半導體清洗除塵，用于去除芯片生產(chǎn)中產(chǎn)生的各種沾污雜質(zhì)，是芯片制造中步驟最多的工藝。每一步光刻、刻蝕、沉積、離子注入、CMP(化學機械拋光)后均需要清洗。長久以來，半導體清洗設(shè)備沒有***、刻蝕機、沉積設(shè)備的耀眼光芒，常常被人們所忽視，甚至有人認為，芯片生產(chǎn)中所用的清洗設(shè)備，并不具有很高的技術(shù)門檻。事實真的如此嗎?本文將從半導體清洗設(shè)備-非接觸精密除塵設(shè)備來探討上述問題。

在芯片制造過程中會有各種各樣的雜質(zhì)，其中可以追溯的污染源有顆粒、金屬、有機物等沾污，這些污染源是芯片良率下降的罪魁禍首，芯片制造需要在無塵室中進行，如果在制造過程中，有沾污現(xiàn)象，將影響芯片上器件的正常功能。沾污雜質(zhì)是指半導體制造過程中引入的任何危害芯片成品率及電學性能的物質(zhì)。沾污雜質(zhì)導致芯片電學失效，導致芯片報廢。據(jù)估計，80%的芯片電學失效都是由沾污帶來的缺陷引起的。所以在芯片制造過程中對于芯片的清潔除塵潔凈異常重要。

早些時期半導體常使用濕式清洗除塵方法，濕式清洗除塵通常使用超純水或者化學藥水來清洗除塵，優(yōu)點就是價格低廉，缺點是有時化學藥水或者超純水會把產(chǎn)品損害。隨著科技技術(shù)的進步，人們對半導體的清洗除塵要求越來越高，不僅要保證產(chǎn)品的良率達到一定的標準，還需要清洗除塵的程度達到不錯的水平。所以旋風非接觸精密除塵設(shè)備就應(yīng)運而生，主要是針對精密器件除塵清潔，比如半導體封裝、攝像頭、顯示器、芯片等領(lǐng)域清潔除塵。自旋風非接觸精密除塵設(shè)備上市以來，就憑借它的優(yōu)勢讓各行業(yè)的朋友對它青睞有加。它可以適應(yīng)的產(chǎn)品類型很多，不僅對平面，對凹凸面、立體表面部件也具有高效的潔凈效果；它布局靈活，設(shè)置合理，可以在原有的產(chǎn)線上安裝調(diào)配；它具有節(jié)能、環(huán)保的優(yōu)勢，非接觸除塵設(shè)備的高旋轉(zhuǎn)軸是以氣壓驅(qū)動，并不使用電能，連續(xù)長時間運轉(zhuǎn)設(shè)備也非常節(jié)能環(huán)保。旋風非接觸除塵設(shè)備的優(yōu)勢還有很多，如果對精密器件除塵的朋友有需求都歡迎來咨詢上海攏正半導體。

審核編輯 黃宇