那曲檬骨新材料有限公司

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

美國(guó)技術(shù)封鎖或?qū)⒅浦腥蘸献鏖_(kāi)發(fā)光刻機(jī)

如意 ? 來(lái)源:OFweek電子工程網(wǎng) ? 作者:科技圈里的那些事 ? 2020-10-19 10:59 ? 次閱讀

近日,日經(jīng)報(bào)道稱美國(guó)的技術(shù)封鎖可能會(huì)助推中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的自立與發(fā)展,中日有望合作開(kāi)發(fā)光刻機(jī)

報(bào)道稱,以美國(guó)限制華為、中芯國(guó)際的供應(yīng)鏈為例,盡管有美國(guó)政府的出口限制,但中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)仍可迂回以對(duì)。

中國(guó)有1000多家新興的半導(dǎo)體相關(guān)公司,如果華為和中芯國(guó)際從這些公司購(gòu)買進(jìn)口的半導(dǎo)體芯片、設(shè)計(jì)軟件以及生產(chǎn)設(shè)備,實(shí)際上就可以進(jìn)行半導(dǎo)體采購(gòu)并擴(kuò)充制造設(shè)備。

目前,全球最先進(jìn)的光刻機(jī)技術(shù)被荷蘭ASML公司牢牢掌握在手中,而大部分基礎(chǔ)技術(shù)的知識(shí)產(chǎn)權(quán)都由美國(guó)把持。日經(jīng)表示,中國(guó)企業(yè)或?qū)⑾騼杉胰毡竟咎峁┵Y金,以共同開(kāi)發(fā)除EUV以外的新型光刻機(jī)。
責(zé)編AJX

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 芯片
    +關(guān)注

    關(guān)注

    456

    文章

    51188

    瀏覽量

    427288
  • 半導(dǎo)體
    +關(guān)注

    關(guān)注

    334

    文章

    27714

    瀏覽量

    222662
  • 光刻機(jī)
    +關(guān)注

    關(guān)注

    31

    文章

    1158

    瀏覽量

    47585
收藏 人收藏

    評(píng)論

    相關(guān)推薦

    光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)

    光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)
    的頭像 發(fā)表于 02-06 09:38 ?36次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)

    如何提高光刻機(jī)的NA值

    本文介紹了如何提高光刻機(jī)的NA值。 為什么光刻機(jī)希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號(hào)的光刻機(jī)配置,每代光刻機(jī)的NA值會(huì)比上一代更大一些。NA,又名
    的頭像 發(fā)表于 01-20 09:44 ?208次閱讀
    如何提高<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的NA值

    光刻機(jī)的分類與原理

    本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類,光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括芯片
    的頭像 發(fā)表于 01-16 09:29 ?444次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的分類與原理

    組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)介紹

    納米級(jí)別的分辨率。本文詳細(xì)介紹光刻機(jī)的主要組成部分及其功能。 光源系統(tǒng) ? 光源系統(tǒng)是光刻機(jī)的心臟,負(fù)責(zé)提供曝光所需的能量。早期的光刻機(jī)使用汞燈作為光源,但隨著
    的頭像 發(fā)表于 01-07 10:02 ?411次閱讀
    組成<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的各個(gè)分系統(tǒng)介紹

    用來(lái)提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)介紹

    ? 本文介紹了用來(lái)提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)。 芯片制造:光刻技術(shù)的演進(jìn) 過(guò)去半個(gè)多世紀(jì),摩爾定律一直推動(dòng)著半導(dǎo)體
    的頭像 發(fā)表于 11-24 11:04 ?976次閱讀
    用來(lái)提高<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>分辨率的浸潤(rùn)式<b class='flag-5'>光刻</b><b class='flag-5'>技術(shù)</b>介紹

    光刻機(jī)的工作原理和分類

    ,是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠。芯片的加工過(guò)程對(duì)精度要求極高,光刻機(jī)通過(guò)一系列復(fù)雜的技術(shù)手段,光束透射過(guò)畫著線路圖的掩模,經(jīng)物鏡補(bǔ)償各種光學(xué)誤差,線路圖成比例縮小后映射到硅片上,然后使
    的頭像 發(fā)表于 11-24 09:16 ?2555次閱讀

    一文看懂光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)及雙工件臺(tái)技術(shù)

    光刻機(jī)作為IC制造裝備中最核心、技術(shù)難度最大的設(shè)備,其重要性日益凸顯。本文將從光刻機(jī)的發(fā)展歷程、結(jié)構(gòu)組成、關(guān)鍵性能參數(shù)以及雙工件臺(tái)技術(shù)展開(kāi)介紹。 一、
    的頭像 發(fā)表于 11-22 09:09 ?1949次閱讀
    一文看懂<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的結(jié)構(gòu)及雙工件臺(tái)<b class='flag-5'>技術(shù)</b>

    一文了解光刻機(jī)成像系統(tǒng)及光學(xué)鍍膜技術(shù)

    高端光刻機(jī)研發(fā)是一個(gè)系統(tǒng)工程,涉及到各方面技術(shù)的持續(xù)改進(jìn)和突破,在材料科學(xué)方面涉及低吸收損耗石英材料、高純度薄膜材料的開(kāi)發(fā),在精密光學(xué)領(lǐng)域涉及精密光學(xué)加工技術(shù)、鍍膜
    的頭像 發(fā)表于 11-21 13:43 ?605次閱讀
    一文了解<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>成像系統(tǒng)及光學(xué)鍍膜<b class='flag-5'>技術(shù)</b>

    俄羅斯首臺(tái)光刻機(jī)問(wèn)世

    的一部分,目前正在對(duì)其進(jìn)行測(cè)試,該設(shè)備可確保生產(chǎn)350nm的芯片。什帕克還指出,到2026年獲得130nm的國(guó)產(chǎn)光刻機(jī),下一步將是開(kāi)發(fā)90nm光刻機(jī),并繼續(xù)向下邁進(jìn)。 此前,俄羅斯曾
    的頭像 發(fā)表于 05-28 15:47 ?847次閱讀

    荷蘭阿斯麥稱可遠(yuǎn)程癱瘓臺(tái)積電光刻機(jī)

    阿斯麥稱可遠(yuǎn)程癱瘓臺(tái)積電光刻機(jī) 據(jù)彭博社爆料稱,有美國(guó)官員就大陸攻臺(tái)的后果私下向荷蘭和中國(guó)臺(tái)灣官員表達(dá)擔(dān)憂。對(duì)此,光刻機(jī)制造商阿斯麥(ASML)向荷蘭官員保證,可以遠(yuǎn)程癱瘓(remotely
    的頭像 發(fā)表于 05-22 11:29 ?5830次閱讀

    臺(tái)積電A16制程采用EUV光刻機(jī),2026年下半年量產(chǎn)

    據(jù)臺(tái)灣業(yè)內(nèi)人士透露,臺(tái)積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑(High-NA)EUV光刻機(jī),而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)。相較之下,英特爾和三星則計(jì)劃在此階段使用最新的High-NA EUV光刻機(jī)
    的頭像 發(fā)表于 05-17 17:21 ?1095次閱讀

    光刻機(jī)的常見(jiàn)類型解析

    光刻機(jī)有很多種類型,但有時(shí)也很難用類型進(jìn)行分類來(lái)區(qū)別設(shè)備,因?yàn)橛行┓诸悆H是在某一分類下的分類。
    發(fā)表于 04-10 15:02 ?2106次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的常見(jiàn)類型解析

    光刻機(jī)的發(fā)展歷程及工藝流程

    光刻機(jī)經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展,每次改進(jìn)和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次從接觸接近式光刻機(jī)發(fā)展到浸沒(méi)步進(jìn)式投影
    發(fā)表于 03-21 11:31 ?6805次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的發(fā)展歷程及工藝流程

    ASML光刻機(jī)技術(shù)的領(lǐng)航者,挑戰(zhàn)與機(jī)遇并存

    ASML在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中扮演著舉足輕重的角色,其光刻機(jī)技術(shù)和市場(chǎng)地位對(duì)于全球半導(dǎo)體制造廠商來(lái)說(shuō)都具有重要意義。
    發(fā)表于 03-05 11:26 ?1429次閱讀

    光刻膠和光刻機(jī)的區(qū)別

    光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過(guò)光刻機(jī)上的模板掩模來(lái)進(jìn)行曝光。
    的頭像 發(fā)表于 03-04 17:19 ?4942次閱讀
    德州扑克 梭哈| 百家乐官网技巧平注常赢法| 7位百家乐扑克桌| 百家乐官网群博爱彩| 百家乐高返水| 百家乐官网视频台球游戏| 百家乐皇室百家乐| 百家乐官网波音平台有假吗| 永利博百家乐的玩法技巧和规则| 太阳城娱乐城网址| 24分金| 太阳城娱乐网站| 百家乐棋牌外挂| 百家乐官网大赢家书籍| 迷你百家乐的玩法技巧和规则| 缅甸百家乐官网论坛| 极速百家乐真人视讯| 嘉义市| 百家乐出老千视频| 百家乐官网手机壳| 德州扑克技巧视频| 永利博百家乐现金网| 百家乐官网最长的缆| 太阳百家乐娱乐| 百家乐官网长龙怎么预判| 富田太阳城租房| 百家乐官网玩法| 从化市| 百家乐玩法| 做生意门朝向什么方向| 百家乐官网庄闲点数| 大发888博必发| 百家乐最低压多少| 优博地址| 万龙百家乐的玩法技巧和规则| 百家乐官网开户送10彩金| 大发888娱乐城登录| 澳门百家乐实战| 网上百家乐官网娱乐平台| 阿克苏市| 大发888娱乐城游戏lm0|