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      標(biāo)簽　>　刻蝕機(jī)

      刻蝕機(jī)

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      刻蝕機(jī)是一種用于電子與通信技術(shù)領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器，于2012年5月14日啟用，在半導(dǎo)體和線路板制程上，蝕刻更是不可或缺的技術(shù)。

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      刻蝕機(jī)簡介

      　　刻蝕機(jī)是一種用于電子與通信技術(shù)領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器，于2012年5月14日啟用，在半導(dǎo)體和線路板制程上，蝕刻更是不可或缺的技術(shù)。

      　　蝕刻機(jī)主要應(yīng)用于航空、機(jī)械、標(biāo)牌工業(yè)中，蝕刻機(jī)技術(shù)廣泛地被使用于減輕重量（Weight Reduction）儀器鑲板及傳統(tǒng)加工法難以加工之薄形工件等之加工。

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      刻蝕機(jī)知識(shí)

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      刻蝕機(jī)技術(shù)

      鈮酸鋰 LiNbO3 薄膜 IBE 離子束刻蝕

      鈮酸鋰 LiNbO3 薄膜 IBE 離子束刻蝕

      隨著基于鈮酸鋰 LN 的光源, 光調(diào)制, 光探測等重要器件的實(shí)現(xiàn), 鈮酸鋰 LN 光子集成芯片有望像硅基集成電路一樣, 成為高速率, 高容量, 低能耗光...

      2024-09-13 標(biāo)簽：離子束刻蝕機(jī) 486 0

      ICP-RIE機(jī)臺(tái)的原理是什么樣的？

      ICP-RIE機(jī)臺(tái)的原理是什么樣的？

      ICP-RIE全稱是電感耦合等離子體刻蝕機(jī)，是半導(dǎo)體芯片微納加工過程中必不可少的設(shè)備，可加工微米級(jí)納米級(jí)的微型圖案。

      2024-04-30 標(biāo)簽：射頻等離子體刻蝕機(jī) 1520 0

      刻蝕機(jī)是干什么用的 刻蝕機(jī)和光刻機(jī)的區(qū)別

      刻蝕機(jī)是干什么用的 刻蝕機(jī)和光刻機(jī)的區(qū)別

      刻蝕機(jī)的刻蝕過程和傳統(tǒng)的雕刻類似，先用光刻技術(shù)將圖形形狀和尺寸制成掩膜，再將掩膜與待加工物料模組裝好，將樣品置于刻蝕室內(nèi)，通過化學(xué)腐蝕或物理磨蝕等方式將...

      2024-03-11 標(biāo)簽：芯片制造光刻光刻機(jī) 1.1萬 0

      基于兩步刻蝕工藝的錐形TSV制備方法研究

      基于兩步刻蝕工藝的錐形TSV制備方法研究

      以硅通孔（TSV）為核心的 2.5D/3D 封裝技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)芯片之間的高速、低功耗和高帶寬的信號(hào)傳輸。

      2024-02-25 標(biāo)簽：晶圓信號(hào)傳輸電感耦合 1436 0

      如何調(diào)控BOSCH工藝深硅刻蝕？影響深硅刻蝕的關(guān)鍵參數(shù)有哪些？

      如何調(diào)控BOSCH工藝深硅刻蝕？影響深硅刻蝕的關(guān)鍵參數(shù)有哪些？

      影響深硅刻蝕的關(guān)鍵參數(shù)有：氣體流量、上電極功率、下電極功率、腔體壓力和冷卻器。

      2024-02-25 標(biāo)簽：晶圓冷卻器刻蝕機(jī) 3088 0

      干法刻蝕常用設(shè)備的原理及結(jié)構(gòu)

      干法刻蝕常用設(shè)備的原理及結(jié)構(gòu)

      干法刻蝕技術(shù)是一種在大氣或真空條件下進(jìn)行的刻蝕過程，通常使用氣體中的離子或化學(xué)物質(zhì)來去除材料表面的部分，通過掩膜和刻蝕參數(shù)的調(diào)控，可以實(shí)現(xiàn)各向異性及各向...

      2024-01-20 標(biāo)簽：等離子體晶圓刻蝕機(jī) 8314 0

      半導(dǎo)體零部件行業(yè)深度報(bào)告

      半導(dǎo)體零部件行業(yè)深度報(bào)告

      半導(dǎo)體設(shè)備主要應(yīng)用于集成電路的制造和封測環(huán)節(jié)，可細(xì)分為晶圓制造設(shè)備(前道設(shè)備）和封裝、測試設(shè)備（后道設(shè)備)。其中，前道設(shè)備主要有光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、薄膜沉積...

      2023-12-27 標(biāo)簽：集成電路芯片制造光刻機(jī) 835 0

      淺談Micro OLED生產(chǎn)環(huán)節(jié)

      OLED制程。①OLED陽極。②蒸鍍OLED器件。蒸鍍和傳統(tǒng)OLED不一樣，沒有這么密的mask，需要先白光，再加濾光。③封裝，即薄膜封裝層。④CF彩色...

      2023-12-04 標(biāo)簽：OLED光刻Micro OLED 2583 0

      射頻電源結(jié)構(gòu)及應(yīng)用分析

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      主流射頻電源頻率包括為400KHz、2MHz、13.56MHz、27.12MHz、40MHz和60MHz等。射頻電源由于應(yīng)用場景多樣，按照頻率和功率可分...

      2023-11-30 標(biāo)簽：集成電路NANDDC-DC 9157 0

      濕法刻蝕液的種類與用途有哪些呢？濕法刻蝕用在哪些芯片制程中？

      濕法刻蝕液的種類與用途有哪些呢？濕法刻蝕用在哪些芯片制程中？

      濕法刻蝕由于成本低、操作簡單和一些特殊應(yīng)用，所以它依舊普遍。

      2023-11-27 標(biāo)簽：晶圓微處理器光電器件 2217 0

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      刻蝕機(jī)資料下載

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      刻蝕機(jī)資訊

      上海伯東IBE離子束刻蝕機(jī)介紹

      IBE (Ion Beam Etching) 離子束刻蝕, 通常使用 Ar 氣體作為蝕刻氣體, 將與電子的沖擊產(chǎn)生的離子在 200~ 1000ev 的范...

      2024-12-26 標(biāo)簽：離子束刻蝕機(jī) 272 0

      濕法刻蝕步驟有哪些

      說到濕法刻蝕了，這個(gè)是專業(yè)的技術(shù)。我們也得用專業(yè)的內(nèi)容才能給大家講解。聽到這個(gè)工藝的話，最專業(yè)的一定就是講述濕法刻蝕步驟。你知道其中都有哪些步驟嗎？如果...

      2024-12-13 標(biāo)簽：刻蝕設(shè)備刻蝕工藝刻蝕機(jī) 249 0

      上海伯東IBE離子束刻蝕機(jī)優(yōu)勢

      上海伯東IBE離子束刻蝕機(jī)優(yōu)勢

      上海伯東 IBE 離子束刻蝕機(jī)可用于反應(yīng)離子刻蝕 RIE 不能很好刻蝕的材料。是一種干法物理納米級(jí)別的刻蝕， 刻蝕均勻性 ≤±5%（部分材料 ±3%）。...

      2024-11-27 標(biāo)簽：離子束刻蝕機(jī) 196 0

      臻寶科技開啟上市輔導(dǎo)

      近日，中國證券監(jiān)督管理委員會(huì)（證監(jiān)會(huì)）披露了重慶臻寶科技股份有限公司（簡稱“臻寶科技”）的首次公開發(fā)行股票并上市輔導(dǎo)備案報(bào)告，標(biāo)志著該公司正式開啟上市輔...

      2024-02-26 標(biāo)簽：半導(dǎo)體刻蝕機(jī) 1685 0

      比肩國際大廠，刻蝕設(shè)備會(huì)是率先實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)替代的嗎？

      比肩國際大廠，刻蝕設(shè)備會(huì)是率先實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)替代的嗎？

      電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/周凱揚(yáng)）在半導(dǎo)體制造的各路工序中，尤其是前道工序中，技術(shù)難度最大的主要三大流程當(dāng)屬光刻、刻蝕和薄膜沉積了。這三大工藝的先進(jìn)程度直接...

      2023-07-30 標(biāo)簽：設(shè)備半導(dǎo)體設(shè)備刻蝕機(jī) 2329 0

      北方華創(chuàng)發(fā)布首臺(tái)國產(chǎn)12英寸晶邊刻蝕機(jī)

      據(jù)介紹，在器件制造過程中，由于薄膜沉積、光刻、刻蝕和化學(xué)機(jī)械拋光等工藝步驟的大幅增長，在晶圓的邊緣造成了不可避免的副產(chǎn)物及殘留物堆積，這些晶邊沉積的副產(chǎn)...

      2023-07-19 標(biāo)簽：晶圓存儲(chǔ)芯片刻蝕機(jī) 1266 0

      比亞迪再擴(kuò)大投資版圖，入股嘉芯半導(dǎo)體

      據(jù)萬業(yè)企業(yè)公告，2021年12月，萬業(yè)企業(yè)攜手寧波芯恩半導(dǎo)體科技有限公司（以下簡稱“寧波芯恩”）成立嘉芯半導(dǎo)體，以20億元總投資規(guī)模，重點(diǎn)打造國內(nèi)集成電...

      2023-07-13 標(biāo)簽：半導(dǎo)體比亞迪刻蝕機(jī) 1364 0

      勝訴！美國半導(dǎo)體巨頭侵犯中微刻蝕機(jī)商業(yè)秘密案，終審宣判！

      編輯：感知芯視界 來源：EETOP 2023年7月11日——中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司（以下簡稱“中微公司”，上交所股票代碼：688012）今日...

      2023-07-12 標(biāo)簽：半導(dǎo)體刻蝕機(jī) 596 0

      中微公司在針對(duì)美商科林研發(fā)提起的侵犯商業(yè)秘密案中贏得二審勝訴

      中微公司2010年12月向上海市第一中級(jí)人民法院就科林研發(fā)侵犯公司商業(yè)秘密案提起一審訴訟，并于2017年3月贏得一審訴訟。隨后，該案件被上訴至上海市高級(jí)...

      2023-07-11 標(biāo)簽：中微半導(dǎo)體刻蝕機(jī) 538 0

      12英寸深硅刻蝕機(jī)銷售突破百腔，北方華創(chuàng)助力Chiplet TSV工藝發(fā)展

      隨著晶體管尺寸不斷向原子尺度靠近，摩爾定律正在放緩，面對(duì)工藝技術(shù)持續(xù)微縮所增加的成本及復(fù)雜性，市場亟需另辟蹊徑以實(shí)現(xiàn)低成本前提下的芯片高性能，以TSV（...

      2023-07-10 標(biāo)簽：晶圓TSV刻蝕機(jī) 1082 0

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      刻蝕機(jī)數(shù)據(jù)手冊

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      • 無人駕駛
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        提供全球最前沿?zé)o人駕駛科技趨勢，中國無人駕駛開發(fā)者社區(qū)
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        6G網(wǎng)絡(luò)將是一個(gè)地面無線與衛(wèi)星通信集成的全連接世界。6G，即第六代移動(dòng)通信標(biāo)準(zhǔn)，也被稱為第六代移動(dòng)通信技術(shù)。主要促進(jìn)的就是物聯(lián)網(wǎng)的發(fā)展 。截至2019年11月，6G仍在開發(fā)階段。6G的傳輸能力可能比5G提升100倍，網(wǎng)絡(luò)延遲也可能從毫秒降到微秒級(jí)。
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        WiFi6主要使用了OFDMA、MU-MIMO等技術(shù)，MU-MIMO（多用戶多入多出）技術(shù)允許路由器同時(shí)與多個(gè)設(shè)備通信，而不是依次進(jìn)行通信。MU-MIMO允許路由器一次與四個(gè)設(shè)備通信，WiFi6將允許與多達(dá)8個(gè)設(shè)備通信。WiFi6還利用其他技術(shù)，如OFDMA（正交頻分多址）和發(fā)射波束成形，兩者的作用分別提高效率和網(wǎng)絡(luò)容量。WiFi6最高速率可達(dá)9.6Gbps。
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        DC/DC轉(zhuǎn)換器為轉(zhuǎn)變輸入電壓后有效輸出固定電壓的電壓轉(zhuǎn)換器。DC/DC轉(zhuǎn)換器分為三類：升壓型DC/DC轉(zhuǎn)換器、降壓型DC/DC轉(zhuǎn)換器以及升降壓型DC/DC轉(zhuǎn)換器。
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        　　賽靈思公司（Xilinx）推出的行業(yè)第一個(gè)可擴(kuò)展處理平臺(tái)Zynq系列。旨在為視頻監(jiān)視、汽車駕駛員輔助以及工廠自動(dòng)化等高端嵌入式應(yīng)用提供所需的處理與計(jì)算性能水平。
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        過流保護(hù)電路
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        VDD
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