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股價26年來最大跌幅!ASML后悔了嗎?

Big-Bit商務網 ? 來源:Big-Bit商務網 ? 作者:Big-Bit商務網 ? 2024-10-21 10:14 ? 次閱讀

ASML因為技術故障提前公布第三季度財報,其股價遭遇了26年來的最大跌幅,ASML后悔了嗎?

北京時間10月15日(周二)晚間22點左右,ASML提前在官網公布了第三季度財報,原定于周三的發布日程,因為技術故障提前公布。

財報數據公布后,全球光刻機巨頭股價暴跌16%,引起整個半導體板塊和美股市場走弱等連鎖反應。

引起股價暴跌的原因有兩點:第一,Q3訂單數據為26億歐元,僅為市場預期53.9億歐元的一半;第二,ASML官方將2025年凈銷售額預期從之前的400億歐元下調至300億歐元至350億歐元之間。

據ASML Q3財報顯示:目前中國仍然是ASML的最大單一市場,占第三季度銷售額的47%,達27.9億歐元。

事實上,從2023年第三季度荷蘭出口政策收緊以來,中國仍然連續五個季度成為ASML最大的市場,占比均達到40%以上。

訂單數據持續收緊,對華制裁的力度不減,ASML如今后悔了嗎?

整體市場疲軟,AI需求有限

根據SEMI公布的數據顯示,全球光刻機市場規模平穩增長,2023年全球半導體設備市場規模為1063億美元,其中光刻機市場占比約為25%,規模達到約258.4億美元,2023年為271.3億美元。

ASML作為光刻機領域的領軍企業,其股價的崩盤不僅震驚了整個半導體行業,也引發了市場對半導體行業整體復蘇進程的擔憂。

近年來,隨著AI技術的不斷發展崛起,高性能芯片的需求急劇上升直接推動了對高端光刻機的需求。ASML的高端光刻機正是滿足這一市場需求的關鍵設備,目前來說,AI的發展的確為ASML帶來了更多的市場機會和訂單,但是整體市場的情況不容樂觀。

ASML總裁兼首席執行官克里斯托弗·富凱(Christophe Fouquet)也坦言:“盡管AI領域仍有強勁的發展和上升潛力,但目前其他市場領域的復蘇速度較慢。現在看來,復蘇要比之前預期得要慢,這種情況預期將持續到2025年,這也會導致客戶變得更加謹慎。”

面對業績的下滑和股價的大幅波動,ASML表示將繼續在產能爬坡和技術方面進行持續投資,為周期的轉向做好準備,ASML現在面臨的壓力實屬不小。

原因主要有三個方面:第一,由于美國和荷蘭相關出口限制措施,ASML在中國市場的增長前景引發投資者擔憂;第二,全球芯片行業疲軟,ASML接到的訂單量大幅下降,遠低于市場預期;第三,中國等市場的國產替代率得到提升,其高端光刻機在中國市場的銷售受到限制。

國產全流程替代加速,ASML市場吸引力漸減

中國光刻機產業一直受國外制裁,如今國內技術也得到了發展性的進步——國產全流程替代,國內光刻機或者半導體行業自身有了更多的拓展空間。這一趨勢不僅展現了中國半導體產業自主可控能力的增強,也表示ASML在中國市場的吸引力逐漸減弱,為中國半導體產業的崛起鋪平了道路。

在中國光刻機產業鏈的上游領域,光刻膠、電子特氣、涂膠顯影設備等關鍵領域正在逐步實現國產替代。這些國產材料和設備不僅降低了光刻機的生產成本,還提高了整機的性能和穩定性。

上海微電子作為國產光刻機的領軍者,其SSA600/200工藝已經實現了90納米制程的量產,其出貨量已占國內市場份額超過80%,在國內市場中占據了十分重要的地位。

科益虹源、中科院上海、茂萊光學等企業也在DUV(深紫外光刻機)、EUV(極紫外光刻機)等關鍵技術領域取得了顯著進展,眾多國內企業紛紛致力實現技術推進,為國產光刻機的進一步發展奠定了堅實基礎。

今年9月份,國家工業信息化部印發了《首臺(套)重大技術裝備推廣應用指導目錄(2024年版)》,其中有提到將推廣國產光源193nm、分辨率≤65nm、套刻≤8nm的光刻機。

這一官方文件的發布,標志著我國在光刻機技術研發方面取得了重要突破,并且得到了國家層面的認可和推廣。

它們的問世,不僅能夠解決我國80%以上的芯片供應問題,而且完全實現了100%國產化。并且,在全球頂級的EUV光刻機領域,我國已經實現了物鏡系統和光源系統的國產替代。

總結

此次ASML面臨的股價崩盤和市場壓力反映了全球半導體行業的復雜性和不確定性。ASML此次股價崩盤還會在未來繼續面臨壓力,瑞銀(UBS)分析師稱:“阿斯麥明年可能失去近四分之一在華銷售額,若限制措施持續,其在華產生的整體收入中還有45%將面臨風險。”

中國市場目前仍是ASML最大的市場,若中國市場的份額發生變化,ASML的毛利率也將受到影響,進而繼續影響相關收益。

中國光刻機產業鏈的發展迭代得到發展和進步,同時此次ASML股價崩盤更在持續提供一個更為明確的信息:核心技術始終是硬實力。

此次ASML的股價大崩盤也為中國光刻機產業鏈的快速發展提供了新的視角,面對全球市場的變化,國產光刻機的發展需要繼續不斷地加強自主競爭,提升國產替代率。

本文為嗶哥嗶特資訊原創文章,未經允許和授權,不得轉載

審核編輯 黃宇

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