資料介紹
類似矽制程技術中的BJT與CMOS,砷化鎵制程技術主要區分為HBT(異質接面雙極性晶體管)與pHEMT(異質接面高電子遷移率晶體管)兩大主軸,并被廣泛應用于商用與先進無線通訊中的關鍵零組件。以下針對砷化鎵的制程技術作一深入淺出的剖析
相較于過去被應用在功率放大器的矽元件,例如BJT與LDMOS等,HBT具有極佳功率特性、線性度、溫度穩定性與可靠度。尤其隨者操作頻率由900MHz的GSM通訊系統,進步到超過2GHz的3G、4G或Wi-Fi通訊系統。
HBT幾乎完全獨占此領域的放大器元件市場。藉由優越的材料特性,2或3微米線寬制程的HBT已展現絕佳的良率與極具優勢的性能與價格比。例如GSM的應用需求上,可以滿足超過20:1的強韌度(Ruggedness)需求,在輸出功率特性上,4瓦的功率輸出配合大于55%的功率附加效率(PAE),亦是矽元件無法輕易達到的特性。而3G應用需求上,HBT亦可輕易達到輸出功率28dBm時,鄰近通道功率比(ACPR)可小于-42dBc的線性度要求。同時Wi-Fi應用上,在線性輸出功率0.1瓦下,其誤差矢量幅度(EVM)僅有3%。元件可靠度測試方面,HBT元件皆可通過高溫125度下持續運行連續1000小時的嚴苛測試,換算為在室溫操作下的平均存活時間(Mean time to failure)可達一億小時以上。除了無線通訊放大器應用外,1微米線寬制程的HBT配合其65GHz的高截止頻率,隨著光通訊系統與毫米波系統日漸普及亦被廣泛設計于更高頻率的光通訊放大器與毫米波端的壓控振蕩器(VCO)
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