三星攜手ASML開發下一代EUV光刻機方面的合作
據報道，三星正尋求加強與荷蘭半導體設備制造商ASML的技術和投資合作。
該報道稱，包括CEO Peter Burnink在內的ASML高管于上周訪問了三星的半導體工廠，討論了在EUV光刻機供應和開發方面的合作。
ASML高管與三星副董事長金基南進行了會談。業內人士認為，三星在此次會談中要求ASML供應更多的EUV光刻機，并討論了雙方在開發下一代EUV光刻機方面的合作。
據悉，三星需要更多的EUV光刻機來擴大其在全球晶圓制造市場的份額。然而，作為世界上唯一的EUV光刻機制造商，ASML向臺積電提供的設備要多于三星。
因此三星希望與ASML建立技術聯盟，以確保下一代EUV光刻機的供應。對于ASML來說，與三星的投資合作是必要的，因為開發下一代EUV光刻機需要大量投資。
該報道指出，三星希望投資開發高數值孔徑的EUV光刻機，以提高半導體微制造所需的電路分辨率。該設備的價格預計為每臺5000億韓元，比目前的EUV設備高出2到3倍。ASML計劃在2023年年中推出該設備的原型，三星則希望優先獲得ASML的供應，以在技術上領先臺積電。
不過，三星一位官員表示，會議并沒有做出具體的投資決定。他說，ASML高管到訪三星是為了回應李在镕10月份訪問ASML總部。
另有消息稱，ASML的高管此次還會面了SK海力士總裁李石熙，雙方討論了擴大UV設備供應和促進合作的途徑。
責任編輯:pj
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