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Micro LED顯示技術及其產業化應用趨勢

第三代半導體產業 ? 來源:第三代半導體產業 ? 2023-12-09 16:40 ? 次閱讀

Micro LED具有低功耗、高亮度、高分辨率等優點,有數據顯示,受智能穿戴和超高清大屏顯示需求影響,全球Micro LED顯示器的出貨量2027年將飆升至1600多萬片, 市場需求潛力大。LCD、OLED與LED是實現超高清顯示的三大重要技術路線,其中LCD、OLED起源發展于日韓美等國家,相關技術與專利均被國外壟斷。

近年來,LED半導體顯示技術競爭上升到國家戰略層面。LED超高清顯示領域,國內外處于同一起跑線,中國最有可能實現彎道超車,成為全球LED顯示產業引領者。

近日,在廈門召開的第九屆國際第三代半導體論壇(IFWS)&第二十屆中國國際半導體照明論壇(SSLCHINA)的“Mini/Micro-LED技術產業應用論壇”上,佛山市國星光電股份有限公司Micro LED 項目技術負責人趙龍帶來了“Micro LED顯示技術及其產業化應用趨勢分析”的主題報告,分享了Micro LED關鍵技術及其面臨的挑戰、Micro LED產業化趨勢及其國星產品規劃等內容。涉及Micro LED芯片制備技術、Micro LED巨量轉移技術、Micro LED巨量鍵合技術、Micro LED全彩化技術、Micro LED檢測&修復技術等。

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Micro LED芯片制備技術方面,對于 Micro LED芯片,芯片尺寸微縮,無法再使用傳統的傳統的挑揀( Sorting)與分選( Binning)技術, 因此外延需要極高的波長均勻性,外延片波長均勻性需控制在 0.8 nm甚至更小。優化襯底結構,襯底厚度等;嚴格控制生長過程中的溫度及氣流;優化生長過程中的外延翹曲。

對于 Micro LED芯片電流往往非常小,因此需要在低電流密度下外量子效率剛好為芯片峰值效率,外延中缺陷密度和內應力均會導致其外量子效率較低,相對于Micro LED芯片的外延需控制位錯密度在107cm-2。優化外延結構減少內部應力;提升電子空穴濃度,減少P-GaN缺陷密度。

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Micro LED巨量轉移技術研究方面,開展了兩種Micro LED巨量轉移工藝驗證,通過轉移膜材和轉移工藝參數優化,目前可以實現彈性印章轉移UPH最高達10KK/h ,激光轉移效率UPH最高可達80KK/h,轉移精度±2微米。

Micro LED巨量鍵合技術研究方面,開展Micro LED芯片巨量鍵合工藝研究,開發了多梯度溫度共晶鍵合工藝,有效減少共晶層空洞率,提高陣列焊料互聯質量,Micro LED全彩模組巨量轉移&巨量鍵合綜合良率提升至99.99%。Micro LED量子點全彩技術研究方面,量子點色轉換層(QDCC)技術研究上,設計并制備出一種低藍光透過率的QDCC結構,通過在QDCC結構中集成藍光吸收層,使得紅色像素中藍光透過率由15.9%降低至1.2%,綠色像素中藍光透過率由38%降低至2.4%,大大提高了全彩模組顯色準確性。

Micro LED量子點全彩技術研究,開發了藍光Micro LED模組和QDCC基板精準對位貼合工藝,模組對貼偏移量<2微米,制備出P0.1 PM-Micro LED全彩顯示模組,模組點亮率>99.9%,綁定驅動IC后可以實現圖畫和字符顯示。

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報告指出,Micro LED 在超大尺寸安防屏/會議屏、車載顯示屏、數字化車燈、可穿戴設備等領域具有廣闊的產業化與商業化應用前景。Micro LED高亮、低功耗性能優勢,有望成為下一代主流顯示技術。國星光電Micro LED產品布局,聚焦“一大一小”顯示應用領域的產品類型。MIP(Micro LED in Package)新型封裝架構器件、Micro LED 智能手表屏、Micro LED數字化車燈光源、Micro LED AR眼鏡微顯示屏等方面取得了不錯的研究成果。






審核編輯:劉清

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原文標題:國星光電趙龍:Micro LED顯示技術及其產業化應用趨勢

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