中科院宣布2nm芯片光刻機是關鍵 中科院研發成功2nm光刻機
美國修改了出口管制規定，將華為列入了“實體清單”后，一時之間“中國芯”成了一股熱流，美國意圖通過阻斷芯片的供應來扼制住華為，扼制中國科技的發展，眾所周知芯片設備在國內還是比較先進的，我國在對芯片的研發上還需要突破。
就在我們在自己研制芯片得不到進展，國外的芯片被斷供的困局中，中科院傳來了一則振奮人心的消息：中科院的研究人員表示已經突破了設計2nm芯片的瓶頸，成功地掌握了設計2nm芯片的技術，只要機器到位，就能實現量產。
雖然我們在芯片突破了2nm技術，但是芯片能夠得到量產還有最大的因素那就是光刻機設備。
目前國內芯片技術面臨的最大難題，那就是缺少高端光刻機的支持。光刻機是生產芯片時必備的機器，沒有光刻機就無法生產出芯片，甚至是高端芯片需要更高端光刻機的支持。
也就是說我們現在要想生產出來2nm芯片即必須需要2nm精度的高端光刻機的支持，而世界上能達到這種精度的光刻機還沒造出來。目前光刻機技術最先進的是荷蘭的ASML公司，但是最高精度也才5nm。
來源：skr科技，教育家資訊綜合整理
審核編輯 ：李倩
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