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標(biāo)簽 > DUV
duv就是深紫外光,主要是指波長小于i-line365nm的紫外光,一般工業(yè)上有193arf和248nmkrf的的激光。用的都是化學(xué)增幅型的光刻膠。
duv就是深紫外光,主要是指波長小于i-line365nm的紫外光,一般工業(yè)上有193arf和248nmkrf的的激光。用的都是化學(xué)增幅型的光刻膠。
duv主要利用光的折射原理。其中,浸沒式光刻機會在投影透鏡與晶圓之間,填入去離子水,使得193nm的光波等效至134nm。
DUV是深紫外線(Deep Ultraviolet Lithography),EUV是極深紫外線(Extreme Ultraviolet Lithogr...
用于集成電路制造的光刻機有兩種:半導(dǎo)體光刻機和光學(xué)(光刻)光刻機。下面將分別介紹這兩種光刻機的相關(guān)知識。半導(dǎo)體光刻機是根據(jù)芯片制造的工藝和設(shè)備來劃分的,...
SSMB就產(chǎn)生了和FEL類似的“微聚束”,但是關(guān)鍵還加上了“穩(wěn)態(tài)”。FEL不是穩(wěn)態(tài),電子團在波蕩器里自由互相作用,最后發(fā)出強光完事。SSMB是讓電子束在...
EUV 光是指用于微芯片光刻的極紫外光,涉及在微芯片晶圓上涂上感光材料并小心地將其曝光。這會將圖案打印到晶圓上,用于微芯片設(shè)計過程中的后續(xù)步驟。
廈門大學(xué)康俊勇教授、尹君副教授課題組根據(jù)致病菌中遺傳物質(zhì)、蛋白質(zhì)的紫外光吸收特性,開發(fā)了一種由275-nm氮化物L(fēng)ED組成的大功率(3.2 W)且輻照均...
芯片制造和傳統(tǒng)IC封裝的生產(chǎn)有何不一樣
DUV是深紫外線,EUV是極深紫外線。從制程工藝來看,DUV只能用于生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。而只有EUV能滿足7nm晶圓制造,并且還可以向5nm、3n...
目前,光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線,EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù),EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。E...
DUV已經(jīng)能滿足絕大多數(shù)需求:覆蓋7nm及以上制程需求。DUV和EUV最大的區(qū)別在光源方案。duv的光源為準(zhǔn)分子激光,光源的波長能達到193納米。
被美國要求限制對華出售半導(dǎo)體設(shè)備后,ASML進退兩難。
***技術(shù)有多難搞?我國***發(fā)展現(xiàn)狀
搞光刻機必須要有搞核彈的精神,但只有這種精神是不夠的!光刻機畢竟不是核彈,光刻機從試驗機改良成量產(chǎn)機,需要與產(chǎn)線相結(jié)合試驗生產(chǎn),這些步驟是不可能秘密進行的。
近日,《烏合麒麟撤回道歉,稱3D堆疊就是芯片優(yōu)化技術(shù)》事件在網(wǎng)上引起爭論,今天ASPENCORE記者歐陽洋蔥同學(xué)進一步對“ 14nm + 14nm 達成...
俄羅斯預(yù)計2028年生產(chǎn)7nm工藝制造的光刻機
光刻機譽為“現(xiàn)代半導(dǎo)體行業(yè)皇冠上的明珠”,是一種高度復(fù)雜的設(shè)備。光刻機是通過紫外光作為“畫筆”,把預(yù)先設(shè)計好的芯片電路路線書寫在硅晶圓旋涂的光刻膠上,光...
ASML警告美國:對中國斷供DUV光刻機半導(dǎo)體供應(yīng)鏈將中斷,真是如此嗎?
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/吳子鵬)近日,針對全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)廣泛關(guān)注的美國施壓ASML斷供中國DUV光刻機一事,ASML首席執(zhí)行官(CEO)溫彼得正式回應(yīng)稱,...
荷蘭出新規(guī)!ASML部分DUV***將禁運,國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備發(fā)展別無選擇
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/吳子鵬)日前,有外媒報道稱,荷蘭貿(mào)易部部長最近在致荷蘭議會的一封信中宣布,基于國家安全考慮,荷蘭政府將在夏天之前對其芯片出口實施新...
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