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在半導體和LED的制造中，需要研磨以使晶片的厚度變薄，以及拋光以使表面成為鏡面。在半導體器件的制造中，半導體制造 工藝包括:（1）從晶體生長開始切割和拋光硅等，并將其加工成晶片形狀的工藝（晶片制造工藝）；（2）在晶片上形成IC的 工藝（前一工藝）；以及（3）切割、組裝、檢查和安裝芯片的工藝（后一工藝）。在晶片制造過程中，通過雙面研磨、單面 研磨、蝕刻等對從晶錠切片的晶片進行厚度調節，以消除加工表面的變形，然后將晶片加工成鏡面。此外，存在用于使在前一 工藝中制造的具有圖案的晶片的厚度均勻且薄的后研磨工藝。在背面研磨之后，在切割過程中進行芯片化，并且在后處理中進 行安裝。研磨工藝和切割工藝是前一工藝和后一工藝之間的中間工藝，是提高附加值的中間工藝，如晶片減薄，應力消除，以 MEMS（微機電系統）晶片制造為代表的深挖蝕刻，減薄和重新布線。
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