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標簽 > EUV光刻機
極紫外線光刻機是芯片生產工具,是生產大規模集成電路的核心設備,對芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓,只能用EUV光刻機生產。2018年4月,中芯國際向阿斯麥下單了一臺EUV(極紫外線)光刻機,于2019年初交貨。
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氫去鈍化光刻(HDL)是電子束光刻(EBL)的一種形式,它通過非常簡單的儀器實現原子分辨率,并使用能量非常低的電子。它使用量子物理學有效地聚焦低能電子和...
近些年來EUV光刻這個詞大家應該聽得越來越多,三星在去年發布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片,臺積電的7nm+也...
海思工程師成香餑餑!華為圍獵半導體人才?IC人才跳槽呈現哪些風向標
面臨美國制裁,華為海思一些項目無法開展,華為如何通過內聘渠道發揮他們最大才能?華為挖人給行業帶來哪些影響?科創板開啟后,芯片企業崛起,給IC人才的脫穎而...
華為5g芯片是哪家公司生產的? 華為5G芯片是由華為公司自主研發生產的,它是華為公司在5G領域付出巨大努力,取得重大成就的一個重要例證。5G芯片是支撐網...
2020年臺積電沖刺450億美元營收?臺灣和大陸廠商如何合力把握半導體發展機遇!
10月31日,在2020深圳集成電路制造峰會的安防半導體產業創新發展論壇上,來自臺灣亞太高科技發展促進協會,臺灣資深半導體專家馮明憲先生,帶來《從中國集...
臺積電營收又要創新高,最先進EUV光刻機5nm、7nm工藝賺大
得益于先進的工藝,臺積電今年的營收又要創新高,即便是沒有了華為這樣的客戶,也絲毫不受影響。 臺積電昨日舉行南科3nm米晶圓廠上梁典禮,董事長劉德音透露,...
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