近日,中國科學院官網上發布的一則研究進展顯示,該團隊研發的新型5nm超高精度激光光刻加工方法,隨后這被外界解讀為,已經5nm ASML的壟斷,對此相關人士也是進行了回應。
據《財經》報道稱,該論文的通訊作者、中科院研究員、博士生導師劉前公開回應稱,這是一個誤讀,這一技術與極紫外光刻技術是兩回事。
按照劉前的說法,如果超高精度激光光刻加工技術能夠用于高精度掩模版的制造,則有望提高我國掩模版的制造水平,對現有光刻機的芯片的線寬縮小也是十分有益的。這一技術在知識產權上是完全自主的,成本可能比現在的還低,具有產業化的前景。
但是,即便這一技術實現商用化,要突破荷蘭ASML(阿斯麥)在光刻機上的壟斷,還有很多核心技術需要突破,例如鏡頭的數值孔徑、光源的波長等。
據悉,高端掩模版在國內還是一項“卡脖子”技術。在半導體領域,除了英特爾、三星、臺積電三家能自主制造外,高端掩模版主要被美國的Photronics、大日本印刷株式會社(DNP)以及日本凸版印刷株式會社(Toppan)三家公司壟斷,根據第三方市場研究機構前瞻產業研究院的數據,這三家公司的市場份額占到全球的82%。
一直以來,業界都在嘗試另一條技術路線,例如華裔科學家、普林斯頓大學周郁在1995年首先提出納米壓印技術,目前仍無法突破商用化的困境
目前的現狀是,沒有一個國家能夠獨立自主完成光刻機的制造,中國以一國之力,短期內要突破ASML在極紫外光刻技術上的壟斷,幾乎是不可能的事情。
責任編輯:PSY
-
中科院
+關注
關注
1文章
64瀏覽量
11889 -
光刻技術
+關注
關注
1文章
146瀏覽量
15895 -
5nm
+關注
關注
1文章
342瀏覽量
26136 -
ASML
+關注
關注
7文章
720瀏覽量
41351
發布評論請先 登錄
相關推薦
光刻機巨頭ASML業績暴雷,芯片迎來新一輪“寒流”?
消息稱臺積電3nm、5nm和CoWoS工藝漲價,即日起效!
臺積電產能爆棚:3nm與5nm工藝供不應求
臺積電3nm/5nm工藝前三季度營收破萬億新臺幣
消息稱臺積電3nm/5nm將漲價,終端產品或受影響
中科院重慶研究院在勢壘可光調諧新型肖特基紅外探測器研究獲進展
![<b class='flag-5'>中科院</b>重慶研究<b class='flag-5'>院</b>在勢壘可光調諧新型肖特基紅外探測器研究獲進展](https://file1.elecfans.com//web2/M00/F2/A3/wKgZomZ58smAIYSoAAH-aGjzzsY429.jpg)
光刻巨人去世 阿斯麥(ASML)光刻機巨頭聯合創始人去世
后門!ASML可遠程鎖光刻機!
ASML發貨第二臺High NA EUV光刻機,已成功印刷10nm線寬圖案
![](https://file1.elecfans.com/web2/M00/C8/F1/wKgaomYYiCWADGdOAATTwXC0eIU714.png)
臺積電擴增3nm產能,部分5nm產能轉向該節點
ASML 首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 完成安裝
![<b class='flag-5'>ASML</b> 首臺新款 EUV <b class='flag-5'>光刻</b>機 Twinscan NXE:3800E 完成安裝](https://file1.elecfans.com/web2/M00/C6/5B/wKgaomX9RiaAfj10AAAiyPALC48881.jpg)
評論