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摘要：介紹了一種無損、快速、準(zhǔn)確測(cè)定有機(jī)薄膜厚度的新方法一FT—IR反射一干涉光譜法。對(duì)測(cè)厚的原理進(jìn)行了分析，將此方法用于薄膜微波電路生產(chǎn)中光刻臆和聚酰亞胺厚度的測(cè)定，并與傳統(tǒng)的用臺(tái)階儀測(cè)厚方法進(jìn)行比較。FT一IR反射-干涉光譜法更方便、快捷、更準(zhǔn)確，避免了光刻的過程和光刻顯影過程中顯影液對(duì)膜厚的減損，以及臺(tái)階測(cè)厚儀本身可能造成的測(cè)量誤差。
關(guān)鍵詞：FT—IR；薄膜微波電路；光刻膠；厚度
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