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三星電子采用大規模回流模制底部填充技術嗎?

微云疏影 ? 來源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2024-03-13 16:07 ? 次閱讀

據報道,隨著人工智能浪潮引發對高性能半導體的巨量需求,三星電子計劃引進SK海力士的大規模回流模制底部填充(MR-MUF)技術。但此消息被三星否認,其聲明顯示“從未考慮在半導體芯片生產中運用此技術”。

盡管面對AI熱潮及HBM需求的飆升,三星電子仍未與英偉達達成HBM芯片供應協議。分析指出,其堅持使用熱壓非導電薄膜(TC NCF)制程,可能導致產能問題。對比之下,SK海力士已將問題歸結于NCF,轉而采用MR-MUF向英偉達提供HBM3解決方案。

多位業內分析者透露,三星HBM3芯片生產良率僅有約10%至20%,而SK海力士則高達60%至70%。此外,三星還在積極與日本名古屋電解研等企業商討MUF材料供應事宜。

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