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基于MEMS工藝實(shí)現(xiàn)簡(jiǎn)易快速地制備不同的微陣列結(jié)構(gòu)

MEMS ? 2018-01-25 12:28 ? 次閱讀

工欲善其事,必先利其器。在全球化的今天,專利已不僅僅是創(chuàng)新的一種保護(hù)手段,它已成為商業(yè)戰(zhàn)場(chǎng)中的利器。麥姆斯咨詢傾情打造MEMS傳感器以及物聯(lián)網(wǎng)領(lǐng)域的專利運(yùn)營(yíng)平臺(tái),整合全產(chǎn)業(yè)鏈知識(shí)產(chǎn)權(quán)資源,積極推動(dòng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)保護(hù)與有效利用。目前,細(xì)胞與襯底之間的相互作用在生物與化學(xué)界引起了巨大的關(guān)注。對(duì)于生物傳感、 植入式生物材料以及組織工程領(lǐng)域而言,如何控制細(xì)胞在特定的區(qū)域黏附是急需解決的一個(gè) 問(wèn)題。具有納米粗糙度的表面結(jié)構(gòu)(比如納米針、納米突起以及納米孔等)對(duì)細(xì)胞有黏附作 用,這些納米結(jié)構(gòu)已經(jīng)可以通過(guò)一系列方法實(shí)現(xiàn),包括納米壓印、電子束納米光刻以及注塑等方法。

當(dāng)前以MEMS為基礎(chǔ)的細(xì)胞微陣列芯片受到科研人員廣泛重視。通過(guò)微加工技術(shù)在基底上構(gòu)建微尺度的圖形結(jié)構(gòu),并通過(guò)物理化學(xué)修飾對(duì)表面進(jìn)行改性,使得細(xì)胞在特定區(qū)域?qū)崿F(xiàn)選擇性黏附,從而形成有序的細(xì)胞微陣列。在細(xì)胞微陣列芯片上通過(guò)對(duì)培養(yǎng)環(huán)境的控制或者對(duì)黏附區(qū)域的特定設(shè)計(jì),分析細(xì)胞的生長(zhǎng)行為變化及相關(guān)成分的改變,可進(jìn)行對(duì)細(xì)胞分化、轉(zhuǎn)染、細(xì)胞間通訊等生物學(xué)和基因組文庫(kù)篩選、藥物篩選等醫(yī)學(xué)研究。與熒光分析手段和計(jì)算圖像處理技術(shù)相結(jié)合,二維平面的細(xì)胞陣列芯片具有便捷聚焦、高通量篩選和快速數(shù)據(jù)處理的優(yōu)點(diǎn),提高了實(shí)驗(yàn)效率;同時(shí)實(shí)現(xiàn)了實(shí)驗(yàn)平臺(tái)的小型化,有效降低了科研成本。【推薦發(fā)明專利】《基于MEMS工藝的細(xì)胞微陣列及其制作方法》【發(fā)明內(nèi)容】為了克服生物學(xué)上的藥物篩選等傳統(tǒng)實(shí)驗(yàn)分析方法具有需要大數(shù)量的樣本以及無(wú)法進(jìn)行實(shí)時(shí)分析的缺點(diǎn),本發(fā)明提供了一種基于MEMS工藝的細(xì)胞微陣列結(jié)構(gòu)制備方法,該方法的主要步驟包括:在硅襯底上表面旋涂光刻膠,光刻并顯影形成圖形化陣列結(jié)構(gòu);采用DRIE刻蝕工藝在硅襯底上形成硅微納米線;進(jìn)行熱氧化,形成氧化硅層。

基于MEMS工藝實(shí)現(xiàn)簡(jiǎn)易快速地制備不同的微陣列結(jié)構(gòu)

本發(fā)明細(xì)胞微陣列槽型(左)和柱形(右)結(jié)構(gòu)示意圖本發(fā)明采用工藝成熟的MEMS技術(shù),實(shí)現(xiàn)簡(jiǎn)易快速地制備不同的微陣列結(jié)構(gòu),微陣列結(jié)構(gòu)制作完成后,劃片取得所需大小的微陣列芯片,將微陣列芯片放入細(xì)胞培養(yǎng)液中進(jìn)行細(xì)胞黏附培養(yǎng),細(xì)胞會(huì)自動(dòng)粘附生長(zhǎng)在經(jīng)過(guò)處理的超親水納米氧化硅區(qū)域,最終得到所設(shè)計(jì)的定點(diǎn)可控的細(xì)胞微陣列結(jié)構(gòu)。

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原文標(biāo)題:感知“利”器|基于MEMS工藝的細(xì)胞微陣列

文章出處:【微信號(hào):MEMSensor,微信公眾號(hào):MEMS】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

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