1.臺(tái)積電:不排除在日本生產(chǎn)先進(jìn)芯片 2nm研發(fā)順利
?
據(jù)報(bào)道,臺(tái)積電于6月30日在日本橫濱召開(kāi)記者會(huì)。臺(tái)積電副總經(jīng)理張曉強(qiáng)表示,不排除未來(lái)在日本生產(chǎn)先進(jìn)芯片的可能性。在記者會(huì)上,臺(tái)積電表示日本工廠將以日本客戶為中心,預(yù)計(jì)將有持續(xù)且旺盛的需求。據(jù)此前消息,該工廠規(guī)劃生產(chǎn)22/28nm以及12/16nm芯片,月產(chǎn)能目標(biāo)為5.5萬(wàn)片晶圓。臺(tái)積電在發(fā)布會(huì)上強(qiáng)調(diào),2nm制程工藝(N2)研發(fā)順利,能夠按照此前目標(biāo)于2025年量產(chǎn)。此外,張曉強(qiáng)還表示,256Mb SRAM的良率已經(jīng)超過(guò)50%,研發(fā)目標(biāo)80%以上已完成。
?
2. 電科裝備實(shí)現(xiàn)離子注入裝備28納米工藝制程全覆蓋
?
據(jù)報(bào)道,中電科電子裝備集團(tuán)有限公司實(shí)現(xiàn)離子注入裝備28納米工藝制程全覆蓋。報(bào)道指出,離子注入機(jī)是芯片制造中的關(guān)鍵裝備,28納米則是當(dāng)前芯片應(yīng)用領(lǐng)域中覆蓋面最廣的成熟制程。電科裝備連續(xù)突破光路、控制、軟件等關(guān)鍵模塊的核心技術(shù),形成中束流、大束流、高能及第三代半導(dǎo)體等全系列離子注入機(jī)產(chǎn)品格局,實(shí)現(xiàn)28納米工藝制程全覆蓋。
?
3. 三星-LX“半導(dǎo)體聯(lián)盟”合作開(kāi)發(fā)下一代芯片
?
LX Semicon 是一家曾經(jīng)隸屬于 LG 集團(tuán)的綜合性企業(yè) LX Group 旗下的無(wú)晶圓公司,目前正在考慮將下一代顯示驅(qū)動(dòng)器集成電路 (DDIs) 的生產(chǎn)委托給三星電子代工。三星與 LX 的合作預(yù)計(jì)將對(duì)韓國(guó)半導(dǎo)體生態(tài)系統(tǒng)產(chǎn)生積極影響,并實(shí)現(xiàn)供應(yīng)鏈多樣化。據(jù)業(yè)內(nèi)人士 7 月 2 日消息,LX Semicon 已選擇三星電子為其代工合作伙伴,共同開(kāi)發(fā)和量產(chǎn)下一代芯片。
?
4. 比亞迪:2023 上半年銷量合計(jì) 125.5637 萬(wàn)輛,同比增長(zhǎng) 94.25%
?
比亞迪發(fā)布 2023 年 6 月產(chǎn)銷快報(bào),6 月銷量合計(jì) 25.3046 萬(wàn)輛。上半年銷量合計(jì) 125.5637 萬(wàn)輛,同比增長(zhǎng) 94.25%。新能源汽車 6 月合計(jì)銷量 25.3046 萬(wàn)輛,本年累計(jì)銷量 125.5637 萬(wàn)輛,同比增長(zhǎng) 95.78%。比亞迪 6 月海外銷售新能源乘用車合計(jì) 10536 輛;公司 2023 年 6 月新能源汽車動(dòng)力電池及儲(chǔ)能電池裝機(jī)總量約為 11.816GWh,2023 年累計(jì)裝機(jī)總量約為 60.250GWh。
?
5. 消息稱蘋果 AirPods Pro 充電盒將換用 USB-C 接口,測(cè)聽(tīng)力功能開(kāi)發(fā)中
?
據(jù)彭博社Mark Gurman在他的最新一期 Power On 時(shí)事通訊中報(bào)道,蘋果正準(zhǔn)備推出適用于 AirPods Pro 的 USB-C 充電盒,大概會(huì)在今年秋天與 iPhone 15 系列一起推出,后者也將從 Lightning 端口切換到 USB-C 端口。Gurman 還透露,除了蘋果在 WWDC 上公布的一些 iOS 17 中的 AirPods 功能之外,蘋果公司還在測(cè)試一項(xiàng)新的聽(tīng)力測(cè)試功能,該功能將會(huì)在用戶的耳朵里播放不同的音調(diào)和聲音,根據(jù)用戶的反應(yīng),能夠檢測(cè)出可能存在的聽(tīng)力問(wèn)題。
?
6. 英偉達(dá)、博通、AMD 陸續(xù)追加臺(tái)積電訂單,整體下單規(guī)模較 2023 年至少增加 20%
?
據(jù)報(bào)道,英偉達(dá)、博通、AMD 都在臺(tái)積電投片,再加上蘋果 iPhone 和 Mac 的 3nm 芯片需求,臺(tái)積電下半年?duì)I收應(yīng)會(huì)有顯著回升。由于 AI 領(lǐng)域需求增長(zhǎng),三家公司 Q2 以來(lái)不僅逐季陸續(xù)上調(diào)臺(tái)積電 5/7nm 訂單,同時(shí)也在爭(zhēng)搶臺(tái)積電 CoWoS 產(chǎn)能,強(qiáng)勁追單動(dòng)能更已延續(xù)至 2024 年,整體下單規(guī)模較 2023 年至少再增 2 成以上。
?
今日看點(diǎn)丨臺(tái)積電:不排除在日本生產(chǎn)先進(jìn)芯片 2nm研發(fā)順利;電科裝備實(shí)現(xiàn)離子注入裝備28納米工藝制程全覆
- 臺(tái)積電(164642)
相關(guān)推薦
中芯國(guó)際28納米工藝制程 開(kāi)啟手機(jī)芯片制造新紀(jì)元
采用其28納米工藝制程的 Qualcomm?驍龍?410處理器已成功應(yīng)用于主流智能手機(jī),這是28納米核心芯片實(shí)現(xiàn)商業(yè)化應(yīng)用的重要一步,開(kāi)啟了先進(jìn)手機(jī)芯片制造落地中國(guó)的新紀(jì)元。
2015-08-11 07:54:462718
半導(dǎo)體離子注入工藝講解
阱區(qū)注入的工藝說(shuō)明如下圖所示,是高能量離子注入過(guò)程,因?yàn)樗枰纬哨鍏^(qū)建立MOS晶體管。NMOS晶體管形成于P型阱區(qū)內(nèi),而P型晶體管形成于N型阱區(qū)。
2023-06-09 11:31:083889
碳化硅離子注入和退火工藝介紹
統(tǒng)的硅功率器件工藝中,高溫?cái)U(kuò)散和離子注入是最主要的摻雜控制方法,兩者各有優(yōu)缺點(diǎn)。一般來(lái)說(shuō),高溫?cái)U(kuò)散工藝簡(jiǎn)單,設(shè)備便宜,摻雜分布輪廓為等向性,且高溫?cái)U(kuò)散工藝引入的晶格損傷低。離子注入工藝復(fù)雜且設(shè)備昂貴,但它可獨(dú)立控制摻雜元素的濃度和結(jié)深,雖然也會(huì)給襯底引入大量的點(diǎn)缺陷和擴(kuò)展缺陷。
2023-12-22 09:41:21704
今日看點(diǎn)丨高通驍龍 X Elite 芯片宣稱多核性能比蘋果M3高出 21%;傳臺(tái)積電將于2024年4月開(kāi)始裝備2nm晶圓廠
了臺(tái)積電N2(2nm)項(xiàng)目的重要進(jìn)展,因?yàn)樵摴緩奈垂歼^(guò)2nm晶圓廠的確切時(shí)間表。 ? 據(jù)報(bào)道稱,雖然只是象征意義,但設(shè)備的搬入是晶圓廠建設(shè)的一個(gè)重要里程碑,因?yàn)?b class="flag-6" style="color: red">裝備一個(gè)晶圓廠通常需要一年的時(shí)間。對(duì)于臺(tái)積電的N2工藝而言,其需要多臺(tái)ASML的Twinscan NXE極紫外(E
2023-12-18 11:25:58564
10nm、7nm等制程到底是指什么?宏旺半導(dǎo)體和你聊聊
的性能,現(xiàn)在的電子產(chǎn)品對(duì)于續(xù)航有著較為苛刻的要求,而制程工藝的進(jìn)步是驅(qū)動(dòng)芯片升級(jí)的重要?jiǎng)恿ΑR苍S在7nm之后,還會(huì)有3nm甚至更加先進(jìn)的制程工藝出現(xiàn),進(jìn)一步提高產(chǎn)品的使用性能。今天科普文先到這里,歡迎
2019-12-10 14:38:41
2020年半導(dǎo)體制造工藝技術(shù)前瞻
晶體管制造工藝在近年來(lái)發(fā)展得不是非常順利,行業(yè)巨頭英特爾的主流產(chǎn)品長(zhǎng)期停滯在14nm上,10nm工藝性能也遲遲得不到改善。臺(tái)積電、三星等巨頭雖然在積極推進(jìn)7nm乃至5nm工藝,但是其頻率和性能
2020-07-07 11:38:14
臺(tái)積電5nm架構(gòu)設(shè)計(jì)試產(chǎn)
臺(tái)積電宣布5nm基本完工開(kāi)始試產(chǎn):面積縮小45%、性能提升15%.pdf(105.52 KB)
2019-04-24 06:00:42
臺(tái)積電或?qū)ⅰ蔼?dú)吞”A7大單
` 觀點(diǎn):在技術(shù)領(lǐng)先的優(yōu)勢(shì)下,臺(tái)積電獲得蘋果iPhone5芯片追加訂單已成事實(shí)。然而,在iPhone 5推出后,蘋果已朝下一世代A7處理器邁進(jìn),臺(tái)積電憑借技術(shù)領(lǐng)先的優(yōu)勢(shì),預(yù)估未來(lái)1-2年內(nèi)
2012-09-27 16:48:11
臺(tái)積電量產(chǎn)安徽iPhone 8用大時(shí)代10nmA11芯片可靠嗎
臺(tái)積電正在大量生產(chǎn)用于蘋果iPhone8手機(jī)的10nm A11處理器。消息稱,蘋果可能在下個(gè)月初正式發(fā)布iPhone 8,但是具體發(fā)貨日期仍然不確定。 據(jù)悉,臺(tái)積電已經(jīng)采用10nm FinFET
2017-08-17 11:05:18
離子注入技術(shù)有什么特點(diǎn)?
離子注入是將離子源產(chǎn)生的離子經(jīng)加速后高速射向材料表面,當(dāng)離子進(jìn)入表面,將與固體中的原子碰撞,將其擠進(jìn)內(nèi)部,并在其射程前后和側(cè)面激發(fā)出一個(gè)尾跡。這些撞離原子再與其它原子碰撞,后者再繼續(xù)下去,大約在10-11s內(nèi),材料中將建立一個(gè)有數(shù)百個(gè)間隙原子和空位的區(qū)域。
2019-10-30 09:10:53
AI芯片可能只是FPGA的附庸
要用7納米?所謂制程納米,是CMOS FET晶體管閘極的寬度,也就是閘長(zhǎng)。閘長(zhǎng)可以分為光刻閘長(zhǎng)和實(shí)際閘長(zhǎng),光刻閘長(zhǎng)則是由光刻技術(shù)所決定的。由于在光刻中光存在衍射現(xiàn)象以及芯片制造中還要經(jīng)歷離子注入、蝕刻
2018-07-31 09:56:50
GF退出7納米大戰(zhàn) 三國(guó)鼎立下中國(guó)芯路在何方
退出7納米研發(fā),令業(yè)界十分震驚。自GF 退出戰(zhàn)局后,全球7納米大戰(zhàn)的芯片大廠僅剩英特爾、臺(tái)積電和三星這三家,高端芯片戰(zhàn)場(chǎng)上呈現(xiàn)三國(guó)鼎立之勢(shì)。全球第二大芯片廠 GF何故離場(chǎng)?GF是全球第二大芯片代工廠
2018-09-05 14:38:53
IBM宣布造出全球首顆2nm EUV芯片 精選資料分享
今日(5月6日)消息,IBM宣布造出了全球第一顆2nm工藝的半導(dǎo)體芯片。核心指標(biāo)方面,IBM稱該2nm芯片的晶體管密度(MTr/mm2,每平方...
2021-07-20 06:51:04
MLCC龍頭漲價(jià);車廠砍單芯片;臺(tái)積電28nm設(shè)備訂單全部取消!
需求變化,臺(tái)積電28nm設(shè)備訂單全部取消!
對(duì)于這一消息,臺(tái)積電方面表示,相關(guān)制程技術(shù)與時(shí)間表依客戶需求及市場(chǎng)動(dòng)向而定,目前正處法說(shuō)會(huì)前緘默期,不便多做評(píng)論,將于法說(shuō)會(huì)說(shuō)明。
目前28nm工藝代工市場(chǎng)
2023-05-10 10:54:09
[轉(zhuǎn)]臺(tái)積電借16nm FinFET Plus及InFO WLP 通吃英特爾蘋果
1座支持20納米12英寸廠南科Fab14第5期已全產(chǎn)能投片,第2座12英寸廠Fab14第6期將在7月正式進(jìn)入量產(chǎn),將成為臺(tái)積電第3季營(yíng)收挑戰(zhàn)2,000億元新高的重要?jiǎng)幽堋?臺(tái)積電原本計(jì)劃在今年底轉(zhuǎn)進(jìn)
2014-05-07 15:30:16
【AD新聞】百萬(wàn)片訂單大洗牌!臺(tái)積電或成高通新一代PMIC芯片最大供應(yīng)商
納米制程AP訂單,加上電源管理芯片進(jìn)入新一代規(guī)格后,臺(tái)積電將成為高通的主力供應(yīng)商,未來(lái)高通與臺(tái)積電在各大產(chǎn)品線可望全面強(qiáng)化合作。 近來(lái)8吋晶圓廠產(chǎn)能持續(xù)大爆滿,包括電源管理芯片、指紋辨識(shí)芯片等需求
2017-09-22 11:11:12
【AD新聞】競(jìng)爭(zhēng)激烈!臺(tái)積電中芯搶高通芯片訂單
了高通的訂單。之后,中芯國(guó)際憑借極具競(jìng)爭(zhēng)力的價(jià)格從Globalfoundries手中奪走了訂單,成為高通電源管理芯片的主要合作伙伴。我們知道,在高通的幫助下,中芯國(guó)際實(shí)現(xiàn)了28nm工藝量產(chǎn),而且還加快14nm硅片的量產(chǎn)。由于產(chǎn)能、價(jià)格及新芯片技術(shù)的原因,此次高通將電源管理芯片交給了臺(tái)積電生產(chǎn)。
2017-09-27 09:13:24
從7nm到5nm,半導(dǎo)體制程 精選資料分享
的寬度,也被稱為柵長(zhǎng)。柵長(zhǎng)越短,則可以在相同尺寸的硅片上集成更多的晶體管。目前,業(yè)內(nèi)最重要的代工企業(yè)臺(tái)積電、三星和GF(格羅方德),在半導(dǎo)體工藝的發(fā)展上越來(lái)越迅猛,10nm制程才剛剛應(yīng)用一年半,7n...
2021-07-29 07:19:33
全球進(jìn)入5nm時(shí)代
科學(xué)園區(qū)周邊特定區(qū)、大埔范圍。為了滿足5nm及更先進(jìn)制程的需求,臺(tái)積電已建立了整合扇出型(InFO)及CoWoS等封測(cè)產(chǎn)能支持,完成了3D IC封裝技術(shù)研發(fā),包括晶圓堆疊晶圓(WoW)及系統(tǒng)整合單芯片
2020-03-09 10:13:54
半導(dǎo)體制造企業(yè)未來(lái)分析
、光學(xué)工程師及制程技術(shù)員等,以支持5nm的發(fā)展。 為了保證資金充足,臺(tái)積電甚至多年來(lái)首次對(duì)外公開(kāi)募資20億美元,以充實(shí)其彈藥庫(kù)。 而一直將超越臺(tái)積電視為發(fā)展目標(biāo)的三星,近年來(lái)也在先進(jìn)工藝上不斷砸下重金
2020-02-27 10:42:16
日進(jìn)3.3億,年狂掙千億的臺(tái)積電,為何還漲價(jià)?
(26.1%)的營(yíng)業(yè)利潤(rùn)率。但轉(zhuǎn)念一想,臺(tái)積電通過(guò)漲價(jià)來(lái)推進(jìn)新芯片廠的順利建設(shè),長(zhǎng)期來(lái)看,可幫助我們避免另一場(chǎng)芯片危機(jī),這也許是值得的。其次,受疫情影響,半導(dǎo)體上游材料生產(chǎn)及供應(yīng)受到影響,導(dǎo)致晶圓代工所需
2021-09-02 09:44:44
聚焦離子束應(yīng)用介紹
減少不成功的設(shè)計(jì)方案修改次數(shù),縮短研發(fā)時(shí)間和周期。2.Cross-Section 截面分析用FIB在IC芯片特定位置作截面斷層,以便觀測(cè)材料的截面結(jié)構(gòu)與材質(zhì),定點(diǎn)分析芯片結(jié)構(gòu)缺陷。3.Probing
2020-02-05 15:13:29
蘋果芯片供應(yīng)商名單曝光后 三星哭了!
工藝的研發(fā)和產(chǎn)品線開(kāi)發(fā)資金。此外,為了避免去年在A9芯片上和三星斗得“兩敗俱傷”,今年臺(tái)積電在供應(yīng)鏈上也做好了充足的準(zhǔn)備。唯一美中不足的是,臺(tái)積電前段時(shí)間的全球首款10nm工藝芯片,還沒(méi)有辦法量產(chǎn)
2016-07-21 17:07:54
論工藝制程,Intel VS臺(tái)積電誰(shuí)會(huì)贏?
1662.53億元人民幣),同比增長(zhǎng)10.6%,稅后凈利3065.74億元新臺(tái)幣(約為604.26億元人民幣),同比增長(zhǎng)16.2%,成績(jī)可喜。對(duì)于先進(jìn)制程,臺(tái)積電透露,7nm、10nm研發(fā)順利進(jìn)行,今年Q1
2016-01-25 09:38:11
鉺離子注入碳化硅后的射程分布和射程離散
離散和橫向離散對(duì)器件性能的影響,應(yīng)用盧瑟福背散射技術(shù)研究將劑量為5×1015cm-2的400 keV能量的Er+離子注入6H-SiC晶體的平均投影射程、射程離散和深度分布。用SRIM2006模擬軟件
2010-04-22 11:36:02
M5525100-1/UM型大角度離子注入機(jī)
M5525100-1/UM型大角度離子注入機(jī):M5525100-1/UM 型大角度離子注入機(jī)可滿足100 納米,8 英寸集成電路制造工藝的要求,適合源漏區(qū)的大角度暈、袋、柵閾值調(diào)整、阱等注入,可獲得良好
2009-12-19 12:57:0212
較實(shí)用的裝備生產(chǎn)ERP軟件
不同的裝備有不同的特點(diǎn)、結(jié)構(gòu)、制造工藝等,部分裝備對(duì)人工操作、生產(chǎn)設(shè)備、材料、工藝等有著特定的要求。 而裝備生產(chǎn)大多涵蓋圖紙、原材料、配件、倉(cāng)儲(chǔ)、BOM
2024-02-28 11:07:35
芯片界的卷王,老大哥臺(tái)積電搶先進(jìn)軍2納米工藝#科技#芯片?? #硬聲創(chuàng)作季
芯片臺(tái)積電納米
Hello,World!發(fā)布于 2022-10-06 09:11:09
離子注入的特點(diǎn)
離子注入的特點(diǎn),與通常的冶金方法不同,離子注入是用高能量的離子注入來(lái)獲得表面合金層的,因而有其特點(diǎn)。
2011-05-22 12:27:084337
離子注入設(shè)備和方法
離子注入設(shè)備和方法:最簡(jiǎn)單的離子注入機(jī)(圖2)應(yīng)包括一個(gè)產(chǎn)生離子的離子源和放置待處理物件的靶室。
2011-05-22 12:29:557367
離子注入工藝 (課程設(shè)計(jì)資料)
離子注入是現(xiàn)代集成電路制造中的一種非常重要的技術(shù),其利用離子注入機(jī)實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體的摻雜,即將特定的雜質(zhì)原子(Dopant)以離子加速的方式注入硅半導(dǎo)體晶體內(nèi)改變其導(dǎo)電特性并最終
2011-05-22 12:34:0083
離子注入(Ion Implantation)教程
離子注入是另一種對(duì)半導(dǎo)體進(jìn)行摻雜的方法。將雜質(zhì)電離成離子并聚焦成離子束,在電場(chǎng)中加速而獲得極高的動(dòng)能后,注入到硅中(稱為 靶 )而實(shí)現(xiàn)摻雜。 離子束是一種帶電原子或帶
2011-05-22 12:40:530
離子注入工藝(ion implantation)
離子注入的特點(diǎn)是加工溫度低,易做淺結(jié),大面積注入雜質(zhì)仍能保證均勻,摻雜種類廣泛,并且易于自動(dòng)化。由于采用了離子注入技術(shù),大大地推動(dòng)了半導(dǎo)體器件和集成電路工業(yè)的發(fā)展
2011-05-22 12:56:47118
離子注入知識(shí)常見(jiàn)問(wèn)答
上帝在調(diào)情 發(fā)表于: 2010-5-28 10:45 來(lái)源: 電子發(fā)燒友網(wǎng) 1. 什么是離子注入? 離子注入(Ion Implant)是一種把高能量的摻雜元素的離子注入半導(dǎo)體晶片中,以得到所需要的摻雜濃度和結(jié)深的
2011-05-22 13:00:000
離子注入技術(shù)
電子發(fā)燒友為大家整理的離子注入技術(shù)專題有離子注入技術(shù)基本知識(shí)、離子注入技術(shù)論文及離子注入技術(shù)培訓(xùn)學(xué)習(xí)資料。離子注入技術(shù)就是把摻雜劑的原子引入固體中的一種材料改性方
2011-05-22 16:40:46
新式TII技術(shù)可望微縮超越9nm
實(shí)驗(yàn)室(Berkeley Lab)的研究人員日前發(fā)表最新的「傾斜離子注入」(tilted ion implantation,TII)制程,據(jù)稱能夠降低制造先進(jìn)芯片的成本、縮短研發(fā)時(shí)間,同時(shí)實(shí)現(xiàn)比當(dāng)今最先進(jìn)制程更小達(dá)的9奈米(nm)特征尺寸。 近年來(lái),隨著芯片制造成本和復(fù)雜度的快速增加,延緩了摩爾定
2017-02-08 01:52:12155
中芯國(guó)際要研發(fā)更先進(jìn)制程工藝 臺(tái)積電一員大將可能加入中芯國(guó)際
芯片代工行業(yè)中的四大廠商之一。然而,目前,中芯國(guó)際投入量產(chǎn)的最先進(jìn)的制程工藝是28納米PolySiON工藝。并且,中芯國(guó)際仍需對(duì)高端的28納米HKMG工藝繼續(xù)深入探究。臺(tái)積電、三星、英特爾、格羅方德和聯(lián)華電子等半導(dǎo)體廠商都在爭(zhēng)相研發(fā)更先進(jìn)的制程工
2017-04-26 10:05:11712
電科裝備自主研發(fā)的00mmCMP設(shè)備使中國(guó)芯片高端裝備再添利器
半導(dǎo)體行業(yè)觀察:日前,中電科電子裝備集團(tuán)有限公司(以下簡(jiǎn)稱電科裝備)傳來(lái)好消息,自主研發(fā)的國(guó)內(nèi)首臺(tái)中束流離子注入機(jī)在中芯國(guó)際大生產(chǎn)線上穩(wěn)定流片逾200萬(wàn)
2017-12-19 18:06:396669
臺(tái)積電2nm工藝制程研發(fā)啟動(dòng),預(yù)計(jì)2024年可實(shí)現(xiàn)投產(chǎn)
,6nm、5nm、4nm、3nm 等都已勢(shì)如破竹準(zhǔn)備量產(chǎn),而其對(duì)手臺(tái)積電在較早前就宣布3nm制程發(fā)展相當(dāng)順利,后續(xù)的2nm工藝研發(fā)也開(kāi)始啟動(dòng),預(yù)計(jì) 2024年就能夠投產(chǎn)。
2019-08-26 12:29:002622
國(guó)產(chǎn)離子注入機(jī)已發(fā)往大產(chǎn)線,集成電路裝備再破零
近日,從電科裝備旗下?tīng)q科中科信公司傳來(lái)喜訊,公司研發(fā)的12英寸中束流離子注入機(jī)順利發(fā)往某集成電路大產(chǎn)線,這臺(tái)由客戶直接采購(gòu)的設(shè)備如期交付,標(biāo)志著公司國(guó)產(chǎn)離子注入機(jī)市場(chǎng)化進(jìn)程再上新臺(tái)階。
2020-06-23 10:20:284019
臺(tái)積電2nm工藝的研發(fā)已取得重大進(jìn)展,爭(zhēng)取目標(biāo)良品率達(dá)90%
9月25日消息,據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,今年一季度順利量產(chǎn)5nm工藝的臺(tái)積電,正在研發(fā)更先進(jìn)的3nm和2nm芯片制程工藝,3nm工藝是計(jì)劃在明年風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn),2022年下半年大規(guī)模投產(chǎn)。
2020-09-25 14:17:101728
臺(tái)積電對(duì)2nm工藝2024年大規(guī)模投產(chǎn)非常樂(lè)觀
據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,在 5nm 工藝大規(guī)模投產(chǎn)之后,芯片代工商臺(tái)積電制程工藝的研發(fā)重點(diǎn)就將轉(zhuǎn)向了更先進(jìn)的 3nm 和 2nm 工藝,3nm 工藝是計(jì)劃在 2021 年開(kāi)始風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn),2022 年下
2020-11-17 17:34:021415
臺(tái)積電、三星在2022年將制程工藝推到2nm
臺(tái)積電、三星在2022年就有可能將制程工藝推到2nm,AMD、蘋果、高通、NVIDIA等公司也會(huì)跟著受益,現(xiàn)在自己生產(chǎn)芯片的就剩下Intel了,然而它們的7nm工藝已經(jīng)延期到至少2021年了。
2020-11-18 09:52:511857
離子注入工藝的設(shè)計(jì)與計(jì)算簡(jiǎn)介
介紹工藝之前,我們先聊一下昨天一個(gè)朋友提到的日本日新的離子注入設(shè)備。日本日新是全球3大離子注入設(shè)備商之一。 1973年的時(shí)候,該公司就開(kāi)始做離子注入的工藝設(shè)備。 目前的主要業(yè)務(wù)設(shè)備如上表。詳細(xì)的可以
2020-11-20 10:03:276458
離子注入工藝仿真
附近產(chǎn)生很多缺陷。如下圖, 但是離子注入之后也是需要二次退火的,退火的目的一是去除缺陷,二是讓摻雜的原子能夠進(jìn)入到晶格里面去,讓其處于激活狀態(tài)。感興趣的可以查閱半導(dǎo)體書本學(xué)習(xí),推薦一本卡哇伊的半導(dǎo)體書,日本人
2020-11-20 10:10:305208
美日聯(lián)手對(duì)抗臺(tái)積電,欲攻克2nm工藝技術(shù)
據(jù)日經(jīng)新聞近日?qǐng)?bào)道稱,美國(guó)與日本就2nm工藝研發(fā)一事展開(kāi)了技術(shù)合作,將有美日雙方數(shù)家高科技公司參與該協(xié)議。 目前的芯片代工領(lǐng)域,中國(guó)臺(tái)灣的臺(tái)積電毫無(wú)疑問(wèn)坐在了龍頭的位置,全球63%芯片代工的市場(chǎng)份額
2022-05-07 15:37:511021
美日聯(lián)手研發(fā)半導(dǎo)體,計(jì)劃2025年生產(chǎn)2nm制程技術(shù)
為了減小對(duì)臺(tái)積電的依賴,美日雙方開(kāi)始聯(lián)手研發(fā)半導(dǎo)體技術(shù),近日據(jù)報(bào)道稱,日本計(jì)劃最早在2025年啟動(dòng)半導(dǎo)體制造基地,并與美國(guó)聯(lián)手生產(chǎn)2nm制程技術(shù)。 目前全球半導(dǎo)體加工領(lǐng)域最先進(jìn)的企業(yè)是中國(guó)臺(tái)灣
2022-06-16 14:43:131445
2nm芯片是什么概念
我們說(shuō)的2nm和3nm,是從芯片的制造工藝方面來(lái)定義的。先進(jìn)的5納米工藝芯片,每個(gè)晶體管只有20個(gè)硅原子的大小,一塊芯片上,有100億到200億個(gè)的這種晶體管,一個(gè)頭發(fā)絲的截面,就有100多萬(wàn)個(gè)原件!
2022-06-22 09:19:1924548
全球首顆2nm芯片問(wèn)世時(shí)間 2nm芯片是多大
納米是計(jì)量單位,且1mm=1000000nm。芯片中的納米主要指的是生產(chǎn)芯片的工藝制程。
2022-06-22 11:00:364497
中國(guó)造2nm芯片嗎?前景如何?
在全球芯片先進(jìn)制程追逐戰(zhàn)中,IBM亮處了其生產(chǎn)的全球首款2nm芯片,臺(tái)積電和三星表示將在2024年左右完成2nm制程的量產(chǎn),中科院也表示已經(jīng)攻克了新的晶體管技術(shù)并且下一代半導(dǎo)體關(guān)鍵材料相關(guān)技術(shù)和資源
2022-06-22 14:42:1525471
中國(guó)臺(tái)積電研發(fā)2nm芯片
據(jù)外媒報(bào)道,臺(tái)積電正在研發(fā)先進(jìn)的2nm制程工藝,在北美技術(shù)論壇上,臺(tái)積電也是首次宣布,它們的目標(biāo)是在2025年實(shí)現(xiàn)2nm芯片量產(chǎn)。
2022-06-22 16:39:011596
2nm芯片什么時(shí)候量產(chǎn)
臺(tái)積電3nm制工藝將于2022年內(nèi)量產(chǎn),而臺(tái)積電首次采用納米片晶體管架構(gòu)的2nm制程工藝,將于2025年量產(chǎn),了解到,2nm工藝將比其前身提供純性能提升。
2022-06-22 17:11:591116
2nm芯片是哪個(gè)國(guó)家研制的 2nm芯片什么時(shí)候量產(chǎn)
據(jù)相關(guān)消息報(bào)道,現(xiàn)階段臺(tái)積電正在研發(fā)更先進(jìn)的2nm制程工藝,采用GAAFET全環(huán)繞柵極晶體管技術(shù),計(jì)劃將會(huì)在 2025年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。
2022-06-23 09:15:58908
2nm芯片問(wèn)世了嗎 2nm芯片優(yōu)勢(shì)是什么
目前市面上的先進(jìn)制程主要由臺(tái)積電和三星兩家廠商代工,最先進(jìn)的制程為4nm,2022年下半年將會(huì)完成3nm制程的量產(chǎn),不過(guò)有人提問(wèn):2nm芯片問(wèn)世了嗎?2nm芯片優(yōu)勢(shì)是什么? 提出這個(gè)問(wèn)題的人一定
2022-06-23 09:51:421403
2nm芯片是極限嗎
會(huì)問(wèn)了:2nm芯片是極限嗎? 之前臺(tái)積電公布了先進(jìn)制程發(fā)展規(guī)劃圖,從圖中我們可得知,在步入3nm制程后,臺(tái)積電將繼續(xù)在3nm上研發(fā)多代制程,直到2025年才能研發(fā)出2nm制程,而去年IBM就已經(jīng)研制出2nm芯片了,從去年到2025年如此長(zhǎng)的時(shí)間里人類都在2nm及2nm之前的
2022-06-23 10:12:374233
2nm芯片與7nm芯片的差距有多大?
去年傳出了中科院、IBM研發(fā)2nm芯片及技術(shù)的消息,而今年臺(tái)積電和三星又相繼宣布將在2025年實(shí)現(xiàn)2nm制程芯片的量產(chǎn),并且美國(guó)和日本也開(kāi)始聯(lián)手攻克2nm芯片相關(guān)技術(shù),從這些消息能看出2nm芯片
2022-06-24 10:31:303662
中科院研發(fā)2nm芯片 中科院攻克2nm芯片關(guān)鍵技術(shù)
現(xiàn)階段全球芯片行業(yè)都聚焦在了2nm工藝制程上,臺(tái)積電、IBM等芯片巨頭也都相繼宣布了2nm制程技術(shù)的相關(guān)消息。
2022-06-27 16:55:3811544
2nm芯片是什么意思 2nm芯片什么用
芯片中的納米指的是生產(chǎn)芯片的工藝制程,納米(符號(hào)為nm)如同厘米、分米和米一樣,是長(zhǎng)度單位,2nm、3nm、7nm是指處理器的蝕刻尺寸。
2022-06-27 17:42:4912062
臺(tái)積電2nm芯片最新消息
臺(tái)積電即將推出下一代先進(jìn)工藝制程2nm芯片,臺(tái)積電2nm芯片棄用FinFET鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管技術(shù),首次采用GAAFET全環(huán)繞柵極晶體管技術(shù),將于2025年開(kāi)始量產(chǎn)。
2022-06-27 18:03:471295
中國(guó)芯片突破2nm 國(guó)產(chǎn)2nm芯片有望破冰
近日,臺(tái)積電正式宣布稱2nm工藝芯片技術(shù)方面實(shí)現(xiàn)了重大突破,并且計(jì)劃在2025年進(jìn)階應(yīng)用2nm工藝,國(guó)產(chǎn)2nm芯片在不久之后或迎來(lái)破冰,目前臺(tái)積電和三星已經(jīng)著手3nm制程的量產(chǎn)了。
2022-06-29 09:20:3025069
全球首款2nm芯片問(wèn)世 2nm芯片帶來(lái)的突破
在2021年5月份,IBM發(fā)布全球首個(gè)2nm制程芯片制造技術(shù),全球首顆2nm芯片正式問(wèn)世。近期,臺(tái)積電正式宣布用于生產(chǎn)納米片晶體管架構(gòu)的2nm芯片,預(yù)計(jì)在2025年量產(chǎn),三星電子也已經(jīng)開(kāi)始大規(guī)模生產(chǎn)3nm芯片,2nm將于2025年量產(chǎn)。
2022-06-29 09:38:042826
臺(tái)積電2nm芯片什么時(shí)候研發(fā)出來(lái)的
臺(tái)積電2nm芯片什么時(shí)候研發(fā)出來(lái)的?去年五月份,美國(guó)企業(yè)IBM推出了全球首個(gè)2nm芯片制造技術(shù),2nm芯片在市場(chǎng)掀起風(fēng)起云涌。早在去年下半年,臺(tái)積電就實(shí)現(xiàn)了5nm芯片的量產(chǎn),而它的下一個(gè)目標(biāo)就是3nm和2nm制程。
2022-06-29 09:54:491082
IBM 2nm制程芯片采用的是什么技術(shù)
IBM的2nm制程芯片采用的是什么技術(shù)?IBM 2nm制程芯片采用GAA環(huán)繞柵極晶體管技術(shù),晶體管密度可達(dá)5nm兩倍,每平方毫米容納3.3億個(gè)晶體管,2nm芯片將計(jì)算速度要提高45%,能源效率更是提高75%,電池續(xù)航時(shí)間提升至之前的4倍。
2022-06-29 17:43:08885
國(guó)產(chǎn)2nm芯片有望成功嗎?
2nm是目前芯片行業(yè)最先進(jìn)的制程,雖然還沒(méi)有一家企業(yè)能夠量產(chǎn)2nm芯片,但已經(jīng)有不少企業(yè)開(kāi)始了2nm工藝的相關(guān)研發(fā)。 臺(tái)積電和三星都已計(jì)劃好在2025年左右實(shí)現(xiàn)2nm制程工藝的量產(chǎn),而美國(guó)和日本
2022-06-30 10:01:392424
三星3nm芯片量產(chǎn) 2nm芯片還遠(yuǎn)嗎
三星3nm芯片量產(chǎn) 2nm芯片還遠(yuǎn)嗎 全球第一款正式量產(chǎn)的3nm芯片即將出自三星半導(dǎo)體了,根據(jù)三星半導(dǎo)體官方的宣布,4D(GAA)架構(gòu)制程技術(shù)芯片正式開(kāi)始生產(chǎn)。 4D(GAA)架構(gòu)制程是3D
2022-06-30 20:21:521441
臺(tái)積電2nm芯片最新信息 臺(tái)積電計(jì)劃2025年投產(chǎn)2nm芯片
近日,臺(tái)積電在北美技術(shù)論壇上首次宣布,將推出下一代先進(jìn)工藝制程2nm芯片,將采用GAAFET全環(huán)繞柵極晶體管技術(shù),2nm工藝全球即將首發(fā),臺(tái)積電公開(kāi)承諾到2025年生產(chǎn)先進(jìn)的2nm芯片。
2022-07-01 09:36:581661
臺(tái)積電2nm工藝最新消息 臺(tái)積電2nm芯片什么時(shí)候上市
臺(tái)積電在北美技術(shù)論壇上宣布推出了先進(jìn)工藝制程2nm,采用GAAFET全環(huán)繞柵極晶體管技術(shù),預(yù)計(jì)在2025年的時(shí)候實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)計(jì)劃。
2022-07-01 09:41:171071
臺(tái)積電2nm芯片預(yù)計(jì)將于2025年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)
臺(tái)積電在北美技術(shù)論壇上公開(kāi)了未來(lái)先進(jìn)制程的信息,其3nm芯片將于2022年內(nèi)量產(chǎn),而首次采用GAAFET全環(huán)繞柵極晶體管技術(shù)的2nm制程工藝芯片,預(yù)計(jì)將于2025年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。
2022-07-01 18:31:091391
2nm芯片的晶體管有多大
現(xiàn)在的芯片技術(shù)越來(lái)越先進(jìn),人們常常能夠聽(tīng)到某某公司又研發(fā)出5nm、4nm芯片的消息,而目前全球所研發(fā)出的最先進(jìn)的芯片是IBM公司的2nm芯片,我們都知道芯片內(nèi)部有很多晶體管,那么2nm芯片的晶體管
2022-07-04 09:15:363936
什么叫2nm芯片
什么叫2nm芯片 芯片這種東西大家都知道,無(wú)非是電子設(shè)備中的關(guān)鍵元器件,在之前IBM公司發(fā)布了轟動(dòng)全球的2nm芯片,那么大家知道什么叫2nm芯片嗎? 2nm芯片指的是采用了2nm制程工藝所制造出來(lái)
2022-07-04 10:08:3512809
臺(tái)積電2nm和3nm制程工藝
臺(tái)積電首度推出采用GAAFET技術(shù)的2nm制程工藝,將于2025年量產(chǎn),其采用FinFlex技術(shù)的3nm制程工藝將于2022年內(nèi)量產(chǎn)。
2022-07-04 18:13:312636
2nm芯片一片多少錢
去年五月份,IBM公司領(lǐng)先全球制造出了首顆2nm制程工藝芯片,直到前幾天三星才開(kāi)始首次量產(chǎn)3nm芯片,而IBM在去年就已經(jīng)研制出了2nm芯片,如此先進(jìn)的技術(shù)自然就會(huì)有人疑惑2nm芯片一片
2022-07-05 09:16:132455
2nm芯片與7nm芯片的差距 2nm芯片有多牛
1、IBM的2nm芯片,所有關(guān)鍵功能都是使用EUV光刻機(jī)進(jìn)行刻蝕。而7nm芯片只有在芯片生產(chǎn)的中間和后端環(huán)節(jié)使用EUV光刻機(jī),意味著2nm工藝對(duì)EUV光刻機(jī)擁有更高的依賴性。
2022-07-05 17:26:497172
歐洲沖刺2nm芯片研發(fā),建設(shè)2nm工廠
還不能進(jìn)行量產(chǎn),但這也表現(xiàn)出了IBM技術(shù)的先進(jìn)。 據(jù)了解,美國(guó)和日本將聯(lián)手攻克先進(jìn)制程領(lǐng)域,將于2025年量產(chǎn)2nm芯片,全球芯片巨頭三星和臺(tái)積電同樣計(jì)劃在2025年實(shí)現(xiàn)2nm芯片的量產(chǎn),除了這些半導(dǎo)體巨頭外,還有另一方勢(shì)力也在沖刺著2mn芯片的研發(fā)。
2022-07-06 15:42:051115
2nm芯片有望成功嗎 2nm芯片最新進(jìn)展
2021年5月,IBM接連在多個(gè)工藝節(jié)點(diǎn),率先推出測(cè)試芯片。中科院在2納米芯片工藝的承載材料上獲得了最新突破,臺(tái)積電也預(yù)計(jì)將在2024年年底和2025年進(jìn)行2nm制程的風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn),2nm制程研究均已正式進(jìn)入開(kāi)發(fā)階段。
2022-07-07 09:44:373853
2nm芯片是真的嗎 2nm芯片研究成功意味著什么
芯片制程一直是大家所關(guān)注的一個(gè)點(diǎn),眾所周知芯片制程越先進(jìn)也就代表著芯片性能越強(qiáng)大,芯片其它各項(xiàng)參數(shù)也會(huì)更加優(yōu)秀。 2nm芯片是真的嗎 2022年6月30日,三星宣布正式實(shí)現(xiàn)了3nm芯片的量產(chǎn),領(lǐng)先
2022-07-07 10:17:583921
離子注入與傳統(tǒng)熱擴(kuò)散工藝區(qū)別
與通過(guò)傳統(tǒng)熱擴(kuò)散工藝進(jìn)行摻雜的方式相比,離子注入摻雜具有如下優(yōu)點(diǎn)。
2022-10-31 09:06:015611
日本半導(dǎo)體復(fù)興 最快2025年搞定2nm工藝
在全球先進(jìn)半導(dǎo)體工藝中,臺(tái)積電、三星都有2nm工藝計(jì)劃,美國(guó)也能靠Intel實(shí)現(xiàn)2nm及以下的工藝,日本作為曾經(jīng)的半導(dǎo)體第一已經(jīng)沒(méi)有了先進(jìn)工藝生產(chǎn)能力,這也是他們要努力補(bǔ)上的,現(xiàn)在要聯(lián)手美國(guó)實(shí)現(xiàn)
2022-11-08 11:19:10711
45nm工藝直躍2nm工藝,日本芯片工藝憑什么?
搞定2nm工藝需要至少3方面的突破,一個(gè)是技術(shù),一個(gè)是資金,一個(gè)是市場(chǎng),在技術(shù)上日本是指望跟美國(guó)的IBM公司合作,后者前兩年就演示過(guò)2nm工藝,但I(xiàn)BM的2nm工藝還停留在實(shí)驗(yàn)室級(jí)別,距離量產(chǎn)要很遠(yuǎn)。
2023-04-14 10:24:55507
離子注入工藝的損傷與熱退火
高電流的硅或錯(cuò)離子注入將嚴(yán)重破壞單晶體的晶格結(jié)構(gòu),并在晶圓表面附近產(chǎn)生非晶態(tài)層。
2023-05-19 09:22:131960
電科裝備實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)離子注入機(jī)28納米工藝制程全覆蓋
離子注入機(jī)是芯片制造中的關(guān)鍵裝備。在芯片制造過(guò)程中,需要摻入不同種類的元素按預(yù)定方式改變材料的電性能,這些元素以帶電離子的形式被加速至預(yù)定能量并注入至特定半導(dǎo)體材料中,離子注入機(jī)就是執(zhí)行這一摻雜工藝的芯片制造設(shè)備。
2023-06-30 16:41:19412
中國(guó)電科實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)離子注入機(jī)28納米工藝全覆蓋!【附41份報(bào)告】
來(lái)源:芯智訊,謝謝 編輯:感知芯視界 6月29日,據(jù)中國(guó)電子科技集團(tuán)有限公司(以下簡(jiǎn)稱“中國(guó)電科”)官方消息,該集團(tuán)旗下中電科電子裝備集團(tuán)有限公司(以下簡(jiǎn)稱“電科裝備”)已實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)離子注入機(jī)28納米
2023-07-03 09:16:46651
中國(guó)電科宣布已實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)離子注入機(jī)28納米工藝制程全覆蓋
離子注入機(jī)是芯片制造中的關(guān)鍵裝備。在芯片制造過(guò)程中,需要摻入不同種類的元素按預(yù)定方式改變材料的電性能,這些元素以帶電離子的形式被加速至預(yù)定能量并注入至特定半導(dǎo)體材料中,離子注入機(jī)就是執(zhí)行這一摻雜工藝的芯片制造設(shè)備。
2023-07-03 15:05:55593
半導(dǎo)體離子注入工藝評(píng)估
摻雜物的種類、結(jié)深與摻雜物濃度是離子注入工藝的最重要因素。摻雜物種類可以通過(guò)離子注入機(jī)的質(zhì)譜儀決定,摻雜物濃度由離子束電流與注入時(shí)間的乘積決定。四點(diǎn)探針是離子注入監(jiān)測(cè)中最常使用的測(cè)量工具,可以測(cè)量
2023-07-07 09:51:172240
離子注入技術(shù)在晶硅太陽(yáng)能電池中的應(yīng)用優(yōu)勢(shì)
在晶硅太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)過(guò)程中,離子注入是一項(xiàng)非常重要的工藝,它可以大幅度提高光電轉(zhuǎn)換率,實(shí)現(xiàn)在應(yīng)用中的精益有效。「美能光伏」作為一家具有眾多檢測(cè)電池和組件性能設(shè)備的光伏企業(yè),擁有的美能傅里葉紅外光
2023-08-29 08:35:56376
2nm芯片是什么意思 2nm芯片什么時(shí)候量產(chǎn)
2nm芯片是什么意思 2nm芯片指的是采用了2nm制程工藝所制造出來(lái)的芯片,制程工藝的節(jié)點(diǎn)尺寸表示芯片上元件的最小尺寸。這意味著芯片上的晶體管和其他電子元件的尺寸可以達(dá)到2納米級(jí)別。 更小的節(jié)點(diǎn)尺寸
2023-10-19 16:59:161958
2nm芯片什么時(shí)候出 2nm芯片手機(jī)有哪些
N2,也就是2nm,將采用GAAFET全環(huán)繞柵極晶體管技術(shù),預(yù)計(jì)2025年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。 2nm芯片是指采用了2nm制程工藝所制造出來(lái)的芯片,制程工藝的節(jié)點(diǎn)尺寸表示芯片上元件的最小尺寸。這意味著芯片上的晶體管和其他電子元件的尺寸可以達(dá)到2納米級(jí)別。 2nm芯片手機(jī)
2023-10-19 17:06:18800
離子注入仿真用什么模型
離子注入是一種重要的半導(dǎo)體工藝,用于在材料中引入離子,改變其物理和化學(xué)性質(zhì)。離子注入仿真是對(duì)離子的注入過(guò)程進(jìn)行建模和模擬,以幫助優(yōu)化工藝參數(shù)并預(yù)測(cè)材料性能的變化。以下將詳細(xì)介紹離子注入仿真的模型
2023-12-21 16:38:19257
臺(tái)積電第一家日本工廠即將開(kāi)張:預(yù)生產(chǎn)28nm工藝芯片
這座晶圓廠于2022年4月開(kāi)始新建,大樓主結(jié)構(gòu)已完工,且辦公室部分區(qū)域也在今年8月啟用。將生產(chǎn)N28 28nm級(jí)工藝芯片,這是日本目前最先進(jìn)的半導(dǎo)體工藝。22ULP工藝也會(huì)在這里生產(chǎn),但注意它不是22nm,而是28nm的一個(gè)變種,專用于超低功耗設(shè)備。
2024-01-03 15:53:27433
臺(tái)積電2nm制程穩(wěn)步推進(jìn),2025年將實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)
得益于2nm制程項(xiàng)目的順利推進(jìn),寶山、高雄新晶圓廠的建造工程正有序進(jìn)行。臺(tái)中科學(xué)園區(qū)已初步確定了A14與A10生產(chǎn)線的布局,具體是否增設(shè)2nm制程工藝將根據(jù)市場(chǎng)需求再定。
2024-01-16 09:40:51217
臺(tái)積電2nm制程進(jìn)展順利
臺(tái)中科學(xué)園區(qū)已初步規(guī)劃A14和A10生產(chǎn)線,將視市場(chǎng)需求決定是否新增2nm制程工藝。
2024-01-31 14:09:34241
臺(tái)積電沖刺2nm量產(chǎn),2nm先進(jìn)制程決戰(zhàn)2025
人員接手試產(chǎn)及量產(chǎn)作業(yè)的種子團(tuán)隊(duì),推動(dòng)新竹寶山和高雄廠于 2024年同步南北試產(chǎn)、2025年量產(chǎn)。 ? 從1971的10000nm制程到5nm,從5nm向3nm、2nm發(fā)展和演進(jìn),芯片制造領(lǐng)域制程工藝的角逐從來(lái)未曾停歇,到現(xiàn)在2nm芯片大戰(zhàn)已經(jīng)全面打響。 ? 先進(jìn)制程工藝演
2023-08-20 08:32:072090
評(píng)論
查看更多