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標(biāo)簽 > 氮化硅
氮化硅基板是一種新型的材料,具有高功率密度、高轉(zhuǎn)換效率、高溫性能和高速度等特點(diǎn)。氮化硅(SI3N4)陶瓷線路板是一種采用氮化硅陶瓷材料作為基板的高性能電子線路板。它具有優(yōu)異的機(jī)械和電性能。
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鈣鈦礦疊層電池:Topcon與HJT底電池性能對(duì)比研究
異質(zhì)結(jié)電池結(jié)構(gòu)相比Topcon 電池本身更適合疊層: 因?yàn)殁}礦電池與異質(zhì)結(jié)電池進(jìn)行疊層,異質(zhì)結(jié)電池表面本身就是 TCO,異質(zhì)結(jié)電池的產(chǎn)線無需做更改。
光子集成芯片所需的材料多種多樣,主要包括硅、氮化硅、磷化銦、砷化鎵、鈮酸鋰等。這些材料各有其特性和應(yīng)用領(lǐng)域,適用于不同的光子器件和集成芯片設(shè)計(jì)。
2024-03-18 標(biāo)簽:半導(dǎo)體材料集成芯片氮化硅 1691 0
MEMS工藝設(shè)計(jì)中如何實(shí)現(xiàn)應(yīng)力匹配?
相較于本征應(yīng)力,熱應(yīng)力在某些方面是可以化敵為友的。在MEMS熱敏感執(zhí)行器中,基于膜層之間的熱膨脹系數(shù)差來實(shí)現(xiàn)懸臂梁的驅(qū)動(dòng)。在雙層膜形成的MEMS熱驅(qū)動(dòng)器...
靶材的種類及制備工藝 靶材在半導(dǎo)體領(lǐng)域的應(yīng)用
選擇合適的靶材在半導(dǎo)體工藝中十分重要。
2023-12-28 標(biāo)簽:半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管GaAs 1678 0
研究還表明,重復(fù)率的穩(wěn)定性,通過期望的分頻因子與參考激光器的重復(fù)率的穩(wěn)定性相聯(lián)系。最后,跨倍頻程耗散克爾孤子DKS的克爾誘導(dǎo)同步KIS,表現(xiàn)出了相反色散...
介紹了光量子芯片在未來實(shí)現(xiàn)可實(shí)用化大規(guī)模光量子計(jì)算與信息處理應(yīng)用方面展示出巨大潛力,并對(duì)硅基集成光量子芯片技術(shù)進(jìn)行介紹。
多晶硅與單晶硅各有哪些優(yōu)良性質(zhì)?又是怎樣制造出來的呢?
硅,我們都知道。但是芯片制程中的硅,有的用的是單晶硅,有的用的是多晶硅。多晶硅與單晶硅的性能差別很大,那么他們各有哪些優(yōu)良性質(zhì)?有哪些應(yīng)用?又是怎樣制造...
類別:測(cè)試測(cè)量論文 2018-03-20 標(biāo)簽:氮化硅 1102 0
英諾賽科發(fā)布40V車規(guī)產(chǎn)品 駕駛艙快充首選
近年來,隨著第三代半導(dǎo)體氮化鎵器件在充電器領(lǐng)域的廣泛普及應(yīng)用,大功率充電器也日益小型化。大眾對(duì)電子設(shè)備的頻繁使用以及電量焦慮,使得出行時(shí)的充電需求變得十...
氮化硅(Si?N?)薄膜是一種高性能介質(zhì)材料,在集成電路制造領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。作為非晶態(tài)絕緣體,氮化硅薄膜不僅介電特性優(yōu)于傳統(tǒng)的二氧化硅,還具備對(duì)...
一、氮化硅薄膜制備方法及用途 氮化硅(Si3N4)薄膜是一種應(yīng)用廣泛的介質(zhì)材料。作為非晶態(tài)絕緣體,氮化硅薄膜的介電特性優(yōu)于二氧化硅,具有對(duì)可移動(dòng)離子較強(qiáng)...
鼎龍股份CMP拋光液業(yè)務(wù)突破:千萬元級(jí)訂單助力產(chǎn)能擴(kuò)張
近日,鼎龍股份宣布了其子公司武漢鼎澤新材料技術(shù)有限公司(簡(jiǎn)稱“鼎澤新材料”)在CMP(化學(xué)機(jī)械拋光)拋光液領(lǐng)域的重大進(jìn)展,標(biāo)志著公司在半導(dǎo)體材料供應(yīng)鏈中...
Atonarp過程控制質(zhì)譜儀Aston?半導(dǎo)體工藝解決方案案例
上海伯東代理日本 Atonarp 過程控制質(zhì)譜儀 Aston?, 通過使用分子傳感技術(shù), 提供半導(dǎo)體制程中 ALD, CVD, 蝕刻, ALE 和腔室...
國科光芯實(shí)現(xiàn)傳輸損耗-0.1dB/cm(1550 nm波長(zhǎng))級(jí)別氮化硅硅光芯片的量產(chǎn)
據(jù)麥姆斯咨詢報(bào)道,經(jīng)過兩年、十余次的設(shè)計(jì)和工藝迭代,國科光芯(海寧)科技股份有限公司(簡(jiǎn)稱:國科光芯)在國內(nèi)首個(gè)8英寸低損耗氮化硅硅光量產(chǎn)平臺(tái),實(shí)現(xiàn)了傳...
國科光芯:專注氮化硅硅光技術(shù),探索硅光產(chǎn)業(yè)發(fā)展新路徑
第三,我們確實(shí)在今年上半年全面升級(jí)了發(fā)展戰(zhàn)略、使命及愿景。正如剛剛在介紹國科光芯的發(fā)展里程碑話題里提到的,基于激光雷達(dá)這幾年的深度研究,以及參考國際上硅...
介質(zhì)超構(gòu)表面的CMOS兼容制備工藝的進(jìn)展
超構(gòu)表面為納米光子器件賦予了更高的自由度與靈活度,使實(shí)用的微納米光子器件的實(shí)現(xiàn)成為可能。
2023-07-27 標(biāo)簽:帶通濾波器光刻機(jī)CMOS技術(shù) 1661 0
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