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中科院半導(dǎo)體所

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利用拉曼光譜測(cè)量二硫化鉬薄片層數(shù)的三種方法

2024年12月31日,國(guó)家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局(國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì))發(fā)布2024年第32號(hào)中華人民共....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-05 14:04 ?52次閱讀
利用拉曼光譜測(cè)量二硫化鉬薄片層數(shù)的三種方法

NFC技術(shù)在手機(jī)中的應(yīng)用

在數(shù)字支付技術(shù)迅猛發(fā)展的今天,支付寶推出的“碰一下”支付功能以其便捷性和高效性迅速吸引了廣泛關(guān)注。這....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-05 14:01 ?146次閱讀
NFC技術(shù)在手機(jī)中的應(yīng)用

碳化硅薄膜沉積技術(shù)介紹

多晶碳化硅和非晶碳化硅在薄膜沉積方面各具特色。多晶碳化硅以其廣泛的襯底適應(yīng)性、制造優(yōu)勢(shì)和多樣的沉積技....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-05 13:49 ?61次閱讀
碳化硅薄膜沉積技術(shù)介紹

芯片制造:光刻工藝原理與流程

光刻是芯片制造過(guò)程中至關(guān)重要的一步,它定義了芯片上的各種微細(xì)圖案,并且要求極高的精度。以下是光刻過(guò)程....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-28 16:36 ?165次閱讀
芯片制造:光刻工藝原理與流程

晶圓拋光在芯片制造中的作用

晶圓,作為芯片制造的基礎(chǔ)載體,其表面平整度對(duì)于后續(xù)芯片制造工藝的成功與否起著決定性作用。
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-24 10:06 ?290次閱讀

互補(bǔ)場(chǎng)效應(yīng)晶體管的結(jié)構(gòu)和作用

隨著半導(dǎo)體技術(shù)不斷逼近物理極限,傳統(tǒng)的平面晶體管(Planar FET)、鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管(FinF....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-24 10:03 ?1950次閱讀
互補(bǔ)場(chǎng)效應(yīng)晶體管的結(jié)構(gòu)和作用

一文看懂激光的性質(zhì)

激光具有多種特性,使其在許多實(shí)際應(yīng)用中都很有用。激光是單色的、定向的、相干的。相比之下,普通白光是許....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-23 10:10 ?98次閱讀
一文看懂激光的性質(zhì)

ALD和ALE核心工藝技術(shù)對(duì)比

ALD 和 ALE 是微納制造領(lǐng)域的核心工藝技術(shù),它們分別從沉積和刻蝕兩個(gè)維度解決了傳統(tǒng)工藝在精度、....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-23 09:59 ?313次閱讀
ALD和ALE核心工藝技術(shù)對(duì)比

一文解析現(xiàn)代場(chǎng)效應(yīng)晶體管(FET)的發(fā)明先驅(qū)

朱利葉斯·埃德加·利利恩菲爾德在1925年申請(qǐng)的專利為場(chǎng)效應(yīng)晶體管奠定了理論基礎(chǔ)。 雖然第一個(gè)工作的....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-23 09:42 ?74次閱讀
一文解析現(xiàn)代場(chǎng)效應(yīng)晶體管(FET)的發(fā)明先驅(qū)

衍射光柵的歷史及重要作用

本文簡(jiǎn)單介紹了衍射光柵的歷史及其重要作用。 很難指出還有哪一種裝置比衍射光柵為每個(gè)科學(xué)領(lǐng)域帶來(lái)了更重....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-22 11:06 ?132次閱讀
衍射光柵的歷史及重要作用

干法刻蝕的概念、碳硅反應(yīng)離子刻蝕以及ICP的應(yīng)用

碳化硅(SiC)作為一種高性能材料,在大功率器件、高溫器件和發(fā)光二極管等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。其中,基....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-22 10:59 ?117次閱讀
干法刻蝕的概念、碳硅反應(yīng)離子刻蝕以及ICP的應(yīng)用

干法刻蝕使用脈沖電源有什么好處

本文簡(jiǎn)單介紹了連續(xù)波和脈沖波的概念、連續(xù)波電流與脈沖波電源的定義以及脈沖波電源相對(duì)于連續(xù)波的電源模式....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-22 10:11 ?106次閱讀
干法刻蝕使用脈沖電源有什么好處

數(shù)據(jù)I/O模塊的概念、特點(diǎn)以及作用

? 本文簡(jiǎn)單介紹了數(shù)據(jù)I/O模塊的概念、特點(diǎn)以及作用。 一、數(shù)據(jù) I/O 模塊是什么 1. 承接內(nèi)外....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-21 11:10 ?125次閱讀

如果光速逃跑,能甩開(kāi)射來(lái)的激光嗎

本文從愛(ài)因斯坦追光實(shí)驗(yàn)入手,用通俗易懂的語(yǔ)言介紹了多普勒頻移現(xiàn)象。 ? 愛(ài)因斯坦是20世紀(jì)最偉大的天....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-21 11:06 ?96次閱讀
如果光速逃跑,能甩開(kāi)射來(lái)的激光嗎

離子注入工藝中的重要參數(shù)和監(jiān)控手段

本文簡(jiǎn)單介紹了離子注入工藝中的重要參數(shù)和離子注入工藝的監(jiān)控手段。 在硅晶圓制造過(guò)程中,離子的分布狀況....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-21 10:52 ?256次閱讀
離子注入工藝中的重要參數(shù)和監(jiān)控手段

集成電路制造中良率損失來(lái)源及分類

本文介紹了集成電路制造中良率損失來(lái)源及分類。 良率的定義 良率是集成電路制造中最重要的指標(biāo)之一。集成....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-20 13:54 ?191次閱讀
集成電路制造中良率損失來(lái)源及分類

硬件處理模塊的概念、特點(diǎn)和在系統(tǒng)中的位置

本文介紹了硬件處理模塊的概念、特點(diǎn)和在系統(tǒng)中的位置。 一、硬件處理模塊的基本概念?專注于特定功能? ....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-20 13:52 ?172次閱讀
硬件處理模塊的概念、特點(diǎn)和在系統(tǒng)中的位置

FinFET制造工藝的具體步驟

本文介紹了FinFET(鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管)制造過(guò)程中后柵極高介電常數(shù)金屬柵極工藝的具體步驟。
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-20 11:02 ?936次閱讀
FinFET制造工藝的具體步驟

鏡頭景深的概念和計(jì)算公式

景深是圖像中看起來(lái)可以接受的清晰度的最近和最遠(yuǎn)對(duì)象之間的距離。拍攝圖像時(shí),將相機(jī)聚焦在任意距離的對(duì)象....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-20 11:00 ?273次閱讀
鏡頭景深的概念和計(jì)算公式

MOS管特征頻率與過(guò)驅(qū)動(dòng)電壓的關(guān)系

本文簡(jiǎn)單介紹了MOS管特征頻率與過(guò)驅(qū)動(dòng)電壓的概念以及二者的關(guān)系。
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-20 10:59 ?444次閱讀
MOS管特征頻率與過(guò)驅(qū)動(dòng)電壓的關(guān)系

CVD薄膜質(zhì)量的影響因素及故障排除

本文介紹了CVD薄膜質(zhì)量的影響因素及故障排除。 CVD薄膜質(zhì)量影響因素 以下將以PECVD技術(shù)沉積薄....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-20 09:46 ?125次閱讀
CVD薄膜質(zhì)量的影響因素及故障排除

如何提高光刻機(jī)的NA值

本文介紹了如何提高光刻機(jī)的NA值。 為什么光刻機(jī)希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-20 09:44 ?205次閱讀
如何提高光刻機(jī)的NA值

什么是原子層刻蝕

本文介紹了什么是原子層刻蝕(ALE, Atomic Layer Etching)。 1.ALE 的基....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-20 09:32 ?70次閱讀
什么是原子層刻蝕

FinFet Process Flow-源漏極是怎樣形成的

本文介紹了FinFet Process Flow-源漏極是怎樣形成的。 在FinFET制造工藝中,當(dāng)....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-17 11:00 ?132次閱讀
FinFet Process Flow-源漏極是怎樣形成的

原子層沉積(ALD, Atomic Layer Deposition)詳解

? 本文介紹了什么是原子層沉積(ALD, Atomic Layer Deposition)。 1.原....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-17 10:53 ?216次閱讀
原子層沉積(ALD, Atomic Layer Deposition)詳解

封裝工藝簡(jiǎn)介及元器件級(jí)封裝設(shè)備有哪些

? 本文介紹了封裝工藝簡(jiǎn)介及元器件級(jí)封裝設(shè)備有哪些。 概述 電子產(chǎn)品制造流程涵蓋半導(dǎo)體元件制造及整機(jī)....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-17 10:43 ?314次閱讀
封裝工藝簡(jiǎn)介及元器件級(jí)封裝設(shè)備有哪些

光纖的主要參數(shù)

? 本文主要介紹光纖的主要參數(shù) 光纖是一種細(xì)玻璃絲,其中心纖芯的折射率略高于周圍的包層。從物理光學(xué)的....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-16 11:45 ?205次閱讀
光纖的主要參數(shù)

神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)理論研究的物理學(xué)思想介紹

本文主要介紹神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)理論研究的物理學(xué)思想 神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)在當(dāng)今人工智能研究和應(yīng)用中發(fā)揮著不可替代的作用。它....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-16 11:16 ?301次閱讀
神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)理論研究的物理學(xué)思想介紹

微型晶體管高分辨率X射線成像

本文主要介紹微型晶體管高分辨率X射線成像 ? 一種經(jīng)過(guò)升級(jí)的X射線可對(duì)芯片內(nèi)部進(jìn)行3D成像,展現(xiàn)其設(shè)....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-16 11:10 ?108次閱讀
微型晶體管高分辨率X射線成像

光刻機(jī)的分類與原理

本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類,光刻設(shè)....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-16 09:29 ?433次閱讀
光刻機(jī)的分類與原理
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