那曲檬骨新材料有限公司

0
  • 聊天消息
  • 系統消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發帖/加入社區
會員中心
創作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

網傳華為或將入局光刻機?

電子工程師 ? 來源:百家號漫聊新科技 ? 作者:漫聊新科技 ? 2021-05-12 11:14 ? 次閱讀

芯片短缺一直是阻礙中國科學技術發展的難題,很多核心技術所需要的芯片都依賴于海外供貨。然而,國與國之間除“合作共贏”之外,還有“競爭”,加上美國的各種從中阻攔,國企想要真正從海外購取所需芯片,并非那么容易。對此,不少企業開始著力于自主研發,而據爆料,華為也已入局光刻機研發制造。

華為入局光刻機

據“手機晶片達人”微博號消息,華為已經開始在招聘一些從事半導體設備的研發人員。即便該微博沒有透露更多消息,但網友們紛紛猜測,華為這是準備向光刻機領域發展,畢竟這一直是華為的剛需。而其實這樣的消息并非空穴來潮,早在去年,就有消息說華為正在高薪招聘大量集成電路人才。

荷蘭ASML總裁再次表態

除華為方面的一些“風吹草動”,荷蘭ASML總裁多次在公開場合向中國示好,表示十分樂意能夠為中國完善半導體產業鏈提供一些技術設備上的支持。除此之外,ASML還直接在接受采訪時表示,如果再長期對中國實行芯片限制,不但會適得其反,對本身技術發展和經濟領域也是一種傷害,畢竟如果中國真正實現芯片自主,那么也就意味著海外已經丟失中國這個大市場。

除去荷蘭ASML,臺積電也發文宣布,將會投資28.87億美元,在我國南京建廠,用來建設28nm工藝生產線,預計每個月產能達到4萬片。對于臺積電該舉動,網友們也是褒貶不一,有網友認為這是臺積電的一個陰謀,目的就是為了阻礙我國芯片技術發展。也有網友認為,臺積電這個舉動是害怕丟失中國這個市場,直接和中芯國際展開較量。

中國芯片產業發展及意義

在半導體領域內,相比于其他一些國家,我國一直比較薄弱。美國更是借著中國這技術短板,各種“使絆子”。但這也讓國人更加清楚自己的問題,徹底清醒向半導體領域進軍。特別是近幾年,中國在光刻領域不斷取得新的突破,“龍芯”新架構的發布,芯片產業的落地等等,都說明國家對半導體領域發展的決心和態度。而唯有自己實現自主造芯,中國才能不再仰仗他國技術,獨立自主。

作為企業,華為一直秉承自己肩上的責任,為祖國繁榮昌盛出一份力。雖說技術沒有國界,但只有當中國的一些企業真正掌握核心科技,才能在這場芯片戰斗中,占據自己的一席之地。當然,這份責任與擔當不僅落在企業肩上,也落在每個國人身上,奮發而為,用行動去踐行自己的愛國情懷。

編輯:jq

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
  • 芯片
    +關注

    關注

    456

    文章

    51188

    瀏覽量

    427288
  • 華為
    +關注

    關注

    216

    文章

    34536

    瀏覽量

    253010
  • 光刻機
    +關注

    關注

    31

    文章

    1158

    瀏覽量

    47585
  • ASML
    +關注

    關注

    7

    文章

    720

    瀏覽量

    41351

原文標題:華為被爆入局光刻機?荷蘭ASML表態,臺積電突然做出決定!

文章出處:【微信號:AMTBBS,微信公眾號:世界先進制造技術論壇】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

收藏 人收藏

    評論

    相關推薦

    光刻機用納米位移系統設計

    光刻機用納米位移系統設計
    的頭像 發表于 02-06 09:38 ?36次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機</b>用納米位移系統設計

    如何提高光刻機的NA值

    本文介紹了如何提高光刻機的NA值。 為什么光刻機希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號的光刻機配置,每代光刻機的NA值會比上一代更大一些。NA,又名
    的頭像 發表于 01-20 09:44 ?208次閱讀
    如何提高<b class='flag-5'>光刻機</b>的NA值

    光刻機的分類與原理

    本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導體制造工序分類,光刻設備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片
    的頭像 發表于 01-16 09:29 ?444次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機</b>的分類與原理

    組成光刻機的各個分系統介紹

    納米級別的分辨率。本文詳細介紹光刻機的主要組成部分及其功能。 光源系統 ? 光源系統是光刻機的心臟,負責提供曝光所需的能量。早期的光刻機使用汞燈作為光源,但隨著技術的進步,目前多采用
    的頭像 發表于 01-07 10:02 ?411次閱讀
    組成<b class='flag-5'>光刻機</b>的各個分系統介紹

    用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術介紹

    ? 本文介紹了用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術。 芯片制造:光刻技術的演進 過去半個多世紀,摩爾定律一直推動著半導體技術的發展,但當光刻機的光源波長卡在193nm,芯片制程縮小至6
    的頭像 發表于 11-24 11:04 ?976次閱讀
    用來提高<b class='flag-5'>光刻機</b>分辨率的浸潤式<b class='flag-5'>光刻</b>技術介紹

    光刻機的工作原理和分類

    ,是半導體產業皇冠上的明珠。芯片的加工過程對精度要求極高,光刻機通過一系列復雜的技術手段,光束透射過畫著線路圖的掩模,經物鏡補償各種光學誤差,線路圖成比例縮小后映射到硅片上,然后使用化學方法顯影,得到刻在硅片上的電路圖
    的頭像 發表于 11-24 09:16 ?2555次閱讀

    一文看懂光刻機的結構及雙工件臺技術

    ,光刻機作為IC制造裝備中最核心、技術難度最大的設備,其重要性日益凸顯。本文將從光刻機的發展歷程、結構組成、關鍵性能參數以及雙工件臺技術展開介紹。 一、光刻機發展歷程 光刻機的發展歷程
    的頭像 發表于 11-22 09:09 ?1949次閱讀
    一文看懂<b class='flag-5'>光刻機</b>的結構及雙工件臺技術

    俄羅斯首臺光刻機問世

    的一部分,目前正在對其進行測試,該設備可確保生產350nm的芯片。什帕克還指出,到2026年獲得130nm的國產光刻機,下一步將是開發90nm光刻機,并繼續向下邁進。 此前,俄羅斯曾表示,計劃到2026年實現65nm的芯片節點
    的頭像 發表于 05-28 15:47 ?847次閱讀

    臺積電A16制程采用EUV光刻機,2026年下半年量產

    據臺灣業內人士透露,臺積電并未為A16制程配備高數值孔徑(High-NA)EUV光刻機,而選擇利用現有的EUV光刻機進行生產。相較之下,英特爾和三星則計劃在此階段使用最新的High-NA EUV光刻機。
    的頭像 發表于 05-17 17:21 ?1095次閱讀

    光刻機的常見類型解析

    光刻機有很多種類型,但有時也很難用類型進行分類來區別設備,因為有些分類僅是在某一分類下的分類。
    發表于 04-10 15:02 ?2106次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機</b>的常見類型解析

    光刻機的發展歷程及工藝流程

    光刻機經歷了5代產品發展,每次改進和創新都顯著提升了光刻機所能實現的最小工藝節點。按照使用光源依次從g-line、i-line發展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次從接觸接近式光刻機發展到浸沒步進式投影
    發表于 03-21 11:31 ?6805次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機</b>的發展歷程及工藝流程

    ASML 首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 完成安裝

    ASML 官尚未上線 Twinscan NXE:3800E 的信息頁面。 除了正在研發的 High-NA EUV 光刻機 Twinscan EXE 系列,ASML 也為其 NXE 系列傳統數值孔徑
    的頭像 發表于 03-14 08:42 ?601次閱讀
    ASML 首臺新款 EUV <b class='flag-5'>光刻機</b> Twinscan NXE:3800E 完成安裝

    光刻機巨頭ASML要搬離荷蘭?

    據荷蘭《電訊報》3月6日報道,因荷蘭政府的反移民政策傾向,光刻機巨頭阿斯麥(ASML)正計劃搬離荷蘭。
    的頭像 發表于 03-08 14:02 ?1244次閱讀

    光刻機巨頭ASML離開荷蘭 荷蘭政府尋求挽留

    近日,光刻機巨頭ASML傳出可能因荷蘭政府的反移民政策傾向而考慮遷離本國的消息,這令業界嘩然。據悉,荷蘭政府為阻止這一可能發生的變故,已專門成立了由首相馬克·呂特親自掛帥的“貝多芬計劃”特別工作組。
    的頭像 發表于 03-07 15:36 ?847次閱讀

    光刻膠和光刻機的區別

    光刻膠是一種涂覆在半導體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機上的模板掩模來進行曝光。
    的頭像 發表于 03-04 17:19 ?4942次閱讀
    24山分别指什么| 百家乐官网平台信誉排名| 德州扑克比大小| 大发888代理| 水果机单机版| 大发888娱乐场下载ypu rd| 真人百家乐出千| 百家乐官网筹码套装100片| 威尼斯人娱乐网网上百家乐的玩法技巧和规则 | 百家乐任你博娱乐场| 金赞百家乐的玩法技巧和规则| 连环百家乐的玩法技巧和规则| 哪个百家乐平台信誉好| 真博百家乐官网的玩法技巧和规则 | 新天地百家乐的玩法技巧和规则| 玩百家乐请高手指点| 郑州水果机遥控器| 97玩棋牌游戏中心| 昭觉县| 百家乐官网太阳城菲律宾| 百家乐官网群sun811| 江山百家乐官网的玩法技巧和规则 | 赌百家乐咋赢对方| 百家乐玩法最多的娱乐城| 百家乐五星宏辉怎么玩| 百家乐公开| 大发888娱乐下载网址| 鸿盛博娱乐| 澳门百家乐官网游戏皇冠网| 兄弟百家乐官网的玩法技巧和规则 | 真人百家乐官网游戏网| 太阳城百家乐官网公司| 做生意招财小窍门| 百家乐tt娱乐平台| 棋牌下载| 百家乐官网双面数字筹码| 澳门百家乐官网技巧经| 阳宅24山吉凶方位| 百家乐博乐城| 95博彩通| 百家乐官网真人斗地主|