EUV光刻光源核心部件研究獲新進展
國內權威期刊《激光與光電子學進展》日前發表由中國科學院上海光學精密機械研究所團隊提交的《100 kHz重復頻率錫液滴靶研究》一文。
據本文介紹，錫液滴發生器是激光等離子型極紫外線（lpp-euv）光刻光源中最重要的核心部件之一。錫液滴目標具有高反復頻率，小直徑和穩定性好的特性。這篇論文顯示了上海光儀器euv光源組最近對水滴發生器的研究發展，包括水滴的直徑、重復頻率、間隔、位置及穩定性等。
目前，該研究所小組研制的錫珠發生器實驗裝置是100 khz頻率噴射的錫珠直徑40米，間隔230米，工作時間約5h。在10s的短時間內，豎直和水平方向的位置分別為2米和1米左右不穩定。
但是現在商用產品相比，上述的指標仍有很大的差距，例如，2015年asml產品中使用液體滴桿、晚，液滴的直徑27米左右、頻率50 khz、液滴間隔大于1 mm，最大3 mm，液滴30 s的位置不穩定性~ 1 m，短時間內能夠實現。液滴直徑在20分鐘以內的不穩定性為0.5米。
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