電子發燒友網報道(文/莫婷婷)在AR設備的硬件成本中,光學顯示元器件占整個硬件近4成的比例。隨著顯示技術的發展,“光波導+Micro-LED”被認為是AR設備近眼顯示技術的趨勢。而Micro-LED微顯示芯片的迭代正是關鍵。
今年上半年,鐳昱發布了0.11英寸及0.22英寸單片全彩Micro-LED微顯示屏系列,帶來國產Micro-LED微顯示行業的又一大突破。就在近期,電子發燒友網采訪到鐳昱創始人兼CEO莊永漳博士,探討了微顯示領域的發展機遇與挑戰,以及公司未來的戰略布局。
0.11英寸,打破Micro-LED芯片最小尺寸紀錄
作為微顯示領域的新秀企業,鐳昱的發展可以說是很快,并且為國產微顯示領域的發展帶來了新的成績。
資料顯示,鐳昱在2022年10月成功點亮0.39英寸單片全彩Micro-LED微顯示芯片,今年5月份正式發布0.11英寸及0.22英寸單片全彩Micro-LED微顯示屏系列。作為鐳昱的新一代標準化單片全彩Micro-LED微顯示屏系列,產品一經亮相便引起業內關注。
其中,0.11英寸單片全彩微顯示屏在發布后,打破了全彩微顯示芯片的最小尺寸紀錄,重量僅為0.23g,分辨率為320x240。0.22英寸單片全彩微顯示屏重量0.29g,全彩分辨率達到640x480。在其他性能方面,該系列芯片實現了3.5微米的像素間距,Micro-LED像素密度達7200PPI,全彩亮度超10萬尼特,并且能夠用于-20℃~85℃的工作溫度。
莊永漳博士介紹,0.11英寸單片全彩微顯示屏是目前全球最小的Micro-LED微顯示芯片,基于產品的優異性能,鐳昱的微顯示屏系列能夠面向C端以及B端的多個應用領域。
圖:鐳昱0.22/0.11英寸單片全彩Micro-LED微顯示屏
作為微顯示領域的新秀企業,鐳昱有著哪些實力支撐公司產品迭代并且具備高度可量產性,又為何選擇進入Micro-LED微顯示這個領域。
莊永漳博士回憶,鐳昱的創始團隊從2005年開始就已經投入微顯示領域的研究,于2013年開發出第一款基于三色合光方案的Micro-LED微投影,但是光機體積大,成本也高。通過不斷地研發投入,在2014年發布了業界第一款采用量子點噴墨打印技術做出的全彩Micro-LED微顯示芯片。
在歷經將近17年的技術沉淀之后,鐳昱于2019年正式發布采用自研光刻式量子點技術的全彩Micro-LED微顯示芯片。光刻式量子點技術也正是鐳昱的核心技術,為鐳昱接下來推出0.11英寸及0.22英寸的單片全彩Micro-LED微顯示屏打下了堅實的技術支撐。
17年磨一劍,自研光刻式量子點技術
Micro-LED顯示技術路線分為兩種,一種是巨量轉移,另一種是單片集成。兩大技術各有各的優勢以及適用領域,巨量轉移技術的關鍵尺寸由轉移設備決定,但轉移效率、良率會比較受限,適用于例如中低像素密度的背光模組以及大屏顯示。單片集成技術是全流程半導體工藝制造,關鍵尺寸由***定義,更適用于高分辨率高像素密度的微顯示。
鐳昱的研究方向正是圍繞單片集成技術所展開。莊永漳博士認為,AR設備的空間非常小,需要用光學模組把顯示屏的內容信息放大,變成虛擬的影像。所以需要在非常小的顯示屏中集成大量的像素點。采用半導體技術的單片集成,可以在CMOS驅動晶圓上通過微顯示器件的設計及工藝,使得像素點尺寸更小、像素間距更小,提供更好的視覺體驗,這也是下一代最適合AR智能眼鏡的顯示方案。
傳統單片集成技術大多數是采用倒裝(Flip-chip)技術路線,優勢在于Micro-LED和Backplane分別制作,但是對準精度要求高,且鍵合良率低,光串擾嚴重。只不過以前采用Micro-LED技術的產品對分辨率的要求尚不高,在技術上也能夠滿足。
但隨著AR智能眼鏡對分辨率、像素密度的要求越來越高,特別是AR智能眼鏡的像素間距要求一般是要小于10微米,傳統單片集成技術很難支持高端Micro-LED微顯示的實現。
進入新技術領域的玩家,必須在這個領域有著足夠的技術實力,才能實現顛覆性突破,成為“變局者”。
在技術方面,鐳昱創新重構單片集成技術,采用大尺寸晶圓級鍵合技術,配合自研光刻式量子點工藝(QDPR),于藍光Micro-LED像素上定義紅、綠光量子點圖形,在更小的芯片封裝體積上實現了全彩顯示。整個技術路線全程采用標準半導體工藝,在精度、效率以及量產性方面都高于其他技術方案。所有器件圖形尺寸均由高精度***定義,在實現超高分辨率、超高像素密度的同時,保證了高量產性。
圖:鐳昱8英寸Micro-LED微顯示芯片晶圓
莊永漳博士向電子發燒友網表示,鐳昱全彩技術最關鍵的就是光刻式量子點技術,這也是難度最高的技術之一。一是關鍵尺寸由***定義,也就是說***的精度決定了Micro-LED微顯示芯片的顯示效果;二是材料和工藝的配合。
在材料方面,標準的QD材料和標準的PR材料,是不能夠直接兼容的,如何將兩者的優勢合理地結合在一起,是實現QDPR最大的技術難點。
圖形化的挑戰也不少,要實現高光效高分辨率的QDPR,QD材料與PR材料特性之間是互相制約的。高光效意味著QD的轉換光效要高,濃度要高,但是高濃度會導致PR成分減少,進而導致光刻分辨率降低,圖形化精度變差,兩者需要做一些特殊的處理,尋找一個最佳平衡點。
圖:鐳昱量子點光刻膠(電子發燒友網攝)
通過不斷的嘗試,鐳昱最終實現了高分辨率與高轉換效率的平衡。鐳昱開發出的QDPR方案可以將標準的QD材料和標準的PR材料通過創新性的技術整合到一起,在保證高轉換光效的同時,保留了高分辨率的光刻膠特性。
“市場上的量子點光刻膠的可能要把厚度做到10微米以上,才有足夠的轉化效率,鐳昱已經做到厚度在2微米以下的量子點光刻膠,既能匹配Micro-LED對超小像素尺寸的要求,又能保證高吸收效率,可以把藍光完全轉化成綠光跟紅光,從而實現芯片全彩化。未來我們也會持續進行研發迭代,不斷提升產品性能,以期為消費級AR眼鏡的發展帶來更大的突破。”莊永漳博士表示。
小結:
在AR智能眼鏡的光學顯示細分領域,光波導+Micro-LED被認為是下一代的光學顯示的最佳解決方案。為了實現更好的視覺體驗,鐳昱將與光波導企業共同合作,用更好的Micro-LED微顯示芯片匹配更好的光波導顯示器件,最終配合整機廠打造性能更強的AR智能眼鏡。
“元宇宙”的出現,曾經讓AR領域的企業為之激動、“瘋狂”,當這個像風口般的概念進入冷靜期,產業鏈上的玩家也開始思考真正實際的應用方向。隨著鐳昱等國產Micro-LED微顯示芯片玩家在市場上初露頭角,這個市場進入下一個成長階段。
今年上半年,鐳昱發布了0.11英寸及0.22英寸單片全彩Micro-LED微顯示屏系列,帶來國產Micro-LED微顯示行業的又一大突破。就在近期,電子發燒友網采訪到鐳昱創始人兼CEO莊永漳博士,探討了微顯示領域的發展機遇與挑戰,以及公司未來的戰略布局。
0.11英寸,打破Micro-LED芯片最小尺寸紀錄
作為微顯示領域的新秀企業,鐳昱的發展可以說是很快,并且為國產微顯示領域的發展帶來了新的成績。
資料顯示,鐳昱在2022年10月成功點亮0.39英寸單片全彩Micro-LED微顯示芯片,今年5月份正式發布0.11英寸及0.22英寸單片全彩Micro-LED微顯示屏系列。作為鐳昱的新一代標準化單片全彩Micro-LED微顯示屏系列,產品一經亮相便引起業內關注。
其中,0.11英寸單片全彩微顯示屏在發布后,打破了全彩微顯示芯片的最小尺寸紀錄,重量僅為0.23g,分辨率為320x240。0.22英寸單片全彩微顯示屏重量0.29g,全彩分辨率達到640x480。在其他性能方面,該系列芯片實現了3.5微米的像素間距,Micro-LED像素密度達7200PPI,全彩亮度超10萬尼特,并且能夠用于-20℃~85℃的工作溫度。
莊永漳博士介紹,0.11英寸單片全彩微顯示屏是目前全球最小的Micro-LED微顯示芯片,基于產品的優異性能,鐳昱的微顯示屏系列能夠面向C端以及B端的多個應用領域。
圖:鐳昱0.22/0.11英寸單片全彩Micro-LED微顯示屏
作為微顯示領域的新秀企業,鐳昱有著哪些實力支撐公司產品迭代并且具備高度可量產性,又為何選擇進入Micro-LED微顯示這個領域。
莊永漳博士回憶,鐳昱的創始團隊從2005年開始就已經投入微顯示領域的研究,于2013年開發出第一款基于三色合光方案的Micro-LED微投影,但是光機體積大,成本也高。通過不斷地研發投入,在2014年發布了業界第一款采用量子點噴墨打印技術做出的全彩Micro-LED微顯示芯片。
在歷經將近17年的技術沉淀之后,鐳昱于2019年正式發布采用自研光刻式量子點技術的全彩Micro-LED微顯示芯片。光刻式量子點技術也正是鐳昱的核心技術,為鐳昱接下來推出0.11英寸及0.22英寸的單片全彩Micro-LED微顯示屏打下了堅實的技術支撐。
17年磨一劍,自研光刻式量子點技術
Micro-LED顯示技術路線分為兩種,一種是巨量轉移,另一種是單片集成。兩大技術各有各的優勢以及適用領域,巨量轉移技術的關鍵尺寸由轉移設備決定,但轉移效率、良率會比較受限,適用于例如中低像素密度的背光模組以及大屏顯示。單片集成技術是全流程半導體工藝制造,關鍵尺寸由***定義,更適用于高分辨率高像素密度的微顯示。
鐳昱的研究方向正是圍繞單片集成技術所展開。莊永漳博士認為,AR設備的空間非常小,需要用光學模組把顯示屏的內容信息放大,變成虛擬的影像。所以需要在非常小的顯示屏中集成大量的像素點。采用半導體技術的單片集成,可以在CMOS驅動晶圓上通過微顯示器件的設計及工藝,使得像素點尺寸更小、像素間距更小,提供更好的視覺體驗,這也是下一代最適合AR智能眼鏡的顯示方案。
傳統單片集成技術大多數是采用倒裝(Flip-chip)技術路線,優勢在于Micro-LED和Backplane分別制作,但是對準精度要求高,且鍵合良率低,光串擾嚴重。只不過以前采用Micro-LED技術的產品對分辨率的要求尚不高,在技術上也能夠滿足。
但隨著AR智能眼鏡對分辨率、像素密度的要求越來越高,特別是AR智能眼鏡的像素間距要求一般是要小于10微米,傳統單片集成技術很難支持高端Micro-LED微顯示的實現。
進入新技術領域的玩家,必須在這個領域有著足夠的技術實力,才能實現顛覆性突破,成為“變局者”。
在技術方面,鐳昱創新重構單片集成技術,采用大尺寸晶圓級鍵合技術,配合自研光刻式量子點工藝(QDPR),于藍光Micro-LED像素上定義紅、綠光量子點圖形,在更小的芯片封裝體積上實現了全彩顯示。整個技術路線全程采用標準半導體工藝,在精度、效率以及量產性方面都高于其他技術方案。所有器件圖形尺寸均由高精度***定義,在實現超高分辨率、超高像素密度的同時,保證了高量產性。
莊永漳博士向電子發燒友網表示,鐳昱全彩技術最關鍵的就是光刻式量子點技術,這也是難度最高的技術之一。一是關鍵尺寸由***定義,也就是說***的精度決定了Micro-LED微顯示芯片的顯示效果;二是材料和工藝的配合。
在材料方面,標準的QD材料和標準的PR材料,是不能夠直接兼容的,如何將兩者的優勢合理地結合在一起,是實現QDPR最大的技術難點。
圖形化的挑戰也不少,要實現高光效高分辨率的QDPR,QD材料與PR材料特性之間是互相制約的。高光效意味著QD的轉換光效要高,濃度要高,但是高濃度會導致PR成分減少,進而導致光刻分辨率降低,圖形化精度變差,兩者需要做一些特殊的處理,尋找一個最佳平衡點。
通過不斷的嘗試,鐳昱最終實現了高分辨率與高轉換效率的平衡。鐳昱開發出的QDPR方案可以將標準的QD材料和標準的PR材料通過創新性的技術整合到一起,在保證高轉換光效的同時,保留了高分辨率的光刻膠特性。
“市場上的量子點光刻膠的可能要把厚度做到10微米以上,才有足夠的轉化效率,鐳昱已經做到厚度在2微米以下的量子點光刻膠,既能匹配Micro-LED對超小像素尺寸的要求,又能保證高吸收效率,可以把藍光完全轉化成綠光跟紅光,從而實現芯片全彩化。未來我們也會持續進行研發迭代,不斷提升產品性能,以期為消費級AR眼鏡的發展帶來更大的突破。”莊永漳博士表示。
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在AR智能眼鏡的光學顯示細分領域,光波導+Micro-LED被認為是下一代的光學顯示的最佳解決方案。為了實現更好的視覺體驗,鐳昱將與光波導企業共同合作,用更好的Micro-LED微顯示芯片匹配更好的光波導顯示器件,最終配合整機廠打造性能更強的AR智能眼鏡。
“元宇宙”的出現,曾經讓AR領域的企業為之激動、“瘋狂”,當這個像風口般的概念進入冷靜期,產業鏈上的玩家也開始思考真正實際的應用方向。隨著鐳昱等國產Micro-LED微顯示芯片玩家在市場上初露頭角,這個市場進入下一個成長階段。
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