺積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑(High-NA)EUV光刻機(jī),而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)。相較之下,英特爾和三星則計劃在此階段使用最新的High-N
    的頭像 發(fā)表于 05-17 17:21 ?1095次閱讀

    光刻機(jī)的發(fā)展歷程及工藝流程

    光刻機(jī)經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展,每次改進(jìn)和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次從接觸接近式
    發(fā)表于 03-21 11:31 ?6805次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的發(fā)展歷程及<b class='flag-5'>工藝</b>流程

    2024年全球與中國7nm智能座艙芯片行業(yè)總體規(guī)模、主要企業(yè)國內(nèi)外市場占有率及排名

    市場分析、供應(yīng)鏈分析、主要企業(yè)情況、市場份額、并購、擴(kuò)張等 如果您有興趣查閱詳情和報價,請薇?: chenyu-youly確認(rèn)。 報告摘要 本文側(cè)重研究全球7nm智能座艙芯片總體規(guī)模及主要廠商占有率
    發(fā)表于 03-16 14:52

    ASML 首臺新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 完成安裝

    EUV 光刻機(jī)持續(xù)更新升級,未來目標(biāo)在 2025 年推出 NXE:4000F 機(jī)型。 上兩代 NXE 系列機(jī)型 3400C 和 3600D 分別適合 7~5、5~3 納米節(jié)點(diǎn)生產(chǎn),德媒 ComputerBase 因此預(yù)測 38
    的頭像 發(fā)表于 03-14 08:42 ?601次閱讀
    ASML 首臺新款 <b class='flag-5'>EUV</b> <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b> Twinscan NXE:3800E 完成安裝
    爱拼百家乐现金网| 百家乐官网路有几家| 大发888网页版出纳| 24楼层风水| 百家乐官网高手投注法| 全讯网官方网站| 百家乐是骗人吗| 澳门百家乐官网玩法| 大发888下载大发888游戏平台| 网络百家乐路单图| 定制百家乐官网桌垫| bet365体育在线注册| 百家乐网站平台| 百家乐官网代理打| 岑溪市| 新太阳城工业区| 百家乐游戏打水方法| 百家乐官网平台凯发| 香港六合彩官方网| 网上百家乐指| 百家乐视频游戏盗号| 百家乐官网那里玩| 和龙市| 大发888娱乐场下载 zhidu| 百家乐屏风| 阴宅风水纳水与24山向水口详解| 太阳城百家乐官网怎样开户| 蒙特卡罗线上娱乐| 大发888娱乐城开户| 乐百家百家乐游戏| 澳门百家乐官网网上赌博| 百家乐官网的连庄连闲| 德州扑克概率计算器| 破战百家乐的玩法技巧和规则| 百家乐节目视频| 百家乐官网游戏唯一官网站| 百家乐官网作弊演示| 百家乐棋牌正式版| 大世界百家乐官网的玩法技巧和规则| 信誉百家乐官网平台| 延吉市|