近日，華中科技大學劉世元教授團隊成功打破國外壟斷，成功研發中國首款完全自主可控的OPC芯片光刻軟件。

沒有它，即使有***，也沒有辦法保證高良率、大批量、低成本的制造芯片！

目前，全球OPC工具軟件市場被ASML-Brion、Synopsys、Mentor等三家美國公司壟斷。

***系統巨頭ASML

“從基礎研究到產業化應用，我們團隊整整走了十年。十年磨一劍，就是要解決芯片從設計到制造整個環節被國外卡脖子的問題！”劉世元接受湖北衛視采訪時表示。

劉世元動情地表示,“希望自己的研究成果能夠快速應用到實際生產中，轉化成產品，為中國芯片制造做出貢獻。今后，他還將帶領團隊和由他所創辦的宇微光學軟件有限公司加快產品推廣步伐，加快進入國內外芯片制造市場，力爭在全球芯片產業鏈中占有一席之地！”

武漢宇微光學軟件有限公司

OPC芯片光刻軟件，即光學鄰近校正（Optical Proximity Correction）軟件，是用于增強芯片光刻效果的一種軟件。目的是為了保證芯片光刻過程中圖形的邊緣得到完整的刻蝕。

光刻是芯片制造中最為關鍵的一種工藝，但是由于光學鄰近效應的存在，原始版圖通過光線照射到硅片表面成像時，會發生一定的失真，如出現線寬不均、線端縮短、邊角圓化等光學鄰近效 應，因此需要采用一些技術手段校正。通常是通過改變硅片表面的曝光強度，最終使得曝光 后硅片上輪廓與期望得到的目標輪廓相似。

光學鄰近效應

計算光刻流程

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華中科技大學（Huazhong University of Science and Technology），簡稱華科大 ，位于湖北省武漢市，是中華人民共和國教育部直屬的綜合性研究型全國重點大學、國家“雙一流”“985工程”“211工程”、“強基計劃”“111計劃”等計劃成員。

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劉世元教授簡介

劉世元教授

劉世元（Liu Shiyuan，Professor），機械科學與工程學院、光學與電子信息學院雙聘教授，華中科技大學集成電路測量裝備研究中心主任，同時也是光谷實驗室集成電路測量檢測技術創新中心主任。他早年師從著名機械學家楊叔子院士，于1998年獲工學博士學位。

主要從事納米光學測量技術與儀器、集成電路IC制造在線測量技術與裝備、光刻成像理論與計算光刻、新型橢偏儀研制與光電材料表征測量等方面的研究工作，致力于光學工程、精密機械、儀器科學、集成電路、光電材料等學科的交叉融合，強調基礎研究與產業應用并重。

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