“11月29日，中科院光電技術研究所宣布國家重大科研裝備研制項目“超分辨光刻裝備研制”通過驗收，成為全球首臺用紫外光源實現的22納米分辨率的***。”

這是我國成功研制出的世界首臺分辨力最高紫外超分辨光刻裝備。

該***由中國科學院光電技術研究所研制，光刻分辨力達到22納米，結合多重曝光技術后，可用于制造10納米級別的芯片。

超分辨率光刻鏡頭

項目副總設計師胡松介紹，中科院光電所此次通過驗收的表面等離子體超分辨光刻裝備，打破了傳統路線格局，形成一條全新的納米光學光刻技術路線，具有完全自主知識產權。

項目副總設計師胡松研究員介紹超分辨光刻裝備研制項目攻關情況

本次“超分辨光刻裝備研制”通過驗收，是中國科學院光電技術研究所多年的技術積累結晶。

該***制造的相關器件已在如下科研院校的重大研究任務中取得應用。

中國航天科技集團公司第八研究院；

電子科技大學太赫茲科學技術研究中心；

四川大學華西醫院；

中科院微系統所信息功能材料國家重點實驗室。

中科院光電所科研人員操作超分辨光刻設備

“ASML的EUV***使用的13.5納米的極紫外光源，價格高達3000萬元，還要在真空下使用。”項目副總師胡松說，“而我們使用的365納米紫外光的汞燈，只要幾萬元一只。我們整機價格在百萬元級到千萬元級，加工能力介于深紫外級和極紫外級之間，讓很多用戶大喜過望。”

如此低成本的***，一旦量產，結合中國經濟上的龐大需要，再結合中國龐大的理工人才，一個低成本的光刻工具，將造就一條極其龐大完備的芯片產業鏈。

不過，就此鼓吹中國打破ASML在高端***上的壟斷未免為時過早。

ASML公司簡介

ASML，中文名稱為阿斯麥（中國大陸）、艾司摩爾（中國***）。是總部設在荷蘭Veldhoven的全球最大的半導體設備制造商之一，向全球復雜集成電路生產企業提供領先的綜合性關鍵設備。ASML一家獨大，占有大約80%的市場份額。

臺積電、三星、英特爾等國際半導體巨頭都是其客戶，并且也都開始試驗使用這種EUV設備生產芯片，以便能在更小芯片面積內，布局數量更多的晶體管，從而讓計算設備速度更快。

畢竟目前該***制造的相關器件主要還是用于專用領域和特殊領域，距離商業化量產還需一段時日。

不過無論如何，這種關鍵技術，都是一種戰略資源，可以不先進，也可以不成熟，但是“有它或者無它“，對國家安全的影響卻是有天壤之別的。

其實在美國封殺中興之際，ASML就聲稱將于2019年為中芯國際交付一臺EUV***。那時我們就推斷，西方國家判斷我國的***技術即將取得突破。

現在來看，果是如此。

西方總是會在我們掌握了技術的“前一天”，很及時地送上并不過時的技術。

但是我們并不能因此而自廢武功，自主研發的腳步一刻不能停下。不能讓“運十“悲劇重演。