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摘要：磁控濺射技術(shù)在薄膜制備領(lǐng)域廣泛應(yīng)用，電源是磁控濺射鍍膜的關(guān)鍵設(shè)備之一。本文介紹了全橋逆變直流磁控濺射電源主電路和控制電路的設(shè)計(jì)，該電源輸出功率2kW，采用PI恒流控制，具有過流保護(hù)。通過阻性負(fù)載測(cè)試表明電源具有很好恒流特性，在輸出功率超過400W時(shí)電源效率比較高。利用氮?dú)?氬氣不銹鋼靶直流磁控濺射實(shí)際的等離子體負(fù)載測(cè)試表明：在保證真空室內(nèi)壓力不變的前提下，隨著氮?dú)獗壤脑黾?，電壓下降，但電源恒流效果好，工作穩(wěn)定。
關(guān)鍵詞：磁控濺射；電源；全橋變換；恒流
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