根據(jù) Gartner 分析師 Alan Priestley 的預(yù)測(cè)，0.55 NA EUV 光刻機(jī)單價(jià)將翻番到 3 億美元（約合 20 億元人民幣）。

即便如此，0.55 NA EUV 光刻機(jī)還是得到了芯片廠商的火熱預(yù)購(gòu)。畢竟，這是研發(fā) 2nm 工藝的芯片的必選項(xiàng)。

隨著 0.55 NA EUV 光刻機(jī)量產(chǎn)提上日程，芯片廠商的“2nm 工藝戰(zhàn)”也將徹底打響。

最先進(jìn)的節(jié)點(diǎn)92%來(lái)自中國(guó)臺(tái)灣臺(tái)積電，臺(tái)積電在開發(fā)2納米芯片的量產(chǎn)技術(shù)方面處于領(lǐng)先地位。2019年，臺(tái)積電便宣布啟動(dòng)2nm工藝的研發(fā)，使其成為第一家宣布開始研發(fā)2nm工藝的公司。

就在今年6月 5日臺(tái)積電宣布將投資1 萬(wàn)億新臺(tái)幣擴(kuò)大2nm工藝芯片的產(chǎn)量。

臺(tái)積電的2nm開發(fā)已經(jīng)走上正軌，魏哲家表示，臺(tái)積電2納米技術(shù)去年已經(jīng)進(jìn)入技術(shù)開發(fā)階段，著重于測(cè)試載具的設(shè)計(jì)與實(shí)作、光罩制作、以及硅試產(chǎn)。

同為美國(guó)公司的英特爾公司也在進(jìn)行 2 納米工藝的研發(fā)。據(jù)英特爾的最新路線圖，2024 年上半年英特爾的Intel 20A（20 埃 = 2nm）工藝將亮相，新節(jié)點(diǎn)將帶來(lái) 15% 的性能提升。

早先日本已經(jīng)吸引了臺(tái)積電赴日本建立晶圓廠，但該工廠將只生產(chǎn)從10nm到20nm 范圍的不太先進(jìn)的半導(dǎo)體。此次啟動(dòng)與美國(guó)的合作，也代表了日本向2nm先進(jìn)工藝進(jìn)擊的決心。

文章綜合AI前線、半導(dǎo)體觀察

編輯：黃飛