芯片想必大家都很熟悉,光刻機是是制造芯片的核心裝備,并且光刻機只有一小部分國家擁有,那么光刻機為什么這么難呢?
據說越小的東西,建造起來就越困難。 這句話不是沒有道理的。 盡管手機中的芯片只有指甲那么大,但制作過程卻非常復雜。
光刻機的研發是需要非常多的資金支持,是用錢和技術堆起來的,許多企業都不能承受高昂的費用。而美國和一些國家來研究光刻機,每年都要投入幾十甚至上百億的研發。所以光刻機非常燒錢。
另外光刻機的光源難度也非常大,并且光刻機不是短時間就能成功制造的。光刻機的歷史比較久,在90年代的時候就有發達國家開始研究光刻機相關的技術了。并且光刻機的研究不僅僅是一個國家就能研發,還需要其他國家的生產力和科技支持。
本文綜合自酷奇網、百度百科、解碼最前沿
編輯:何安
聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。
舉報投訴
-
光刻機
+關注
關注
31文章
1157瀏覽量
47583
發布評論請先 登錄
相關推薦
如何提高光刻機的NA值
本文介紹了如何提高光刻機的NA值。 為什么光刻機希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號的光刻機配置,每代光刻機的NA值會比上一代更大一些。NA,又名
組成光刻機的各個分系統介紹
? 本文介紹了組成光刻機的各個分系統。 光刻技術作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機是實現這一工藝的核心設備,它的工作原理類似于傳統攝影中的曝光過程,但精度要求極高,能夠達到
用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術介紹
? 本文介紹了用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術。 芯片制造:光刻技術的演進 過去半個多世紀,摩爾定律一直推動著半導體技術的發展,但當光刻機的光源波長卡在193nm,芯片制程縮小至6
光刻機的工作原理和分類
? 本文介紹了光刻機在芯片制造中的角色和地位,并介紹了光刻機的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機:芯片制造的關鍵角色 ? ? 光刻機在芯片制造中占據著至關重要的地位,被譽為芯片制
一文看懂光刻機的結構及雙工件臺技術
,光刻機作為IC制造裝備中最核心、技術難度最大的設備,其重要性日益凸顯。本文將從光刻機的發展歷程、結構組成、關鍵性能參數以及雙工件臺技術展開介紹。 一、光刻機發展歷程 光刻機的發展歷程
俄羅斯首臺光刻機問世
據外媒報道,目前,俄羅斯首臺光刻機已經制造完成并正在進行測試。 俄羅斯聯邦工業和貿易部副部長瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)表示,已組裝并制造了第一臺國產光刻機,作為澤廖諾格勒技術生產線
荷蘭阿斯麥稱可遠程癱瘓臺積電光刻機
阿斯麥稱可遠程癱瘓臺積電光刻機 據彭博社爆料稱,有美國官員就大陸攻臺的后果私下向荷蘭和中國臺灣官員表達擔憂。對此,光刻機制造商阿斯麥(ASML)向荷蘭官員保證,可以遠程癱瘓(remotely
臺積電A16制程采用EUV光刻機,2026年下半年量產
據臺灣業內人士透露,臺積電并未為A16制程配備高數值孔徑(High-NA)EUV光刻機,而選擇利用現有的EUV光刻機進行生產。相較之下,英特爾和三星則計劃在此階段使用最新的High-NA EUV光刻機。
光刻機的發展歷程及工藝流程
光刻機經歷了5代產品發展,每次改進和創新都顯著提升了光刻機所能實現的最小工藝節點。按照使用光源依次從g-line、i-line發展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次從接觸接近式光刻機發展到浸沒步進式投影
發表于 03-21 11:31
?6794次閱讀
ASML 首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 完成安裝
3 月 13 日消息,光刻機制造商 ASML 宣布其首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 已完成安裝,新機型將帶來更高的生產效率。 ▲ ASML 在 X 平臺上的相關動態
英特爾成為全球首家購買3.8億美元高數值孔徑光刻機的廠商
英特爾最近因決定從荷蘭 ASML 購買世界上第一臺高數值孔徑(High-NA)光刻機而成為新聞焦點。到目前為止,英特爾是全球唯一一家訂購此類光刻機的晶圓廠,據報道它們的售價約為3.8億美元
評論