日本佳能正通過***加快搶占高功能半導(dǎo)體市場。佳能時隔7年更新了面向小型基板的半導(dǎo)體***,提高了生產(chǎn)效率。在用于純電動汽車(EV)的功率半導(dǎo)體和用于物聯(lián)網(wǎng)的傳感器需求有望擴大的背景下,佳能推進支持多種半導(dǎo)體的產(chǎn)品戰(zhàn)略。目標(biāo)是在三大巨頭壟斷的***市場上確立自主地位。
佳能將于2021年3月發(fā)售新型***“FPA-3030i5a”,該設(shè)備使用波長為365納米的“i線”光源,支持直徑從2英寸(約5厘米)到8英寸(約20厘米)的小型基板。分辨率為0.35微米,更新了測量晶圓位置的構(gòu)件和軟件。這是其i-line(365nm波長)步進式光刻系統(tǒng)系列的最新產(chǎn)品,支持包括化合物半導(dǎo)體在內(nèi)的器件制造。新系統(tǒng)的設(shè)計還有助于降低擁有成本。
FPA-3030i5a步進式***設(shè)計用于處理直徑在50mm(2英寸)至200mm(8英寸)之間的小型襯底。
它不僅支持硅晶圓,還支持碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)等常見的化合物半導(dǎo)體材料,這有助于制造各種未來可能出現(xiàn)需求增長的器件,例如用于汽車電氣化的大功率器件和用于5G通信的高帶寬視頻處理和通信器件。
FPA-3030i5a步進式***的硬件和軟件已在其前代產(chǎn)品FPA-3030i5步進式***(2012年6月發(fā)布)基礎(chǔ)上進行了升級,以幫助降低CoO。FPA-3030i5a繼承了FPA-3030i5的解像力,可以曝光0.35μm3的線寬圖案,同時提供了強大的對準(zhǔn)選項并提高了生產(chǎn)效率。新系統(tǒng)采用高速晶圓進給系統(tǒng),可配置處理各種晶圓材料和尺寸,包括直徑為50-200mm的化合物半導(dǎo)體。
FPA-3030i5a采用新的離軸對準(zhǔn)范圍來照亮和測量晶圓對準(zhǔn)標(biāo)記。不用通過投影透鏡觀察標(biāo)記,對準(zhǔn)系統(tǒng)可以采用寬范圍的照明波長來幫助優(yōu)化對準(zhǔn)條件。配備有可選的通硅對位(TSA)系統(tǒng)的FPA-3030i5a步進式***也可以利用紅外光透過襯底進行背面對準(zhǔn)。新的對準(zhǔn)系統(tǒng)還縮短了對準(zhǔn)標(biāo)記測量時間。
縮短的對準(zhǔn)時間、高速的進給系統(tǒng)和升級的軟件使FPA-3030i5a對200mm(8英寸)晶圓實現(xiàn)了123片/小時(wph)的產(chǎn)出,與上一代產(chǎn)品相比,生產(chǎn)效率提高了約17%。新***還采用了新的腔室溫度控制系統(tǒng),可使光刻系統(tǒng)保持在清潔的環(huán)境和恒定的溫度水平。與前代機型相比,新設(shè)計有助于降低約20%的功耗,并且通過這種改進,該系統(tǒng)有助于降低CoO。
佳能總結(jié)說,通過引進FPA-3030i5a和使用其先進功能,該系統(tǒng)擁有者能夠用尺寸從50mm到200mm的、包括硅和SiC、GaN等化合物半導(dǎo)體在內(nèi)的多種晶圓材料,制造特種電源和通信設(shè)備。
在半導(dǎo)體***領(lǐng)域,荷蘭ASML和日本的佳能、尼康3家企業(yè)占據(jù)了全球9成以上的份額。在促進提升半導(dǎo)體性能的精細(xì)化領(lǐng)域,可使用短波長的“EUV”光源的ASML目前處于優(yōu)勢地位。佳能光學(xué)設(shè)備業(yè)務(wù)本部副業(yè)務(wù)部長三浦圣也表示,佳能將根據(jù)半導(dǎo)體材料和基板尺寸等客戶制造的半導(dǎo)體種類來擴大產(chǎn)品線。
按照客戶的需求,對機身及晶圓臺等平臺、投影透鏡、校準(zhǔn)示波器三個主要單元進行開發(fā)和組合,建立齊全的產(chǎn)品群。 佳能還致力于研發(fā)“后期工序”(制作半導(dǎo)體芯片之后的封裝加工等)中使用的***。2020年7月推出了用于515毫米×510毫米大型基板的***。以此來獲取把制成的多個芯片排列在一起、一次性進行精細(xì)布線和封裝的需求。佳能還致力于“納米壓印”(將嵌有電路圖案的模板壓在硅晶圓的樹脂上形成電路)光刻設(shè)備的研發(fā)。據(jù)悉還將著力開展新一代生產(chǎn)工藝的研發(fā)。
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原文標(biāo)題:資訊 | 佳能推出適合高功能半導(dǎo)體的光刻機
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