韓國研究團隊開發出了通過將數萬個納米大小的像素組合，改善OLED效率和壽命的技術。

根據10月7日消息，韓國研究財團Ju Byungkwon高麗大學教授，Park Youngwook鮮文大學教授研究團隊通過納米大小的像素，開發出了即使在高亮度狀態下也能展現出較高發光效率的OLED技術。

OLED具備卓越的色彩再現性，較高的對比度和可彎曲的特性等優點，在顯示和照明市場上很受歡迎。但是因OLED內部生產的光在通往外部過程中造成光損失，發光效率較低。在高亮度下效率急劇下降產生的Roll-off(效率滾降)現象，使得OLED存在使用壽命短的問題。

研究團隊將數百納米大小的無數多的納米OLED聚集在一起，形成一個個像素的結構，開發出了即使在高亮度條件下也能展現出較高發光效率的OLED。

調節像素大小和像素間的距離，實現發光效率的最大化，并改善Roll-off現象。對比之前，能量轉換效率提高了137%，高亮度條件下的效率也改善了2~3倍。

納米像素Array OLED的制作工程圖及激光干涉光刻裝置

在基板上面涂布光敏抗蝕劑后，通過激光干涉光刻，進行納米Patterning。將Patterning后的光敏抗蝕劑作為界定納米像素區域的PDL使用。PDL上面蒸鍍有機物和金屬，制作出OLED元器件。在激光干涉蝕刻裝置上根據洛埃鏡的角度可以調節納米像素間的間距，可以通過控制曝光強度和顯像時間，調節納米像素的大小。

本次研究利用激光的干涉現象，采用了形成納米規模的Pattern激光干涉光刻技術。不需要Mask便可制作Pattern，并且可制作出更大的面積，也可以應用到顯示、照明用大尺寸OLED上。

Ju Byungkwon教授稱”本次研究通過超高分辨率的納米像素，將能大幅改善在高亮度條件下的OLED發光效率”，并稱“可作為需要高亮度的OLED照明市場的核心技術而應用，使用壽命將能延長”。

本次的研究成果刊登在9月1日版的納米材料領域國際學術雜志《NanoScale》上。