euv光刻機目前幾納米 中國5納米光刻機突破了嗎
大家都知道，芯片制造的核心設備之一就是光刻機了。現(xiàn)在，全球最先進的光刻機是荷蘭ASML的EUV光刻機，那么euv光刻機目前幾納米呢？
到現(xiàn)在，世界上最先進的光刻機能夠?qū)崿F(xiàn)5nm的加工。也就是荷蘭ASML的極紫外光刻機（EUV），這個是當前世界頂級的光刻機設備。
在芯片加工的時候，光刻機是用一系列光源能量和形狀控制手段，通過帶有電路圖的掩模傳輸光束。
光刻設備涉及系統(tǒng)集成、精密光學、精密運動、精密材料傳輸、高精度微環(huán)境控制等多項先進技術。是半導體行業(yè)技術含量最高的設備。
文章綜合懂視網(wǎng)、CSDN、百度百科
審核編輯：何安
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
-
光刻機
+關注
關注
31文章
1157瀏覽量
47583 -
EUV
+關注
關注
8文章
608瀏覽量
86146
發(fā)布評論請先 登錄
相關推薦
納米壓印光刻技術應用在即，能否掀起芯片制造革命？
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/李寧遠）提及芯片制造，首先想到的自然是光刻機和光刻技術。而眾所周知，EUV光刻機產(chǎn)能有限而且成本高昂，業(yè)界一直都在探索不完全依賴于
如何提高光刻機的NA值
本文介紹了如何提高光刻機的NA值。 為什么光刻機希望有更好的NA值？怎樣提高？ ? 什么是NA值？ ? 如上圖是某型號的光刻機配置，每代光刻機的NA值會比上一代更大一些。NA，又名
光刻機的分類與原理
本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導體制造工序分類，光刻設備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片
組成光刻機的各個分系統(tǒng)介紹
納米級別的分辨率。本文將詳細介紹光刻機的主要組成部分及其功能。 光源系統(tǒng) ? 光源系統(tǒng)是光刻機的心臟，負責提供曝光所需的能量。早期的光刻機使用汞燈作為光源，但隨著技術的進步，
日本首臺EUV光刻機就位
據(jù)日經(jīng)亞洲 12 月 19 日報道，Rapidus 成為日本首家獲得極紫外 (EUV) 光刻設備的半導體公司，已經(jīng)開始在北海道芯片制造廠內(nèi)安裝極紫外光刻系統(tǒng)。 它將分四個階段進行安裝，設備安裝預計在
用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術介紹
? 本文介紹了用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術。 芯片制造：光刻技術的演進 過去半個多世紀，摩爾定律一直推動著半導體技術的發(fā)展，但當光刻機的光源波長卡在193nm，芯片制程縮小至6
光刻機的工作原理和分類
? 本文介紹了光刻機在芯片制造中的角色和地位，并介紹了光刻機的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機：芯片制造的關鍵角色 ? ? 光刻機在芯片制造中占據(jù)著至關重要的地位，被譽為芯片制
俄羅斯首臺光刻機問世
據(jù)外媒報道，目前，俄羅斯首臺光刻機已經(jīng)制造完成并正在進行測試。 俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長瓦西里-什帕克（Vasily Shpak）表示，已組裝并制造了第一臺國產(chǎn)光刻機，作為澤廖諾格勒技術生產(chǎn)線
荷蘭阿斯麥稱可遠程癱瘓臺積電光刻機
disable）臺積電相應機器，而且還可以包括最先進的極紫外光刻機（EUV）。 這就意味著阿斯麥（ASML）留了后門，隨時有能力去遠程癱瘓制造芯片的光刻機。 要知道我國大陸市場已經(jīng)連續(xù)三個季度成為阿斯麥（ASML）最大市場，而
臺積電A16制程采用EUV光刻機，2026年下半年量產(chǎn)
據(jù)臺灣業(yè)內(nèi)人士透露，臺積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑（High-NA）EUV光刻機，而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機進行生產(chǎn)。相較之下，英特爾和三星則計劃在此階段使用最新的High-N
ASML發(fā)貨第二臺High NA EUV光刻機，已成功印刷10nm線寬圖案
ASML公司近日宣布發(fā)貨了第二臺High NA EUV光刻機，并且已成功印刷出10納米線寬圖案，這一重大突破標志著半導體制造領域的技術革新向前邁進了一大步。
英特爾突破技術壁壘：首臺商用High NA EUV光刻機成功組裝
英特爾的研發(fā)團隊正致力于對這臺先進的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻機進行細致的校準工作，以確保其能夠順利融入未來的生產(chǎn)線。
光刻機的發(fā)展歷程及工藝流程
光刻機經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展，每次改進和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機所能實現(xiàn)的最小工藝節(jié)點。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次從接觸接近式
發(fā)表于 03-21 11:31
?6794次閱讀
ASML 首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 完成安裝
EUV 光刻機持續(xù)更新升級，未來目標在 2025 年推出 NXE:4000F 機型。 上兩代 NXE 系列機型 3400C 和 3600D 分別適合 7~5、5~3
工商網(wǎng)監(jiān)
評論